CN106566416A - 一种和田玉抛光液 - Google Patents
一种和田玉抛光液 Download PDFInfo
- Publication number
- CN106566416A CN106566416A CN201610965906.6A CN201610965906A CN106566416A CN 106566416 A CN106566416 A CN 106566416A CN 201610965906 A CN201610965906 A CN 201610965906A CN 106566416 A CN106566416 A CN 106566416A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- parts
- polishing fluid
- inhibitor
- jade
- polishing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09G—POLISHING COMPOSITIONS; SKI WAXES
- C09G1/00—Polishing compositions
- C09G1/02—Polishing compositions containing abrasives or grinding agents
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
本发明公开了一种和田玉抛光液,所述的抛光液由以下组分制成:草酸、六偏磷酸钠、碳酸镧铈粉体、过硫酸铵‑二乙烯三胺五亚甲基膦酸和抑制剂,其各组分的重量含量为:草酸7~18份、六偏磷酸钠13~25份、碳酸镧铈粉体51~72份、过硫酸铵‑二乙烯三胺五亚甲基膦酸11~31份和抑制剂6~16份。通过上述方式,本发明具有抛光效果佳、透亮均匀、光泽度高、平整度高的优点,能满足现代玉石加工的要求。
Description
技术领域
本发明涉及玉石加工领域,特别是涉及一种和田玉抛光液。
背景技术
抛光是对玉雕工艺品加工的最终作业,玉雕行业多习惯称之为“光亮”或“光活”。从玉雕行业内部划分工序的情况来看,也大体如此,只要加上砂磨作业的技术内容。 抛光是玉雕的关键,也是最后的环节。抛光就是让玉器表面的擦痕消除,让玉器表面反射光线,玉器就产生温润光洁的效果。玉器抛光时温度较高需要不断的添加水,使玉器表面更加光亮。
和田玉的抛光技术离不开抛光剂,但是传统的抛光剂抛光效果差、不够透亮、不够均匀、光泽度低、平整度低,不能满足现代玉石加工的要求。
发明内容
本发明主要解决的技术问题是提供一种和田玉抛光液,具有抛光效果佳、透亮均匀、光泽度高、平整度高的优点,能满足现代玉石加工的要求。
为解决上述技术问题,本发明采用的一个技术方案是:提供一种和田玉抛光液,所述的抛光液由以下组分制成:草酸、六偏磷酸钠、碳酸镧铈粉体、过硫酸铵-二乙烯三胺五亚甲基膦酸和抑制剂,其各组分的重量含量为:草酸7~18份、六偏磷酸钠13~25份、碳酸镧铈粉体51~72份、过硫酸铵-二乙烯三胺五亚甲基膦酸11~31份和抑制剂6~16份。
在本发明一个较佳实施例中,所述的碳酸镧铈粉体的重量含量为57~69份。
在本发明一个较佳实施例中,所述的过硫酸铵-二乙烯三胺五亚甲基膦酸的重量含量为15~27份。
在本发明一个较佳实施例中,所述的抑制剂为苯并三氮唑。
本发明的有益效果是:本发明具有抛光效果佳、透亮均匀、光泽度高、平整度高的优点,能满足现代玉石加工的要求。
具体实施方式
下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本发明的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本发明保护的范围。
实施例1
一种和田玉抛光液,所述的抛光液由以下组分制成:草酸、六偏磷酸钠、碳酸镧铈粉体、过硫酸铵-二乙烯三胺五亚甲基膦酸和苯并三氮唑抑制剂,其各组分的重量含量为:草酸7份、六偏磷酸钠13份、碳酸镧铈粉体57份、过硫酸铵-二乙烯三胺五亚甲基膦酸15份和苯并三氮唑抑制剂6份。
实施例2
一种和田玉抛光液,所述的抛光液由以下组分制成:草酸、六偏磷酸钠、碳酸镧铈粉体、过硫酸铵-二乙烯三胺五亚甲基膦酸和苯并三氮唑抑制剂,其各组分的重量含量为:草酸18份、六偏磷酸钠25份、碳酸镧铈粉体69份、过硫酸铵-二乙烯三胺五亚甲基膦酸27份和苯并三氮唑抑制剂16份。
实施例3
一种和田玉抛光液,所述的抛光液由以下组分制成:草酸、六偏磷酸钠、碳酸镧铈粉体、过硫酸铵-二乙烯三胺五亚甲基膦酸和苯并三氮唑抑制剂,其各组分的重量含量为:草酸13份、六偏磷酸钠19份、碳酸镧铈粉体63份、过硫酸铵-二乙烯三胺五亚甲基膦酸21份和苯并三氮唑抑制剂11份。
本发明和田玉抛光液的有益效果是:本发明具有抛光效果佳、透亮均匀、光泽度高、平整度高的优点,能满足现代玉石加工的要求。
以上所述仅为本发明的实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其它相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。
Claims (4)
1.一种和田玉抛光液,其特征在于,所述的抛光液由以下组分制成:草酸、六偏磷酸钠、碳酸镧铈粉体、过硫酸铵-二乙烯三胺五亚甲基膦酸和抑制剂,其各组分的重量含量为:草酸7~18份、六偏磷酸钠13~25份、碳酸镧铈粉体51~72份、过硫酸铵-二乙烯三胺五亚甲基膦酸11~31份和抑制剂6~16份。
2.根据权利要求1所述的和田玉抛光液,其特征在于,所述的碳酸镧铈粉体的重量含量为57~69份。
3.根据权利要求1所述的和田玉抛光液,其特征在于,所述的过硫酸铵-二乙烯三胺五亚甲基膦酸的重量含量为15~27份。
