CN106590440A - 一种抛光剂及其制备方法 - Google Patents

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田绍洁
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    • C09G1/00—Polishing compositions
    • C09G1/02—Polishing compositions containing abrasives or grinding agents

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract

本发明涉及一种抛光剂及其制备方法，属于金属表面加工领域。本发明所述抛光剂为综合抛光剂，其包含了化学抛光和机械抛光的功能，其机械抛光功能组分为SiC颗粒、AlN颗粒、金刚石颗粒，且所述SiC颗粒、AlN颗粒、金刚石颗粒的平均粒径0.1～10微米，且圆球度大于0.90。上述组分具有强度高的特点，同时要求抛光颗粒具有较高的圆球度，大大减少了表面的亚损伤。另一方面，化学抛光功能组分可以进一步消除由机械加工所带来的损伤。利用本发明提供的抛光剂进行不锈钢表面的抛光，可以提高30％以上的抛光效率，获得表面粗糙度小于0.045Ra的光滑表面。

Description

一种抛光剂及其制备方法
技术领域
本发明涉及一种抛光剂及其制备方法，属于金属表面加工领域。
背景技术
抛光是指利用机械、化学或电化学的作用，使工件表面粗糙度降低，以获得光亮、平整表面的加工方法。是利用抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对工件表面进行的修饰加工。
抛光不能提高工件的尺寸精度或几何形状精度，而是以得到光滑表面或镜面光泽为目的，有时也用以消除光泽(消光)。通常以抛光轮作为抛光工具。抛光轮一般用多层帆布、毛毡或皮革叠制而成，两侧用金属圆板夹紧，其轮缘涂敷由微粉磨料和油脂等均匀混合而成的抛光剂。化学抛光是金属表面通过有规则溶解达到光亮平滑。在化学抛光可以填充表面毛孔、划痕以及其它表面缺陷，从而提高疲劳阻力、腐蚀阻力。机械抛光。机械抛光是依靠非常细小的抛光粉的磨削、滚压作用，除去试样磨面上的极薄一层金属。
化学抛光和机械抛光各有利弊，如化学抛光较适用于复杂表面的抛光，但是对金属表面具有一定的腐蚀作用；而机械抛光更适用于大而平的表面，但是机械抛光会带来一定程度的亚表面损伤。
发明内容
本发明的目的是提供一种抛光剂，以解决上述问题。
一种抛光剂，所述抛光剂按质量百分比，由10～25％固相组分与75％～90％液相组分组成，其中，
所述固相组分按重量份，由下述组分组成：
SiC颗粒 10～30
AlN颗粒 20～55
金刚石颗粒 30～60
所述SiC颗粒、AlN颗粒、金刚石颗粒的平均粒径0.1～10微米，且圆球度大于0.90；
所述液相组分按组分浓度，由下述组分组成：
本发明所述抛光剂优选所述SiC颗粒、AlN颗粒、金刚石颗粒的平均粒径2～5微米，且圆球度为0.90～0.95。
本发明所述抛光剂优选所述固相组分按重量份，由下述组分组成：
SiC颗粒 25
AlN颗粒 20
金刚石颗粒 55。
本发明所述抛光剂优选所述液相组分按组分浓度，由下述组分组成：
本发明的另一目的是提供上述抛光剂的制备方法。
一种抛光剂的制备方法，是将磷酸、硝酸钠、尿素和硫酸钠按各自的浓度配比配置成溶液；将SiC颗粒、AlN颗粒、金刚石颗粒置于上述混合溶液中，超声分散，分散时间10～60min。
本发明的有益效果为：本发明所述抛光剂为综合抛光剂，其包含了化学抛光和机械抛光的功能，其机械抛光功能组分为SiC颗粒、AlN颗粒、金刚石颗粒，且所述SiC颗粒、AlN颗粒、金刚石颗粒的平均粒径0.1～10微米，且圆球度大于0.90。上述组分具有强度高的特点，同时要求抛光颗粒具有较高的圆球度，大大减少了表面的亚损伤。另一方面，化学抛光功能组分可以进一步消除由机械加工所带来的损伤。利用本发明提供的抛光剂进行不锈钢表面的抛光，可以提高30％以上的抛光效率，获得表面粗糙度小于0.045Ra的光滑表面。
具体实施方式
下述非限制性实施例可以使本领域的普通技术人员更全面地理解本发明，但不以任何方式限制本发明。
下述实施例中所述试验方法，如无特殊说明，均为常规方法；所述试剂和材料，如无特殊说明，均可从商业途径获得。
实施例1
一种抛光剂，所述抛光剂按质量百分比，由15％固相组分与85％液相组分组成，其中，
所述固相组分按重量份，由下述组分组成：
SiC颗粒 25
AlN颗粒 20
金刚石颗粒 55
所述SiC颗粒、AlN颗粒、金刚石颗粒的平均粒径5～10微米，且圆球度为0.90～0.95；
所述液相组分按组分浓度，由下述组分组成：
一种抛光剂的制备方法，是将磷酸、硝酸钠、尿素和硫酸钠按各自的浓度配比配置成溶液；将SiC颗粒、AlN颗粒、金刚石颗粒置于上述混合溶液中，超声分散，分散时间10min。
于机械抛光设备中，利用上述抛光剂对不锈钢表面进行抛光，抛光条件：温度25℃，处理时间15min，转速800r/min；所得不锈钢表面粗糙度小于0.045Ra。
实施例2
一种抛光剂，所述抛光剂按质量百分比，由10％固相组分与90％液相组分组成，其中，
所述固相组分按重量份，由下述组分组成：
SiC颗粒 30
AlN颗粒 40
金刚石颗粒 30
所述SiC颗粒、AlN颗粒、金刚石颗粒的平均粒径2～5微米，且圆球度为0.90～0.95；
所述液相组分按组分浓度，由下述组分组成：
一种抛光剂的制备方法，是将磷酸、硝酸钠、尿素和硫酸钠按各自的浓度配比配置成溶液；将SiC颗粒、AlN颗粒、金刚石颗粒置于上述混合溶液中，超声分散，分散时间15min。
于机械抛光设备中，利用上述抛光剂对不锈钢表面进行抛光，抛光条件：温度50℃，处理时间20min，转速600r/min；所得不锈钢表面粗糙度小于0.030Ra。

