CN106601771A - 柔性基板及其制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种柔性基板及其制作方法。该柔性基板分为第一有机材料层(21)及第二有机材料层(22)，且第二有机材料层(22)在承载基板(1)上的覆盖面积大于第一有机材料层(21)在承载基板(1)上的覆盖面积，第二有机材料层(22)的长边边缘包围第一有机材料层(21)的长边边缘，能够降低柔性基板边缘的厚度，避免边缘处的刻蚀残留；减小有机材料在承载基板上的覆盖面积，降低柔性基板的翘曲度；另外，于第二有机材料层(22)的长边边缘与第一有机材料层(21)的长边边缘之间在第二有机材料层(22)上设置对位标记(3)，能保证后续蒸镀等制程的对位精度，且由于对位标记(3)处仅存在一层有机材料，光穿透率增大，对位成功率提高。

Description

柔性基板及其制作方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种柔性基板及其制作方法。
背景技术
有机发光二极管显示器件(Organic Light Emitting Display，OLED)OLED是一种极具发展前景的显示技术，它不仅具有十分优异的显示性能，还具有自发光、结构简单、超轻薄、响应速度快、宽视角、低功耗及可实现柔性显示等特性，被誉为“梦幻显示器”，得到了各大显示器厂家的青睐，已成为显示技术领域中第三代显示器件的主力军。
柔性的OLED显示器件需要在基板上制作出呈阵列式分布的像素结构，每一像素结构一般包括薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)、电容等元件。
目前，OLED柔性显示器件一般是基于有机材料基板上制备的，有机材料基板置于承载用的玻璃基板上。有机材料基板与承载用的玻璃基板特性存在差异，且在制作低温多晶硅(Low Temperature Poly-silicon，LTPS)材料的OLED柔性显示器时需经过准分子激光退火(Excimer Laser Annealing，ELA)、氢活化等高温制程，柔性的有机材料基板会产生一定的膜缩，因此需要将各类对位标记(Mark)制作在有机材料基板上，以保证后续制程(如OLED蒸镀对位)的对位精度。但是，有机材料基板在承载用玻璃基板上的覆盖面积越大，在阵列制程中有机材料基板产生的翘曲度越大，生产良率越低，因此，我们需要在保证各类对位Mark制作在有机材料基板上的同时尽可能减小其在承载用玻璃基板上的覆盖面积。
以实际生产中版图设计与设备规格为依据，以距基板边缘最近的系列Mark中的OLED蒸镀对位Mark为例，由于柔性的有机材料基板所使用有机材料的粘度系数较大，柔性的有机材料基板边缘会形成很陡的角度，导致此位置易造成刻蚀残留等现象，且由于现在LTPS材料的OLED柔性显示器件中的柔性有机材料基板多采用有色耐高温有机材料，在蒸镀对位时，对位光源从柔性有机材料基板背面射入，穿过有色的柔性有机材料基板，会造成光的损失，降低对位Mark的光反射率，影响对位成功率。
发明内容
本发明的目的在于提供一种柔性基板，能够提高对位精度和产品良率，增大光穿透率，提高对位成功率，降低翘曲度，避免边缘出现刻蚀残留。
本发明的另一目的在于提供一种柔性基板的制作方法，由该方法制作的柔性基板对位精度和产品良率较高，光穿透率较大，对位成功率高，翘曲度较低，边缘出现刻蚀残留的现象较少。
为实现上述目的，本发明首先提供一种柔性基板，包括铺设在承载基板上的第一有机材料层、及完全覆盖第一有机材料层的第二有机材料层；第二有机材料层在承载基板上的覆盖面积大于第一有机材料层在承载基板上的覆盖面积，第二有机材料层的长边边缘包围第一有机材料层的长边边缘。
所述第二有机材料层的长边边缘与第一有机材料层相应长边边缘的距离不小于3mm。
所述第二有机材料层于其长边边缘与第一有机材料层的长边边缘之间设置对位标记。
所述承载基板为玻璃基板。
所述第一有机材料层与第二有机材料层的材质均为聚酰亚胺。
本发明还提供一种柔性基板的制作方法，包括如下步骤：
步骤S1、提供承载基板，在所述承载基板上涂布第一有机材料层并固化；
