CN106635646A - 种曲培养环境控制方法、装置和种曲机 - Google Patents

种曲培养环境控制方法、装置和种曲机 Download PDF

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陈迪立
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NINGBO CHANGRONG BREWING EQUIPMENT CO., LTD.
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Ren Changying
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C12—BIOCHEMISTRY; BEER; SPIRITS; WINE; VINEGAR; MICROBIOLOGY; ENZYMOLOGY; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING
    • C12G—WINE; PREPARATION THEREOF; ALCOHOLIC BEVERAGES; PREPARATION OF ALCOHOLIC BEVERAGES NOT PROVIDED FOR IN SUBCLASSES C12C OR C12H
    • C12G3/00—Preparation of other alcoholic beverages
    • C12G3/02—Preparation of other alcoholic beverages by fermentation

Abstract

本申请公开了种曲培养环境控制方法、装置和种曲机，该方法包括：确定种曲当前所处的培养阶段；其中，所述种曲的培养过程划分为多个培养阶段，每一个培养阶段下都分配有种曲在本培养阶段生长所需的最佳种曲培养环境参数；从数据库中查询并调取种曲当前所处的培养阶段下的最佳种曲培养环境参数；获取种曲当前所处的培养阶段下的实际种曲培养环境参数；判断种曲当前所处的培养阶段下的实际种曲培养环境参数与最佳种曲培养环境参数之间的偏差是否超出第一预设范围；若是，调节种曲机的工作状态，直至所述偏差不超出第二预设范围；其中，所述第一预设范围包含所述第二预设范围，从而满足了种曲在不同生长阶段的培养环境需求。

