CN106498321B - 一种中空薄壁管状镁合金型材的挤压成型工艺 - Google Patents

一种中空薄壁管状镁合金型材的挤压成型工艺 Download PDF

Info

Publication number
CN106498321B
CN106498321B CN201611053725.2A CN201611053725A CN106498321B CN 106498321 B CN106498321 B CN 106498321B CN 201611053725 A CN201611053725 A CN 201611053725A CN 106498321 B CN106498321 B CN 106498321B
Authority
CN
China
Prior art keywords
magnesium alloy
extrusion
hollow thin
alloy profile
wall tubular
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201611053725.2A
Other languages
English (en)
Other versions
CN106498321A (zh
Inventor
魏峰
丁方明
丁汉林
陈伟
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Wuxi Fumei Light Alloy Technology Co ltd
Original Assignee
Wuxi Fumei Light Alloy Technology Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Wuxi Fumei Light Alloy Technology Co ltd filed Critical Wuxi Fumei Light Alloy Technology Co ltd
Priority to CN201611053725.2A priority Critical patent/CN106498321B/zh
Publication of CN106498321A publication Critical patent/CN106498321A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN106498321B publication Critical patent/CN106498321B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22FCHANGING THE PHYSICAL STRUCTURE OF NON-FERROUS METALS AND NON-FERROUS ALLOYS
    • C22F1/00Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working
    • C22F1/06Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working of magnesium or alloys based thereon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C23/00Alloys based on magnesium
    • C22C23/02Alloys based on magnesium with aluminium as the next major constituent
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/14Metallic material, boron or silicon
    • C23C14/18Metallic material, boron or silicon on other inorganic substrates
    • C23C14/185Metallic material, boron or silicon on other inorganic substrates by cathodic sputtering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/35Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/30Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
    • C23C16/32Carbides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/32Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer
    • C23C28/322Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer only coatings of metal elements only
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/34Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates
    • C23C28/341Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates with at least one carbide layer

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Extrusion Of Metal (AREA)

Abstract

本发明公开了一种中空薄壁管状镁合金型材的挤压成型工艺,包括镁合金坯料预处理步骤和挤压步骤,还包括对挤压成型的中空薄壁管状镁合金型材表面进行化学气相沉积和磁控溅射镀膜处理,在镁合金坯料预处理步骤和挤压步骤中采用三次分级均匀化处理,包括镁合金坯料分级均匀化处理、镁合金铸棒分级均匀化处理及镁合金型材分级均匀化处理,本发明的镁合金型材的挤压成型工艺采用分级化均匀化处理制备得到的管状镁合金型材的尺寸精度和尺寸稳定性得以保证,对挤压成型的中空薄壁管状镁合金型材表面进行化学气相沉积和磁控溅射镀膜处理提高了管状镁合金型材的耐磨、耐腐蚀性能。