步骤S2、在第一有机材料层与承载基板上涂布第二有机材料层并固化；
第二有机材料层完全覆盖第一有机材料层；第二有机材料层在承载基板上的覆盖面积大于第一有机材料层在承载基板上的覆盖面积，第二有机材料层的长边边缘包围第一有机材料层的长边边缘。
所述柔性基板的制作方法还包括：
步骤S3、在所述第二有机材料层与承载基板上沉积阻隔层；
以及步骤S4、于阵列制程中，在所述第二有机材料层的长边边缘与第一有机材料层的长边边缘之间在第二有机材料层上制作对位标记。
所述第二有机材料层的长边边缘与第一有机材料层相应长边边缘的距离不小于3mm。
所述承载基板为玻璃基板。
所述第一有机材料层与第二有机材料层的材质均为聚酰亚胺。
本发明的有益效果：本发明提供的一种柔性基板，将柔性基板分为第一有机材料层及第二有机材料层，且第二有机材料层在承载基板上的覆盖面积大于第一有机材料层在承载基板上的覆盖面积，第二有机材料层的长边边缘包围第一有机材料层的长边边缘，能够降低柔性基板边缘的厚度，避免边缘处的刻蚀残留；减小有机材料在承载基板上的覆盖面积，降低柔性基板的翘曲度；另外，于第二有机材料层的长边边缘与第一有机材料层的长边边缘之间在第二有机材料层上设置对位标记，在柔性基板产生膜缩的情况下，仍能保证后续蒸镀等制程的对位精度，且由于对位标记处仅存在一层有机材料，光穿透率增大，提高了对位标记的反射率，对位成功率提高。本发明提供的一种柔性基板的制作方法，将柔性基板分两层涂布，由该方法制作的柔性基板对位精度和产品良率较高，光穿透率较大，对位成功率高，翘曲度较低，边缘出现刻蚀残留的现象较少。
附图说明
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。
附图中，
图1为本发明的柔性基板的主视图；
图2为本发明的柔性基板的1/4面积的俯视图；
图3为本发明的柔性基板的制作方法的流程图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
请同时参阅图1与图2，本发明首先提供一种柔性基板，包括铺设在承载基板1上的第一有机材料层21、及完全覆盖第一有机材料层21的第二有机材料层22。第二有机材料层22在承载基板1上的覆盖面积大于第一有机材料层21在承载基板1上的覆盖面积，第二有机材料层22的长边边缘包围第一有机材料层21的长边边缘。
具体地，所述承载基板1优选为玻璃基板；所述第一有机材料层21与第二有机材料层22的材质均可以但不限于为聚酰亚胺(Polymide，PI)。
第二有机材料层22的长边边缘与第一有机材料层21相应长边边缘的距离不小于3mm，这样的设置能够降低柔性基板边缘的厚度，避免柔性基板边缘处出现刻蚀残留，同时能够减小有机材料在承载基板1上的覆盖面积，降低柔性基板的翘曲度。
值得注意的是：所述第二有机材料层22于其长边边缘与第一有机材料层21的长边边缘之间设置对位标记3，该对位标记3与第一有机材料层21在垂直于承载基板1的方向上没有重叠。在柔性基板产生膜缩的情况下，对位标记3的存在仍能保证后续蒸镀等制程的对位精度，且由于对位标记3处仅存在一层有机材料，光穿透率增大，提高了对位标记3的反射率，对位成功率提高。
请参阅图3，结合图1与图2，本发明还提供一种柔性基板的制作方法，包括如下步骤：
步骤S1、提供承载基板1，在所述承载基板1上涂布第一有机材料层21并固化。
具体地，所述承载基板1优选为玻璃基板；所述第一有机材料层21的材质可以但不限于为PI。
步骤S2、在第一有机材料层21与承载基板1上涂布第二有机材料层22并固化。
具体地，所述第二有机材料层22的材质可以但不限于为PI。
第二有机材料层22完全覆盖第一有机材料层21；第二有机材料层22在承载基板1上的覆盖面积大于第一有机材料层21在承载基板1上的覆盖面积，第二有机材料层22的长边边缘包围第一有机材料层21的长边边缘。进一步地，第二有机材料层22的长边边缘与第一有机材料层21相应长边边缘的距离不小于3mm，以保证后续步骤制作对位标记3的区域平坦。
步骤S3、在所述第二有机材料层22与承载基板1上沉积阻隔层。
以及步骤S4、于阵列(Array)制程中，在所述第二有机材料层22的长边边缘与第一有机材料层21的长边边缘之间在第二有机材料层22上制作对位标记3。