Description

种曲培养环境控制方法、装置和种曲机
技术领域
本发明涉及自动化控制技术领域，更具体地说，涉及种曲培养环境控制方法、装置和种曲机。
背景技术
酱油、酒等在酿造生产过程中，需要利用种曲对原料进行分解。种曲质量的好坏，直接影响酿造成品的质量和原料利用率。
常用的种曲培养方法是在密闭的种曲机里面进行培养。种曲机给种曲的生长提供了一个稳定的温度、湿度和风量环境，并与外界空气隔绝，有利于种曲的生长且不会感染其他杂菌。
但是，种曲在各个生长阶段的生长规律不同，所需的种曲培养环境也会发生变化，而仅能提供单一种曲培养环境的种曲机显然不能给种曲生长创造最佳条件。
发明内容
有鉴于此，本发明提供了种曲培养环境控制方法、装置和种曲机，以满足种曲在不同生长阶段的培养环境需求。
一种种曲培养环境控制方法，包括：
确定种曲当前所处的培养阶段；其中，所述种曲的培养过程划分为多个培养阶段，每一个培养阶段下都分配有种曲在本培养阶段生长所需的最佳种曲培养环境参数；
从数据库中查询并调取种曲当前所处的培养阶段下的最佳种曲培养环境参数；
获取种曲当前所处的培养阶段下的实际种曲培养环境参数；
判断种曲当前所处的培养阶段下的实际种曲培养环境参数与最佳种曲培养环境参数之间的偏差是否超出第一预设范围；
若是，调节种曲机的工作状态，直至所述偏差不超出第二预设范围；其中，所述第一预设范围包含所述第二预设范围。
其中，所述第一预设范围与所述第二预设范围不同；所述偏差不超出第二预设范围，是指所述偏差为零。
可选地，所述种曲培养环境控制方法还包括：
当检测到种曲机中的热水罐和冷水罐的温度超过预设范围时，生成并发生警告信号。
一种种曲培养环境控制装置，包括：
采样单元，用于获取种曲当前所处的培养阶段下的实际种曲培养环境参数；
处理单元，用于确定种曲当前所处的培养阶段；其中，所述种曲的培养过程划分为多个培养阶段，每一个培养阶段下都分配有种曲在本培养阶段生长所需的最佳种曲培养环境参数；
所述处理单元还用于从数据库中查询并调取种曲当前所处的培养阶段下的最佳种曲培养环境参数；
所述处理单元还用于判断种曲当前所处的培养阶段下的实际种曲培养环境参数与最佳种曲培养环境参数之间的偏差是否超出第一预设范围；若是，调节种曲机的工作状态，直至所述偏差不超出第二预设范围；其中，所述第一预设范围包含所述第二预设范围。
其中，所述第一预设范围与所述第二预设范围不同；所述偏差不超出第二预设范围，是指所述偏差为零。
可选地，所述处理单元还用于在检测到种曲机中的热水罐和冷水罐的温度超过预设范围时，生成并发生警告信号。
一种种曲机，包括上述公开的任一种种曲培养环境控制装置。
从上述的技术方案可以看出，本发明将种曲的培养过程划分为多个培养阶段，并为每一个培养阶段一一分配好种曲在当前培养阶段生长所需的最佳种曲培养环境参数，这样就方便了种曲机在整个种曲培养过程的不同培养阶段下，都能够以当前培养阶段下的最佳种曲培养环境参数作为目标量，闭环调节当前的种曲培养环境，从而满足了种曲在不同生长阶段的培养环境需求。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例公开的一种种曲培养环境控制方法流程图；
图2为本发明实施例公开的一种种曲培养环境控制装置结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
由于种曲在各个生长阶段的生长规律不同，所需的温度、湿度和风量等种曲培养环境参数也会发生变化，所以本发明将种曲的培养过程划分为多个培养阶段，并为每一个培养阶段一一分配好种曲在当前培养阶段生长所需的最佳种曲培养环境参数，这样就方便了种曲机在整个种曲培养过程的不同培养阶段下，都能够以当前培养阶段下的最佳种曲培养环境参数作为目标量，闭环调节当前的种曲培养环境，从而满足了种曲在不同生长阶段的培养环境需求。
其中，每一个培养阶段下的种曲培养环境控制方法如图1所示，包括：
步骤S01：确定种曲当前所处的培养阶段。
具体的，在种曲的培养过程中，不同培养阶段所处的时段不同，前一培养阶段的结束时刻就是下一培养阶段的开始时刻，所以可以从进入第一培养阶段开始计时，从而根据计时器的当前值就可以确定种曲当前所处的培养阶段。在进入第一培养阶段前，工作人员利用人机交互设备(如触摸屏)将种曲的整个培养过程用时划分为多个时段，从而完成种曲培养过程的分段；同时，工作人员还利用所述人机交互设备设置每段分别对应的最佳种曲培养环境参数，供后续调取、利用。
步骤S02：从数据库中查询并调取种曲当前所处的培养阶段下的最佳种曲培养环境参数。
步骤S03：获取种曲当前所处的培养阶段下的实际种曲培养环境参数。
步骤S04：判断种曲当前所处的培养阶段下的实际种曲培养环境参数与最佳种曲培养环境参数之间的偏差是否超出第一预设范围；若是，进入步骤S05；否则，返回步骤S04；
步骤S05：调节种曲机的工作状态，直至所述偏差不超出第二预设范围；其中，所述第一预设范围包含所述第二预设范围。
举例说明，种曲当前所处的培养阶段下的实际种曲培养环境参数包括：料温设定32℃，风机频率35HZ，喷雾启动5min、停止10min。所述第一预设范围中针对料温参数的偏差限定为允许料温上下偏差为0.5℃，所述第二预设范围中针对料温参数的偏差限定为料温上下偏差为0℃。则当料温低于31.5℃时热循环开启，料温上升到32℃热循环关；当料温高于32.5℃时冷循环开启，料温下降到32℃时冷循环关；风机电机转动频率35HZ；喷雾喷开5min停10min。
其中，相较于设置所述第一预设范围和所述第二预设范围均为偏差为零(如针对料温参数的偏差限定均为料温上下偏差为0℃)，或者相较于设置所述第一预设范围和所述第二预设范围都为偏差不为零(如针对料温参数的偏差限定均为料温上下偏差为0.5℃)，本实施例设置所述第一预设范围与所述第二预设范围不同，并设置所述第二预设范围为偏差为零(如第一预设范围中针对料温参数的偏差限定为允许料温上下偏差为0.5℃，第二预设范围中针对料温参数的偏差限定为料温上下偏差为0℃)，可以避免频繁开启/关闭热循环和冷循环，又可以保证控制精度。
可选地，所述种曲培养环境控制方法还包括：当检测到种曲机中的热水罐和冷水罐的温度超过预设范围时，生成并发生警告信号。分析如下：热水罐和冷水罐是热/冷循环中的必要设备，将热水罐和冷水罐内的水温控制在一个合适的范围内，可确保对种曲培养环境控制的可靠性。
此外，参见图2，本发明实施例还公开了一种种曲培养环境控制装置，包括：
采样单元100，用于获取种曲当前所处的培养阶段下的实际种曲培养环境参数；
处理单元200，用于确定种曲当前所处的培养阶段；其中，所述种曲的培养过程划分为多个培养阶段，每一个培养阶段下都分配有种曲在本培养阶段生长所需的最佳种曲培养环境参数；
处理单元200还用于从数据库中查询并调取种曲当前所处的培养阶段下的最佳种曲培养环境参数；
处理单元200还用于判断种曲当前所处的培养阶段下的实际种曲培养环境参数与最佳种曲培养环境参数之间的偏差是否超出第一预设范围；若是，调节种曲机的工作状态，直至所述偏差不超出第二预设范围；其中，所述第一预设范围包含所述第二预设范围。
其中，所述第一预设范围与所述第二预设范围不同；所述偏差不超出第二预设范围，是指所述偏差为零。
可选地，处理单元200还用于在检测到种曲机中的热水罐和冷水罐的温度超过预设范围时，生成并发生警告信号。
此外，本发明实施例还公开了一种种曲机，包括上述公开的任一种种曲培养环境控制装置。
综上所述，本发明将种曲的培养过程划分为多个培养阶段，并为每一个培养阶段一一分配好种曲在当前培养阶段生长所需的最佳种曲培养环境参数，这样就方便了种曲机在整个种曲培养过程的不同培养阶段下，都能够以当前培养阶段下的最佳种曲培养环境参数作为目标量，闭环调节当前的种曲培养环境，从而满足了种曲在不同生长阶段的培养环境需求。
本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。对于实施例公开的装置而言，由于其与实施例公开的方法相对应，所以描述的比较简单，相关之处参见方法部分说明即可。
对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明实施例的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明实施例将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (7)