Description

一种中空薄壁管状镁合金型材的挤压成型工艺
技术领域
本发明涉及镁合金型材制造技术领域,尤其是涉及一种中空薄壁管状镁合金型材的挤压成型工艺。
背景技术
镁合金是目前工业应用中最轻的金属结构材料之一,具有较高的比强度、比刚度以及良好的铸造、减震、切削加工和尺寸稳定性等性能,早已引起了航空工业和汽车工业的注意。
通过挤压工艺制备镁合金管材也已进入产业化生产阶段,且主要用于自行车和高档轿车上。但是制备中空薄壁状镁合金型材且具有较高精度、高性能的挤压成型工艺尚不成熟。
与常用金属钢和铝合金相比,镁合金的塑性成型性能相对较差,使用镁合金为原料通过常规的挤压工艺制备镁合金型材时,存在挤压成型缺陷较大和连续生产较为困难的缺陷。尤其是制备复杂截面或中空薄壁状镁合金型材,其尺寸精度和尺寸稳定性难以保证,且制备得到的镁合金型材的耐磨、耐腐蚀性差,大大影响镁合金型材的大规模应用,因此急需研发一种新的管状镁合金型材挤压成型工艺。
发明内容
本发明目的是为了解决上述问题而提供一种中空薄壁管状镁合金型材的挤压成型工艺,用以提高制备出的中空薄壁管状镁合金型材的尺寸精度与稳定性,以解决现有技术挤压成型工艺在制备中空薄壁管状镁合金型材时的不足。
为实现上述发明目的,本发明公开了一种中空薄壁管状镁合金型材的挤压成型工艺。
一种中空薄壁管状镁合金型材的挤压成型工艺,包括镁合金坯料预处理步骤和挤压步骤。
镁合金预处理步骤包括:将设定比例的镁合金坯料置于惰性气体气氛中加热至300℃并保温12~24小时后作第一次分级均匀化处理,然后制成铸棒,并对铸棒作第二次分级均匀化处理。
挤压步骤具体包括以下步骤:
步骤S21、将挤压模具和挤压筒进行加热,挤压筒加热至370℃~415℃,挤压模具加热至375~420℃,随后将挤压模具装入挤压筒内;
步骤S22、将铸棒送入挤压机内进行挤压成型,得到中空薄壁管状镁合金型材;
步骤S23、待挤压成型得到中空薄壁管状镁合金型材的温度降至200~240℃,使用自动矫直机进行矫直处理,以控制壁厚在0.9±0.02mm的范围内。
本发明的挤压成型工艺还包括:在步骤S23之后对中空薄壁管状镁合金型材作第三次分级均匀化处理。
本发明的挤压成型工艺还包括:对挤压成型的中空薄壁管状镁合金型材表面进行化学气相沉积制备碳化钨过渡层,具体为:以石墨和钨共同为阴电极,通入乙炔气体,以在镁合金型材表面利用等离子体化学气相沉积法沉积碳化钨过渡层,操作参数设置如下:真空度:在2~5小时内降低至1.6×10-4Pa~8×10-4Pa,温度:在2~3小时内由室温升至350℃;乙炔气体流量:7~9sccm。
本发明的挤压成型工艺还包括:对挤压成型的中空薄壁管状镁合金型材表面进行磁控溅射镀膜,具体为:在氩气气氛中,以碳化钨为靶材,在已经沉积在镁合金型表面的碳化钨过渡层上利用磁控溅射沉积铬膜层,操作参数设置如下:真空度:6.7×10-3Pa~7.1×10-1Pa、氩气流量:10~50sccm、溅射时间:30~60min、沉积温度:350~680℃。
有益效果:首先,在本发明的挤压成型工艺过程中进行了三次分级均匀化处理,包括对镁合金坯料及其制备而成的镁合金铸棒采用分级均匀化处理,还包括对挤压成型的管状镁合金型材作分级均匀化处理,这样能够使得镁合金铸态组织更加均匀,晶粒更加细小,可以更加有效地吸收位错和协调变形,使得细化后的挤压组织更加均匀,从而提高镁合金的力学性能;
同时,本发明采用化学气相沉积与磁控溅射镀膜相结合的方法在镁合金型材表面制备复合涂层,通过优化工艺,在中空薄壁管状镁合金型材表面沉积碳化钨过渡层和铬膜层,通过碳化钨过渡层的制备,明显改善了后续铬膜层与基体间的结合力,由此可以弥补镁合金型材在挤压过程中晶格缺陷,显著提高镁合金型材表面的耐磨性能以及耐腐蚀性能。
附图说明
图1为依据本发明制备的一种中空薄壁管状镁合金型材的截面图。
具体实施方式
下面结合附图对本发明作进一步详细的说明。
实施例1