具体地：所述对位标记3采用黑色遮光材料。所述对位标记3仅制作在第二有机材料层22上，与第一有机材料层21在垂直于承载基板1的方向上没有重叠。
通过该方法制得的柔性基板包括第一有机材料层21、及完全覆盖第一有机材料层21的第二有机材料层22，能够降低柔性基板边缘的厚度，避免柔性基板边缘处出现刻蚀残留，同时能够减小有机材料在承载基板1上的覆盖面积，降低柔性基板的翘曲度；在柔性基板产生膜缩的情况下，对位标记3的存在仍能保证后续蒸镀等制程的对位精度，且由于对位标记3处仅存在一层有机材料，光穿透率增大，提高了对位标记3的反射率及对位成功率。
综上所述，本发明的柔性基板，将柔性基板分为第一有机材料层及第二有机材料层，且第二有机材料层在承载基板上的覆盖面积大于第一有机材料层在承载基板上的覆盖面积，第二有机材料层的长边边缘包围第一有机材料层的长边边缘，能够降低柔性基板边缘的厚度，避免边缘处的刻蚀残留；减小有机材料在承载基板上的覆盖面积，降低柔性基板的翘曲度；另外，于第二有机材料层的长边边缘与第一有机材料层的长边边缘之间在第二有机材料层上设置对位标记，在柔性基板产生膜缩的情况下，仍能保证后续蒸镀等制程的对位精度，且由于对位标记处仅存在一层有机材料，光穿透率增大，提高了对位标记的反射率及对位成功率。本发明的柔性基板的制作方法，将柔性基板分两层涂布，由该方法制作的柔性基板对位精度和产品良率较高，光穿透率较大，对位成功率高，翘曲度较低，边缘出现刻蚀残留的现象较少。
以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明后附的权利要求的保护范围。

Claims (10)

1.一种柔性基板，其特征在于，包括铺设在承载基板(1)上的第一有机材料层(21)、及完全覆盖第一有机材料层(21)的第二有机材料层(22)；第二有机材料层(22)在承载基板(1)上的覆盖面积大于第一有机材料层(21)在承载基板(1)上的覆盖面积，第二有机材料层(22)的长边边缘包围第一有机材料层(21)的长边边缘。
2.如权利要求1所述的柔性基板，其特征在于，所述第二有机材料层(22)的长边边缘与第一有机材料层(21)相应边缘的距离不小于3mm。
3.如权利要求1所述的柔性基板，其特征在于，所述第二有机材料层(22)于其长边边缘与第一有机材料层(21)的相应边缘之间设置对位标记(3)。
4.如权利要求1所述的柔性基板，其特征在于，所述承载基板(1)为玻璃基板。
5.如权利要求1所述的柔性基板，其特征在于，所述第一有机材料层(21)与所述第二有机材料层(22)的材质均为聚酰亚胺。
6.一种柔性基板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤S1、提供承载基板(1)，在所述承载基板(1)上涂布第一有机材料层(21)并固化；
步骤S2、在第一有机材料层(21)与承载基板(1)上涂布第二有机材料层(22)并固化；
第二有机材料层(22)完全覆盖第一有机材料层(21)；第二有机材料层(22)在承载基板(1)上的覆盖面积大于第一有机材料层(21)在承载基板(1)上的覆盖面积，第二有机材料层(22)的长边边缘包围第一有机材料层(21)的长边边缘。
7.如权利要求6所述的柔性基板的制作方法，其特征在于，还包括：
步骤S3、在所述第二有机材料层(22)与承载基板(1)上沉积阻隔层；
以及步骤S4、于阵列制程中，在所述第二有机材料层(22)的长边边缘与第一有机材料层(21)的长边边缘之间在第二有机材料层(22)上制作对位标记(3)。
8.如权利要求6所述的柔性基板的制作方法，其特征在于，所述第二有机材料层(22)的长边边缘与第一有机材料层(21)相应长边边缘的距离不小于3mm。
9.如权利要求6所述的柔性基板的制作方法，其特征在于，所述承载基板(1)为玻璃基板。
10.如权利要求6所述的柔性基板的制作方法，其特征在于，所述第一有机材料层(21)与所述第二有机材料层(22)的材质均为聚酰亚胺。
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