Claims (5)

1.一种抛光剂，其特征在于：所述抛光剂按质量百分比，由10～25％固相组分与75％～90％液相组分组成，其中，
所述固相组分按重量份，由下述组分组成：
SiC颗粒 10～30
AlN颗粒 20～55
金刚石颗粒 30～60
所述SiC颗粒、AlN颗粒、金刚石颗粒的平均粒径0.1～10微米，且圆球度大于0.90；
所述液相组分按组分浓度，由下述组分组成：
2.根据权利要求1所述的抛光剂，其特征在于：所述SiC颗粒、AlN颗粒、金刚石颗粒的平均粒径2～5微米，且圆球度为0.90～0.95。
3.根据权利要求1所述的抛光剂，其特征在于：所述固相组分按重量份，由下述组分组成：
SiC颗粒 25
AlN颗粒 20
金刚石颗粒 55。
4.根据权利要求1所述的抛光剂，其特征在于：所述液相组分按组分浓度，由下述组分组成：
5.权利要求1所述抛光剂的制备方法，其特征在于：是将磷酸、硝酸钠、尿素和硫酸钠按各自的浓度配比配置成溶液；将SiC颗粒、AlN颗粒、金刚石颗粒置于上述混合溶液中，超声分散，分散时间10～60min。
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Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1043349A (zh) * 1987-08-03 1990-06-27 兰姆化学有限公司 使用致密氧化铝基介质之金属表面精制方法
CN1784770A (zh) * 2003-05-09 2006-06-07 三洋化成工业株式会社 Cmp方法用研磨液及研磨方法
WO2006058504A1 (fr) * 2004-12-03 2006-06-08 Anji Microelectronics (Shanghai) Co., Ltd Procédé de polissage chimico-mécanique et composition de polissage
CN102574264A (zh) * 2009-05-12 2012-07-11 雷姆技术公司 金属组件的高处理量精整
US20130260027A1 (en) * 2010-12-29 2013-10-03 Hoya Corporation Method for manufacturing glass substrate for magnetic disk, and method for manufacturing magnetic disk
JP2014141667A (ja) * 2012-12-27 2014-08-07 Sanyo Chem Ind Ltd 電子材料用研磨液

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1043349A (zh) * 1987-08-03 1990-06-27 兰姆化学有限公司 使用致密氧化铝基介质之金属表面精制方法
CN1784770A (zh) * 2003-05-09 2006-06-07 三洋化成工业株式会社 Cmp方法用研磨液及研磨方法
WO2006058504A1 (fr) * 2004-12-03 2006-06-08 Anji Microelectronics (Shanghai) Co., Ltd Procédé de polissage chimico-mécanique et composition de polissage
CN102574264A (zh) * 2009-05-12 2012-07-11 雷姆技术公司 金属组件的高处理量精整
US20130260027A1 (en) * 2010-12-29 2013-10-03 Hoya Corporation Method for manufacturing glass substrate for magnetic disk, and method for manufacturing magnetic disk
JP2014141667A (ja) * 2012-12-27 2014-08-07 Sanyo Chem Ind Ltd 電子材料用研磨液

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