本实施例的一种中空薄壁管状镁合金型材的挤压成型工艺,镁合金成分质量百分比为:Al:3.4wt.%,Zn:1.5wt.%,Mn:0.4wt.%,Si≤0.02wt.%,Cr≤0.002wt.%,余量为Mg及不可去除杂质,包括镁合金坯料预处理步骤和挤压步骤,镁合金坯料预处理步骤包括:步骤S11、将镁合金坯料进行预热处理,即送入电阻炉中在惰性气体氛围中加热至300℃并保温12~24小时,惰性气体可选氦气或氩气,对镁合金坯料预热处理能够使镁合内部组织结构均匀化。镁合金坯料预热后对其进行分级均匀化处理,即首先将镁合金坯料加热至335℃并保温4小时,然后加热至368℃并保温8小时,将经过分级均匀化处理的镁合金坯料送入熔炼炉中进行将熔制,熔炼炉的温度控制在630℃~650℃;步骤S12、采用半连续铸造法将熔制得到的镁合金原料制成镁合金铸棒;步骤S13、对镁合金铸棒进行分级均匀化处理,即先将铸棒送入电阻炉加热至390℃并保温2小时,随后加热至410℃并保温5小时,最后加热至437℃并保温1小时,这样使得镁合金铸棒组织更加均匀,晶粒更加细小,可以更加有效地吸收位错和协调变形,易于挤压成型。挤压步骤包括:步骤S21、使用模温机对挤压模具进行加热,温度加热至395℃,同时打开挤压机对挤压筒进行加热,温度至400℃,并将挤压模具装入挤压筒内,本发明的挤压机选用的是卧式挤压机;步骤S22、将镁合金铸棒送入卧式挤压机内进行挤压成型,挤压成型得到中空薄壁管镁合金型材,其中挤压机的挤压杆的推杆速率为6m/min,挤压比为50;步骤S23、待挤压成型得到中空薄壁管镁合金型材的温度降至在200~240℃时,对其使用自动矫直机进行矫直处理,得到的中空薄壁管状镁合金型材壁厚为0.92mm,如图1所示。对经过矫直处理的中空薄壁管状镁合金型材进行分级均匀处理,即将中空薄壁管状镁合金型材加热至150℃并保温2小时,随后加热至215℃并保温3小时,这样能够消除中空薄壁管状镁合金型材在挤压过程中形成的应力,提高了中空薄壁管状镁合金型材的韧性。
同时,为了提高中空薄壁管状镁合金型材的耐磨性能,首先对挤压成型的中空薄壁管状镁合金型材进行表面化学气相沉积制备碳化钨过渡层,具体为:以石墨和钨共同为阴电极,通入乙炔气体,以在镁合金型材表面利用等离子体化学气相沉积法沉积碳化钨过渡层,操作参数设置如下:真空度:在2~5小时内降低至1.6×10-4Pa~8×10-4Pa,温度:在2~3小时内由室温升至350℃;乙炔气体流量:7~9sccm。通过碳化钨过渡层的制备,明显改善了后续铬膜层与基体间的结合力。随后对中空薄壁管状镁合金型材进行磁控溅射镀膜,其具体条件为:在氩气气氛中,以碳化钨为靶材,在已经沉积在镁合金型表面的碳化钨过渡层上利用磁控溅射沉积铬膜层,操作参数设置如下:真空度:6.7×10-3Pa~7.1×10-1Pa、氩气流量:10~50sccm、溅射时间:30~60min、沉积温度:350~680℃。由此可以有效弥补镁合金型材在挤压过程中形成的晶格缺陷,显著提高镁合金型材表面的耐磨性能以及耐腐蚀性能,使其能够适用于各种严酷的环境。
实施例2
本实施例的挤压成型工艺和实施例1主要是在镁合金坯料成分以及各个阶段温度上有所区别,在实际生产过程中通过调整镁合金坯料的成分以及在各个阶段的温度,能够得到企业所需尺寸的镁合金型材。在本实施例中,镁合金成分质量百分比为:Al:3.3wt.%,Zn:1.2wt.%,Mn:0.38wt.%,Si≤0.025wt.%,Cr≤0.003wt.%,余量为Mg及不可去除杂质,镁合金坯料的均匀化处理,即首先将镁合金坯料加热至350℃并保温4小时,然后加热至375℃并保温8小时对,镁合金铸棒进行分级均匀化处理,即先将铸棒送入电阻炉加热至,400℃并保温2小时,随后加热至420℃并保温5小时,最后加热至445℃并保温1小时,对经过矫直处理的中空薄壁管状镁合金型材进行分级均匀处理,即将中空薄壁管状镁合金型材加热至180℃并保温2小时,随后加热至230℃并保温3小时,最终所得的中空薄壁管状镁合金型材的壁厚为0.9mm。
实施例3
本实施例的挤压成型工艺和实施例1主要是在镁合金坯料成分以及各个阶段温度上有所区别,在本实施例中,镁合金成分质量百分比为:Al:3.8wt.%,Zn:1.8wt.%,Mn:0.42wt.%,Si≤0.03wt.%,Cr≤0.002wt.%,余量为Mg及不可去除杂质,镁合金坯料的均匀化处理,即首先将镁合金坯料加热至320℃并保温4小时,然后加热至360℃并保温8小时对,镁合金铸棒进行分级均匀化处理,即先将铸棒送入电阻炉加热至,380℃并保温2小时,随后加热至405℃并保温5小时,最后加热至430℃并保温1小时,对经过矫直处理的中空薄壁管状镁合金型材进行分级均匀处理,即将中空薄壁管状镁合金型材加热至150℃并保温2小时,随后加热至215℃并保温3小时,最终所得的中空薄壁管状镁合金型材的壁厚为0.88mm。。