4.根据权利要求1所述的和田玉抛光液,其特征在于,所述的抑制剂为苯并三氮唑。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201610965906.6A CN106566416A (zh) | 2016-10-28 | 2016-10-28 | 一种和田玉抛光液 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201610965906.6A CN106566416A (zh) | 2016-10-28 | 2016-10-28 | 一种和田玉抛光液 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN106566416A true CN106566416A (zh) | 2017-04-19 |
Family
ID=58535982
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201610965906.6A Pending CN106566416A (zh) | 2016-10-28 | 2016-10-28 | 一种和田玉抛光液 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN106566416A (zh) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101463227A (zh) * | 2007-12-21 | 2009-06-24 | 安集微电子(上海)有限公司 | 一种用于阻挡层抛光的化学机械抛光液 |
CN101747843A (zh) * | 2008-12-19 | 2010-06-23 | 安集微电子(上海)有限公司 | 一种化学机械抛光液 |
CN103059737A (zh) * | 2013-01-25 | 2013-04-24 | 湖南皓志新材料股份有限公司 | 一种高抛光速率稀土抛光粉的制备方法 |
CN103254870A (zh) * | 2013-05-19 | 2013-08-21 | 郭尧 | 一种氧化镧铈稀土抛光粉及其制备方法 |
CN104513628A (zh) * | 2014-12-22 | 2015-04-15 | 清华大学 | 一种用于蓝宝石化学机械平坦化的抛光液 |
-
2016
- 2016-10-28 CN CN201610965906.6A patent/CN106566416A/zh active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101463227A (zh) * | 2007-12-21 | 2009-06-24 | 安集微电子(上海)有限公司 | 一种用于阻挡层抛光的化学机械抛光液 |
CN101747843A (zh) * | 2008-12-19 | 2010-06-23 | 安集微电子(上海)有限公司 | 一种化学机械抛光液 |
CN103059737A (zh) * | 2013-01-25 | 2013-04-24 | 湖南皓志新材料股份有限公司 | 一种高抛光速率稀土抛光粉的制备方法 |
CN103254870A (zh) * | 2013-05-19 | 2013-08-21 | 郭尧 | 一种氧化镧铈稀土抛光粉及其制备方法 |
CN104513628A (zh) * | 2014-12-22 | 2015-04-15 | 清华大学 | 一种用于蓝宝石化学机械平坦化的抛光液 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN103343038A (zh) | 用于混凝土构件脱模剂的制备方法 | |
CN106566416A (zh) | 一种和田玉抛光液 | |
CN205388650U (zh) | 一种遮光膜 | |
CN203947037U (zh) | 一种环氧树脂自发光地面 | |
CN106566418A (zh) | 一种黄玉抛光液 | |
CN106479373A (zh) | 一种翡翠抛光液 | |
CN205774126U (zh) | 一种具有抗震性能的装饰夹胶玻璃 | |
CN106566413A (zh) | 一种蓝宝石抛光液 | |
CN105062328A (zh) | 一种高性能防眩涂膜 | |
CN204853349U (zh) | 一种高亮度用于冰箱搁板的玻璃导光板 | |
CN106479374A (zh) | 一种碧玉抛光液 | |
CN211172922U (zh) | 一种pvc地板 | |
CN106147351A (zh) | 建筑用抗龟裂腻子粉 | |
CN107268949A (zh) | 一种拼接式线条 | |
CN207348388U (zh) | 一种装饰阴角线 | |
CN206264502U (zh) | 高清防刮膜 | |
CN107653097A (zh) | 一种清洗机专用清洗剂配方 | |
CN102766410A (zh) | 一种地板上光剂 | |
CN2850906Y (zh) | 一种防污陶瓷砖 | |
CN205025025U (zh) | 减震型装饰砖 | |
CN109604123A (zh) | 一种磨砂玻璃的制备方法 | |
CN107127291A (zh) | 一种熔模铸造用的水玻璃砂型芯配方 | |
CN207063418U (zh) | 一种强化木板 | |
CN106147352A (zh) | 建筑用腻子粉 | |
CN210161691U (zh) | 一种织物与epe的复合板材 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20170419 |