CN106540548A - 一种无机陶瓷膜的清洗剂 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种无机陶瓷膜的清洗剂,包括以下原料:四聚丙烯机本磺酸钠、硫酸镁、缓蚀剂、碳酸钠、氯化钠、氯氧化钠、脂肪醇聚氧乙烯醚、去离子水、沸石、乙二醇丁醚,所述原料在清洗剂中的组分及其质量百分比为:四聚丙烯机本磺酸钠10‑25%、硫酸镁5‑10%、缓蚀剂5‑10%、碳酸钠5‑10%、氯化钠5‑10%、氯氧化钠3‑8%、脂肪醇聚氧乙烯醚1‑5%、去离子水6‑12%、沸石1‑3%、乙二醇丁醚1‑5%,本发明的一种无机陶瓷膜的清洗剂,清洗效率高、清洗效果佳、适用范围广、更加绿色环保,且清洗方便,不留任何残渣;可提高无机陶瓷膜的使用效率,延长膜的使用寿命,减少膜的更换次数。
Description
技术领域
本发明属于清洗剂技术领域,具体涉及一种无机陶瓷膜的清洗剂。
背景技术
随着现代化科技和经济的发展,人们对大自然的挖掘越来越多,工业的快速发展,使环境成为一个不可避免的重要问题,人们在发展经济的同时也更加注重保护环境和治理环境。
工业生产过程中会产生大量的废水、废渣,为了处理这些废水、废渣,现在研究的膜技术处理,已经超越传统的处理技术,无机陶瓷膜技术的优点很多,如耐高温,化学稳定性好,机械强度高,耐高压,渗透量大,但是无机陶瓷膜运行一段时间后,需要对膜进行清洗再生,恢复使用效果,延长使用寿命。
发明内容
本发明的目的在于提供一种清洗效果更佳、适用范围更广、更加绿色环保的无机陶瓷膜的清洗剂。
本发明技术方案是一种无机陶瓷膜的清洗剂,包括以下原料:四聚丙烯机本磺酸钠、硫酸镁、缓蚀剂、碳酸钠、氯化钠、氯氧化钠、脂肪醇聚氧乙烯醚、去离子水、沸石、乙二醇丁醚,所述原料在清洗剂中的组分及其质量百分比为:四聚丙烯机本磺酸钠10-25%、硫酸镁5-10%、缓蚀剂5-10%、碳酸钠5-10%、氯化钠5-10%、氯氧化钠3-8%、脂肪醇聚氧乙烯醚1-5%、去离子水6-12%、沸石1-3%、乙二醇丁醚1-5%。
优选的,所述缓蚀剂为硅酸钠或偏硅酸钠。
优选的,所述各原料在清洗剂中的组分及其质量百分比为:四聚丙烯机本磺酸钠18%、硫酸镁7%、缓蚀剂7%、碳酸钠8%、氯化钠9%、氯氧化钠6%、脂肪醇聚氧乙烯醚4%、去离子水7%、沸石3%、乙二醇丁醚5%。
优选的,所述各原料在清洗剂中的组分及其质量百分比为:四聚丙烯机本磺酸钠25%、硫酸镁10%、缓蚀剂10%、碳酸钠9%、氯化钠9%、氯氧化钠7%、脂肪醇聚氧乙烯醚5%、去离子水10%、沸石3%、乙二醇丁醚5%。
本发明的有益效果:
本发明的一种无机陶瓷膜的清洗剂,清洗效率高、清洗效果佳、适用范围广、更加绿色环保,且清洗方便,不留任何残渣;可提高无机陶瓷膜的使用效率,延长膜的使用寿命,减少膜的更换次数;还可通过调整原料主要成分的配比,更好的应对各类污染水质和各种无机陶瓷膜。
具体实施方式
下面结合具体实例对本发明作进一步的描述。
本发明是一种无机陶瓷膜的清洗剂,包括以下原料:四聚丙烯机本磺酸钠、硫酸镁、缓蚀剂、碳酸钠、氯化钠、氯氧化钠、脂肪醇聚氧乙烯醚、去离子水、沸石、乙二醇丁醚,所述原料在清洗剂中的组分及其质量百分比为:四聚丙烯机本磺酸钠10-25%、硫酸镁5-10%、缓蚀剂5-10%、碳酸钠5-10%、氯化钠5-10%、氯氧化钠3-8%、脂肪醇聚氧乙烯醚1-5%、去离子水6-12%、沸石1-3%、乙二醇丁醚1-5%。
所述缓蚀剂为硅酸钠或偏硅酸钠。
实例一
进一步的,所述各原料在清洗剂中的组分及其质量百分比为:四聚丙烯机本磺酸钠18%、硫酸镁7%、缓蚀剂7%、碳酸钠8%、氯化钠9%、氯氧化钠6%、脂肪醇聚氧乙烯醚4%、去离子水7%、沸石3%、乙二醇丁醚5%。
实例二
进一步的,所述各原料在清洗剂中的组分及其质量百分比为:四聚丙烯机本磺酸钠25%、硫酸镁10%、缓蚀剂10%、碳酸钠9%、氯化钠9%、氯氧化钠7%、脂肪醇聚氧乙烯醚5%、去离子水10%、沸石3%、乙二醇丁醚5%。
本发明的一种无机陶瓷膜的清洗剂,清洗效率高、清洗效果佳、适用范围广且更加绿色环保,清洗方便不留残渣,可用于无机陶瓷膜的批量清洗。
本发明方案在上面结合实例对发明进行了示例性描述,显然本发明具体实现并不受上述方式的限制,只要采用了本发明的方法构思和技术方案进行的各种非实质性改进,或未经改进将发明的构思和技术方案直接应用于其它场合的,均在本发明的保护范围之内。
Claims (4)
1.一种无机陶瓷膜的清洗剂,其特征在于,包括以下原料:四聚丙烯机本磺酸钠、硫酸镁、缓蚀剂、碳酸钠、氯化钠、氯氧化钠、脂肪醇聚氧乙烯醚、去离子水、沸石、乙二醇丁醚,所述原料在清洗剂中的组分及其质量百分比为:四聚丙烯机本磺酸钠10-25%、硫酸镁5-10%、缓蚀剂5-10%、碳酸钠5-10%、氯化钠5-10%、氯氧化钠3-8%、脂肪醇聚氧乙烯醚1-5%、去离子水6-12%、沸石1-3%、乙二醇丁醚1-5%。
2.根据权利要求1所述的一种无机陶瓷膜的清洗剂,其特征在于,所述缓蚀剂为硅酸钠或偏硅酸钠。
3.根据权利要求1所述的一种无机陶瓷膜的清洗剂,其特征在于,所述各原料在清洗剂中的组分及其质量百分比为:四聚丙烯机本磺酸钠18%、硫酸镁7%、缓蚀剂7%、碳酸钠8%、氯化钠9%、氯氧化钠6%、脂肪醇聚氧乙烯醚4%、去离子水7%、沸石3%、乙二醇丁醚5%。
4.根据权利要求1所述的一种无机陶瓷膜的清洗剂,其特征在于,所述各原料在清洗剂中的组分及其质量百分比为:四聚丙烯机本磺酸钠25%、硫酸镁10%、缓蚀剂10%、碳酸钠9%、氯化钠9%、氯氧化钠7%、脂肪醇聚氧乙烯醚5%、去离子水10%、沸石3%、乙二醇丁醚5%。
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Application publication date: 20170329 |
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