以上所述仅是本发明的优选方式,应当指出,对于本领域技术人员来说,在不脱离本发明创造构思的前提下,还可以做出若干相似的变形和改进,这些也应视为本发明的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种中空薄壁管状镁合金型材的挤压成型工艺,其特征在于,包括:镁合金坯料预处理步骤和挤压步骤,其中,
镁合金坯料预处理步骤包括将设定比例的镁合金坯料置于惰性气体气氛中加热至300℃并保温12~24小时后作第一次分级均匀化处理,然后制成铸棒,并对铸棒作第二次分级均匀化处理;
所述镁合金坯料中各组分的质量百分比为:Al:3.3~3.8wt.%,Zn:1.2~1.8wt.%,Mn:0.38~0.42wt.%,Si≤0.03wt.%,Cr≤0.003wt.%,余量为Mg及不可去除杂质;
所述挤压成型工艺还包括对挤压成型的中空薄壁管状镁合金型材表面进行化学气相沉积和磁控溅射镀膜,以在中空薄壁管状镁合金型材表面沉积碳化钨过渡层和铬膜层。
2.根据权利要求1所述的中空薄壁管状镁合金型材的挤压成型工艺,其特征在于,所述挤压步骤具体包括以下步骤:
步骤S21、将挤压模具和挤压筒进行加热,挤压筒加热至370℃~415℃,挤压模具加热至375~420℃,随后将挤压模具装入挤压筒内;
步骤S22、将铸棒送入挤压机内进行挤压成型,得到中空薄壁管状镁合金型材;
步骤S23、待挤压成型得到中空薄壁管状镁合金型材的温度降至200~240℃,使用自动矫直机进行矫直处理,以控制壁厚在0.9±0.02mm的范围内。
3.根据权利要求2所述的中空薄壁管状镁合金型材的挤压成型工艺,其特征在于,所述步骤S23之后还包括对中空薄壁管状镁合金型材作第三次分级均匀化处理。
4.根据权利要求1所述的中空薄壁管状镁合金型材的挤压成型工艺,其特征在于,对挤压成型的中空薄壁管状镁合金型材进行表面化学气相沉积制备碳化钨过渡层,具体为:以石墨和钨共同为阴电极,通入乙炔气体,以在镁合金型材表面利用等离子体化学气相沉积法沉积碳化钨过渡层,操作参数设置如下:真空度:在2~5小时内降低至1.6×10-4Pa~8×10-4Pa,温度:在2~3小时内由室温升至350℃;乙炔气体流量:7~9sccm。
5.根据权利要求1所述的中空薄壁管状镁合金型材的挤压成型工艺,其特征在于,对挤压成型的中空薄壁管状镁合金型材表面进行磁控溅射镀膜,具体为:在氩气气氛中,在已经沉积在镁合金型表面的碳化钨过渡层上利用磁控溅射沉积铬膜层,操作参数设置如下:真空度:6.7×10-3Pa~7.1×10-1Pa、氩气流量:10~50sccm、溅射时间:30~60min、沉积温度:350~680℃。
6.根据权利要求2所述的中空薄壁管状镁合金型材的挤压成型工艺,其特征在于,所述步骤S22中,挤压机的挤压杆的推杆速率为6~7m/min,挤压比为49~52。
7.根据权利要求1所述的中空薄壁管状镁合金型材的挤压成型工艺,其特征在于,所述的第一次分级均匀化处理具体包括:首先将镁合金坯料加热至320-350℃并保温4小时,随后加热至360-375℃并保温8小时。
8.根据权利要求1所述的中空薄壁管状镁合金型材的挤压成型工艺,其特征在于,所述的第二次分级均匀化处理具体包括:先将铸棒加热至380~400℃并保温2小时,随后加热至405~420℃并保温5小时,最后加热至430~445℃并保温1小时。
9.根据权利要求3所述的中空薄壁管状镁合金型材的挤压成型工艺,其特征在于,所述的第三次分级均匀化处理具体包括:首先将镁合金型材加热至120~180℃并保温2小时,随后加热至200~230℃并保温3小时。
CN201611053725.2A 2016-11-25 2016-11-25 一种中空薄壁管状镁合金型材的挤压成型工艺 Active CN106498321B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201611053725.2A CN106498321B (zh) 2016-11-25 2016-11-25 一种中空薄壁管状镁合金型材的挤压成型工艺