1.一种种曲培养环境控制方法，其特征在于，包括：
确定种曲当前所处的培养阶段；其中，所述种曲的培养过程划分为多个培养阶段，每一个培养阶段下都分配有种曲在本培养阶段生长所需的最佳种曲培养环境参数；
从数据库中查询并调取种曲当前所处的培养阶段下的最佳种曲培养环境参数；
获取种曲当前所处的培养阶段下的实际种曲培养环境参数；
判断种曲当前所处的培养阶段下的实际种曲培养环境参数与最佳种曲培养环境参数之间的偏差是否超出第一预设范围；
若是，调节种曲机的工作状态，直至所述偏差不超出第二预设范围；其中，所述第一预设范围包含所述第二预设范围。
2.根据权利要求1所述的种曲培养环境控制方法，其特征在于：所述第一预设范围与所述第二预设范围不同；所述偏差不超出第二预设范围，是指所述偏差为零。
3.根据权利要求1所述的种曲培养环境控制方法，其特征在于，所述种曲培养环境控制方法还包括：
当检测到种曲机中的热水罐和冷水罐的温度超过预设范围时，生成并发生警告信号。
4.一种种曲培养环境控制装置，其特征在于，包括：
采样单元，用于获取种曲当前所处的培养阶段下的实际种曲培养环境参数；
处理单元，用于确定种曲当前所处的培养阶段；其中，所述种曲的培养过程划分为多个培养阶段，每一个培养阶段下都分配有种曲在本培养阶段生长所需的最佳种曲培养环境参数；
所述处理单元还用于从数据库中查询并调取种曲当前所处的培养阶段下的最佳种曲培养环境参数；
所述处理单元还用于判断种曲当前所处的培养阶段下的实际种曲培养环境参数与最佳种曲培养环境参数之间的偏差是否超出第一预设范围；若是，调节种曲机的工作状态，直至所述偏差不超出第二预设范围；其中，所述第一预设范围包含所述第二预设范围。
5.根据权利要求4所述的种曲培养环境控制装置，其特征在于：所述第一预设范围与所述第二预设范围不同；所述偏差不超出第二预设范围，是指所述偏差为零。
6.根据权利要求4所述的种曲培养环境控制装置，其特征在于，所述处理单元还用于在检测到种曲机中的热水罐和冷水罐的温度超过预设范围时，生成并发生警告信号。
7.一种种曲机，其特征在于，包括权利要求4-6中任一项所述的种曲培养环境控制装置。
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