CN106646975A - 一种显示面板、显示装置及显示面板的制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种显示面板、显示装置及显示面板的制作方法。显示面板包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板,其中:阵列基板位于彩膜基板的前侧,包括保护盖板、位于保护盖板靠近彩膜基板一侧的第一黑矩阵,以及位于第一黑矩阵靠近彩膜基板一侧的薄膜晶体管和金属走线,第一黑矩阵遮挡薄膜晶体管和金属走线。相比现有技术,该方案提高了显示面板的结构强度,实现了显示装置的超薄和窄边框设计。

Description

一种显示面板、显示装置及显示面板的制作方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域,特别是涉及一种显示面板、显示装置及显示面板的制作方法。
背景技术
在平板显示装置中,薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor LiquidCrystal Display,TFT-LCD)具有体积小、功耗低、制造成本相对较低和无辐射等特点,在当前的平板显示器市场占据了主导地位。
如图1所示,作为TFT-LCD的主要部件之一,显示面板的结构通常包括:相对设置的阵列基板60与彩膜基板70、粘附于阵列基板和彩膜基板之间的封框胶,以及填充于阵列基板、彩膜基板和封框胶所形成的盒状结构内的液晶层。现有技术中,彩膜基板通常位于靠近观看者的一侧,并且显示面板在彩膜基板朝向观看者的一侧一般设置有起防护作用的盖板玻璃80。
现有技术存在的缺陷在于,彩膜基板与盖板玻璃之间需要通过光学胶粘接,这样一方面增加了显示面板的厚度,另一方面光学胶贴合过程中较易出现气泡,影响产品的良率;此外,为了保证显示画面的完整性,盖板玻璃的四周往往超出显示面板的显示区域,这样不利于实现显示装置的窄边框设计;以及,现有技术中由于阵列基板和彩膜基板的衬底基板的厚度越来越薄,导致显示面板的结构强度难以保证。
发明内容
本发明实施例的目的是提供一种显示面板、显示装置及显示面板的制作方法,以提高显示面板的结构强度,实现显示装置的超薄和窄边框设计。
本发明实施例提供了一种显示面板,包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板,其中:
所述阵列基板位于彩膜基板的前侧,包括保护盖板、位于保护盖板靠近彩膜基板一侧的第一黑矩阵,以及位于第一黑矩阵靠近彩膜基板一侧的薄膜晶体管和金属走线,所述第一黑矩阵遮挡所述薄膜晶体管和金属走线。
在本发明实施例的技术方案中,阵列基板位于彩膜基板的前侧,并利用较厚的保护盖板作为阵列基板的衬底基板,这样,一方面提高了显示面板的结构强度,另一方面,相比现有技术中利用光学胶将保护盖板粘接于彩膜基板的前侧,也减小了显示面板的厚度,并且保护盖板的可视区域即为显示面板的显示区域,这样有利于实现显示装置的窄边框设计,因此,该方案提高了显示面板的结构强度,实现了显示装置的超薄和窄边框设计。
优选的,所述阵列基板还包括位于所述第一黑矩阵与薄膜晶体管和金属走线之间的绝缘层。第一黑矩阵的阻抗较低,设置绝缘层可以防止第一黑矩阵与薄膜晶体管和金属走线导通,提高了显示装置的可靠性。
优选的,所述彩膜基板包括衬底基板、位于衬底基板靠近阵列基板一侧的彩色光阻,以及位于彩色光阻靠近阵列基板一侧的隔垫物,所述彩色光阻与第一黑矩阵界定出的透光区位置相对,所述第一黑矩阵还遮挡所述隔垫物。当阵列基板位于彩膜基板的前侧时,第一黑矩阵遮挡隔垫物可以避免隔垫物的位置产生漏光。
更优的,所述彩膜基板还包括位于衬底基板靠近阵列基板一侧的第二黑矩阵,所述彩色光阻位于第二黑矩阵界定出的透光区内,所述第二黑矩阵还遮挡所述隔垫物。采用该技术方案,能够减少相邻彩色光阻之间发生串色,提高了显示装置的显示效果。
可选的,显示面板还包括位于所述保护盖板远离彩膜基板一侧的第一偏光片,以及位于所述第一偏光片远离彩膜基板一侧的防爆玻璃。利用防爆玻璃可以避免第一偏光片裸露于表面时由于划伤、破损翘起等引起的显示装置显示不良情况发生,提高了显示装置的可靠性,防爆玻璃的厚度相对来说较薄,因此该方案显示面板的厚度相比现有技术依然明显减薄。
可选的,显示面板还包括位于所述保护盖板远离彩膜基板一侧的防爆偏光片。防爆偏光片既可以保证显示装置呈亮态显示,又能避免由于划伤、破损翘起等引起的显示装置显示不良情况发生。
优选的,所述金属走线的截面形状和薄膜晶体管各膜层的截面形状为梯形,底角为40°~50°。薄膜晶体管各膜层的截面梯形底角越小,即膜层的坡度角越小,越有利于薄膜晶体管的膜层的稳定性。例如,薄膜晶体管的栅极层的坡度角越小,当在栅极层之上形成栅极绝缘层时,栅极绝缘层在具有坡度的位置能够更加完整均匀的覆盖栅极层。
本发明实施例还提供了一种显示装置,包括上述任一技术方案所述的显示面板。该显示装置实现了超薄和窄边框设计。
本发明实施例还提供了一种显示面板的制作方法,包括制作阵列基板的步骤和制作彩膜基板的步骤,所述制作阵列基板的步骤包括:
在保护盖板靠近彩膜基板的一侧形成第一黑矩阵,在第一黑矩阵靠近彩膜基板的一侧形成薄膜晶体管和金属走线,所述第一黑矩阵遮挡所述薄膜晶体管和金属走线。
在本发明实施例的技术方案中,阵列基板位于彩膜基板的前侧,并利用较厚的保护盖板作为阵列基板的衬底基板,这样,一方面提高了显示面板的结构强度,另一方面,相比现有技术中利用光学胶将保护盖板粘接于彩膜基板的前侧,也减小了显示面板的厚度,并且保护盖板的可视区域即为显示面板的显示区域,这样有利于实现显示装置的窄边框设计,因此,该方案提高了显示面板的结构强度,实现了显示装置的超薄和窄边框设计。
优选的,所述制作彩膜基板的步骤包括:
在衬底基板靠近阵列基板的一侧形成彩色光阻,在彩色光阻靠近阵列基板的一侧形成隔垫物,所述彩色光阻与第一黑矩阵界定出的透光区位置相对,所述第一黑矩阵还遮挡所述隔垫物。
附图说明
图1为现有技术显示面板的结构示意图;
图2为本发明实施例显示面板的结构示意图;
图3为本发明实施例显示装置的结构示意图;
图4为本发明实施例阵列基板的局部结构示意图;
图5为本发明实施例显示面板的制作流程图。
附图标记:
现有技术部分:
60-阵列基板 70-彩膜基板 80-盖板玻璃
本发明实施例部分
10-阵列基板 20-彩膜基板 11-保护盖板 12-第一黑矩阵
13-金属走线 14-配向膜 15-绝缘层 21-衬底基板
22-彩色光阻 23-隔垫物 24-封框胶 25-集成电路
26-柔性电路板 27-第二黑矩阵 30-第一偏光片 40-防爆玻璃
50-第二偏光片
具体实施方式
为提高显示面板的结构强度,实现显示装置的超薄和窄边框设计,本发明实施例提供了一种显示面板、显示装置及显示面板的制作方法。为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚,以下举实施例对本发明作进一步详细说明。
如图2所示,本发明实施例提供的显示面板包括对盒设置的阵列基板10和彩膜基板20,其中:
阵列基板10位于彩膜基板20的前侧,包括保护盖板11、位于保护盖板11靠近彩膜基板20一侧的第一黑矩阵12,以及位于第一黑矩阵12靠近彩膜基板20一侧的薄膜晶体管和金属走线13,第一黑矩阵遮12挡薄膜晶体管和金属走线13。
在本发明实施例的技术方案中,阵列基板10位于彩膜基板20的前侧,并利用较厚的保护盖板11作为阵列基板10的衬底基板,这样,一方面提高了显示面板的结构强度,另一方面,相比现有技术中利用光学胶将保护盖板11粘接于彩膜基板20的前侧,也减小了显示面板的厚度,并且保护盖板11的可视区域即为显示面板的显示区域,这样有利于实现显示装置的窄边框设计,因此,该方案提高了显示面板的结构强度,实现了显示装置的超薄和窄边框设计。
如图4所示,在本发明的优选实施例中,阵列基板还包括位于第一黑矩阵12与薄膜晶体管和金属走线13之间的绝缘层15。第一黑矩阵12的阻抗较低,设置绝缘层15可以防止第一黑矩阵12与薄膜晶体管和金属走线13导通,提高了显示装置的可靠性。
如图2所示,优选的,彩膜基板20包括衬底基板21、位于衬底基板21靠近阵列基板10一侧的彩色光阻22,以及位于彩色光阻22靠近阵列基板10一侧的隔垫物23,彩色光阻22与第一黑矩阵12界定出的透光区位置相对,第一黑矩阵12还遮挡隔垫物23。当阵列基板10位于彩膜基板20的前侧时,第一黑矩阵12遮挡隔垫物23可以避免隔垫物23的位置产生漏光。
更优的,请继续参考图2所示,彩膜基板20还包括位于衬底基板21靠近阵列基板10一侧的第二黑矩阵27,彩色光阻22位于第二黑矩阵27界定出的透光区内,第二黑矩阵27还遮挡隔垫物23。采用该技术方案,能够减少相邻彩色光阻22之间发生串色,提高了显示装置的显示效果。并且,由于设置了第一黑矩阵12,第二黑矩阵27的宽度相比第一黑矩阵12可明显收窄,以提高光线利用率。
彩色光阻22包括红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻,彩色光阻22的材质可以为树脂绝缘材料。值得一提的是,在液晶显示领域中,彩色光阻22并不限于RGB(Red Green Blue,红绿蓝)三色,还可以为RGBW(Red Green Blue White,红绿蓝白)、RGBY(Red Green BlueYellow,红绿蓝黄)和CMYK(Cyan Magenta Yellow Black,青品红黄黑)等多种颜色组合。
如图3所示,在本发明的一个优选实施例中,显示面板还包括位于保护盖板11远离彩膜基板20一侧的第一偏光片30,以及位于第一偏光片30远离彩膜基板20一侧的防爆玻璃40。利用防爆玻璃40可以避免第一偏光片30裸露于表面时由于划伤、破损翘起等引起的显示装置显示不良情况发生,提高了显示装置的可靠性,防爆玻璃40的厚度相对来说较薄,因此该方案显示面板的厚度相比现有技术依然明显减薄。
在本发明的另一优选实施例中,显示面板还包括位于保护盖板远离彩膜基板一侧的防爆偏光片。防爆偏光片既可以保证显示装置呈亮态显示,又能避免由于划伤、破损翘起等引起的显示装置显示不良情况发生。
此外,显示面板还包括位于彩膜基板20远离阵列基板10一侧的第二偏光片50。
如图4所示,在本发明的优选实施例中,当阵列基板位于彩膜基板的前侧时,金属走线13的截面形状和薄膜晶体管各膜层的截面形状为倒梯形,并且倒梯形的底角α为40°~50°。截面倒梯形的底角越小,即膜层的坡度角越小,越有利于金属走线13和薄膜晶体管的膜层的稳定性。例如,薄膜晶体管的栅极层的坡度角越小,当在栅极层之上形成栅极绝缘层时,栅极绝缘层在具有坡度的位置能够更加完整均匀的覆盖栅极层。
本发明实施例还提供了一种显示装置,包括上述任一技术方案的显示面板。该显示装置实现了超薄和窄边框设计。显示装置的具体类型不限,例如可以为液晶电视机、液晶显示器、平板电脑、手机、笔记本电脑等等。
本发明实施例还提供了一种显示面板的制作方法,包括制作阵列基板的步骤和制作彩膜基板的步骤,制作阵列基板的步骤包括:
在保护盖板靠近彩膜基板的一侧形成第一黑矩阵,在第一黑矩阵靠近彩膜基板的一侧形成薄膜晶体管和金属走线,第一黑矩阵遮挡薄膜晶体管和金属走线。
在本发明实施例的技术方案中,阵列基板位于彩膜基板的前侧,并利用较厚的保护盖板作为阵列基板的衬底基板,这样,一方面提高了显示面板的结构强度,另一方面,相比现有技术中利用光学胶将保护盖板粘接于彩膜基板的前侧,也减小了显示面板的厚度,并且保护盖板的可视区域即为显示面板的显示区域,这样有利于实现显示装置的窄边框设计,因此,该方案提高了显示面板的结构强度,实现了显示装置的超薄和窄边框设计。
基板上各膜层的图形通常采用构图工艺制作形成,一次构图工艺通常包括基板清洗、成膜、光刻胶涂覆、曝光、显影、刻蚀、光刻胶剥离等工序;对于金属层通常采用物理气相沉积方式(例如磁控溅射法)成膜,通过湿法刻蚀形成图形,而对于非金属层通常采用化学气相沉积方式成膜,通过干法刻蚀形成图形。
优选的,制作彩膜基板的步骤包括:
在衬底基板靠近阵列基板的一侧形成彩色光阻,在彩色光阻靠近阵列基板的一侧形成隔垫物,彩色光阻与第一黑矩阵界定出的透光区位置相对,第一黑矩阵还遮挡隔垫物。
如图2至图5所示,本发明实施例的显示面板的制作流程具体为:
对保护盖板11进行化学强化,保护盖板11需在温度高达400℃的硝酸钾溶液中进行化学强化,成品的显示面板在该温度下会遭到损坏,因此需在制作前对保护盖板11进行强化;
制作阵列基板10:在保护盖板11靠近彩膜基板20的一侧形成第一黑矩阵12,在第一黑矩阵12靠近彩膜基板20的一侧形成薄膜晶体管和金属走线13,第一黑矩阵遮挡薄膜晶体管和金属走线13;
制作彩膜基板20:在衬底基板21靠近阵列基板10的一侧形成彩色光阻22,在彩色光阻22靠近阵列基板10的一侧形成隔垫物23,彩色光阻22与第一黑矩阵12界定出的透光区位置相对,第一黑矩阵12还遮挡隔垫物23;
在阵列基板10靠近彩膜基板20的一侧进行配向膜14涂覆,以及在彩膜基板20靠近阵列基板10的一侧进行配向膜14涂覆;
在阵列基板10和彩膜基板20对盒并在边缘位置粘接封框胶24,向盒状结构内注入液晶;
对面板进行第一次切割,得到若干个小尺寸面板;
对小尺寸面板进行非对称性减薄至要求厚度;
对减薄后的小尺寸面板进行第二次切割,得到所需尺寸的显示面板,由于彩膜基板20的衬底基板21较薄,为了避免在切割过程中对小尺寸面板造成损坏,可以先对彩膜基板20一侧进行切割,然后再对阵列基板10一侧进行切割;
对阵列面板10的保护盖板11进行精密机械加工,例如侧边粗磨、听筒钻孔、精抛等;
对显示面板进行镀膜:包括增透射镀膜玻璃和防护层镀膜;
分别将集成电路25和柔性电路板26对位至显示面板的对应电极处进行绑定;
在阵列基板10远离彩膜基板20的一侧贴合第一偏光片30,在彩膜基板20远离阵列基板10的一侧贴合第二偏光片50;
在第一偏光片30远离彩膜基板20的一侧贴附防爆玻璃40。
显然,本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样,倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内,则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (10)

1.一种显示面板,其特征在于,包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板,其中:
所述阵列基板位于彩膜基板的前侧,包括保护盖板、位于保护盖板靠近彩膜基板一侧的第一黑矩阵,以及位于第一黑矩阵靠近彩膜基板一侧的薄膜晶体管和金属走线,所述第一黑矩阵遮挡所述薄膜晶体管和金属走线。
2.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述阵列基板还包括位于所述第一黑矩阵与薄膜晶体管和金属走线之间的绝缘层。
3.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述彩膜基板包括衬底基板、位于衬底基板靠近阵列基板一侧的彩色光阻,以及位于彩色光阻靠近阵列基板一侧的隔垫物,所述彩色光阻与第一黑矩阵界定出的透光区位置相对,所述第一黑矩阵还遮挡所述隔垫物。
4.如权利要求3所述的显示面板,其特征在于,所述彩膜基板还包括位于衬底基板靠近阵列基板一侧的第二黑矩阵,所述彩色光阻位于第二黑矩阵界定出的透光区内,所述第二黑矩阵还遮挡所述隔垫物。
5.如权利要求3所述的显示面板,其特征在于,还包括位于所述保护盖板远离彩膜基板一侧的第一偏光片,以及位于所述第一偏光片远离彩膜基板一侧的防爆玻璃。
6.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,还包括位于所述保护盖板远离彩膜基板一侧的防爆偏光片。
7.如权利要求1~6任一项所述的显示面板,其特征在于,所述金属走线的截面形状和薄膜晶体管各膜层的截面形状为梯形,底角为40°~50°。
8.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1~7任一项所述的显示面板。
9.一种显示面板的制作方法,包括制作阵列基板的步骤和制作彩膜基板的步骤,其特征在于,所述制作阵列基板的步骤包括:
在保护盖板靠近彩膜基板的一侧形成第一黑矩阵,在第一黑矩阵靠近彩膜基板的一侧形成薄膜晶体管和金属走线,所述第一黑矩阵遮挡所述薄膜晶体管和金属走线。
10.如权利要求9所述的显示面板的制作方法,其特征在于,所述制作彩膜基板的步骤包括:
在衬底基板靠近阵列基板的一侧形成彩色光阻,在彩色光阻靠近阵列基板的一侧形成隔垫物,所述彩色光阻与第一黑矩阵界定出的透光区位置相对,所述第一黑矩阵还遮挡所述隔垫物。
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