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201611053725.2A CN106498321B (zh) 2016-11-25 2016-11-25 一种中空薄壁管状镁合金型材的挤压成型工艺

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN106498321A CN106498321A (zh) 2017-03-15
CN106498321B true CN106498321B (zh) 2020-10-27

Family

ID=58328552

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201611053725.2A Active CN106498321B (zh) 2016-11-25 2016-11-25 一种中空薄壁管状镁合金型材的挤压成型工艺

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN106498321B (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113604771B (zh) * 2021-07-28 2022-05-17 兰州理工大学 一种电爆喷射沉积法制备镁合金微细管的装置及方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102758110A (zh) * 2012-07-09 2012-10-31 无锡福镁轻合金科技有限公司 一种镁合金led灯管型材及其挤压成型工艺
CN105750348A (zh) * 2014-12-15 2016-07-13 北京有色金属研究总院 一种镁锂合金空心型材的加工方法
CN105970215A (zh) * 2016-05-19 2016-09-28 无锡铠骏机械制造有限公司 一种轴承的复合层制备方法及其轴承

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6257030B2 (ja) * 2013-10-05 2018-01-10 国立研究開発法人物質・材料研究機構 Mg合金とその製造方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102758110A (zh) * 2012-07-09 2012-10-31 无锡福镁轻合金科技有限公司 一种镁合金led灯管型材及其挤压成型工艺
CN105750348A (zh) * 2014-12-15 2016-07-13 北京有色金属研究总院 一种镁锂合金空心型材的加工方法
CN105970215A (zh) * 2016-05-19 2016-09-28 无锡铠骏机械制造有限公司 一种轴承的复合层制备方法及其轴承

Also Published As

Publication number Publication date
CN106498321A (zh) 2017-03-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102277558B (zh) 一种钨旋转镀膜的溅射管靶的制作工艺
RU2713668C1 (ru) Материалы с гпу-структурой на основе алюминия, титана и циркония и изделия, полученные из них
CN101695753A (zh) 高强度喷射成形7055铝合金锻件的制造方法
CN112281032B (zh) 一种铝合金焊材的制备方法
CN106903394A (zh) 一种铝镁合金结构件增材制造方法
CN1253269C (zh) 镁合金汽车轮毂铸挤复合成形方法
CN104131202A (zh) 6061铝合金模锻件的短流程制备方法
CN111041293A (zh) 一种高强度薄壁型材生产工艺
CN106544609A (zh) 一种高速列车座椅用高强度镁合金板材挤压成型工艺
CN106498321B (zh) 一种中空薄壁管状镁合金型材的挤压成型工艺
CN114505559A (zh) 一种薄壁5087铝合金构件的冷金属过渡电弧增材制造方法
CN110527932B (zh) 一种SiC先驱体增强TiAl基复合材料的液态吸铸制备方法
CN103191946A (zh) 铝合金内圆型多孔平行流管制造工艺
CN104372220A (zh) 高应变速率超塑性镁锂合金材料及其制备方法
CN112779508A (zh) 一种高纯钒靶坯的制备方法及利用其制得的高纯钒靶材
WO2021046929A1 (zh) 一种含微量元素的大管径Ni-Cr旋转靶材及其制备方法
CN1597223A (zh) 一种用于焊接汽车镀复层钢板的电极帽的制作方法
CN107199321A (zh) 一种时变控制半固态成形工艺
CN110983266A (zh) 一种旋转溅射靶材及其制备方法
CN1775993A (zh) 微米细晶钛镍铪高温形状记忆合金块材制备方法
CN116652206A (zh) 一种具有骨架增强结构的钛铝合金零件及其制备方法
CN111299347B (zh) 一种宽幅带筋薄壁板的挤压成形方法
CN115572858A (zh) 一种细小全片层变形TiAl合金及其制备方法
CN116144993A (zh) 电弧增材制造用7系铝合金丝材及其制备方法和应用
CN107159729A (zh) 军用装甲车用7a52铝合金管材挤压工艺

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant