CN106364875A - 基板导正机构 - Google Patents

Abstract

本发明是关于一种基板导正机构，其包括真空吸附平台、X轴导正装置及Y轴导正装置。真空吸附平台供承载至少一基板，基板具有相互垂直的第一边及第二边。X轴导正装置邻设于真空吸附平台的一侧边，对应基板的第一边，X轴导正装置包括驱动单元、X载台及设于X载台上的至少两推抵柱。驱动单元用以驱动X载台移动，使基板的第一边与Y轴线对齐。Y轴导正装置邻设于真空吸附平台的另一侧边，对应基板的第二边，Y轴导正装置包括驱动单元、Y载台及设于Y载台上的至少两推抵柱。驱动单元用以驱动Y载台移动，使基板的第二边与X轴线对齐。真空吸附平台被控制在提供一吸力，允许基板受推抵柱推挤而移动。本发明能对基板进行导正作业，降低其歪斜幅度。

Description

基板导正机构

技术领域

本发明是关于一种导正机构，尤其涉及一种利用X、Y轴导正装置对一基板进行导正的基板导正机构。

背景技术

一般来说，利用自动搬运机制将一基板搬运到一目的地，不可避免地会出现该基板被歪斜摆放情形，例如利用吸附装置将一液晶面板搬运到一支撑载台的台面上时，位于该台面上的该液晶面板可能是歪斜的。虽然可通过θ方向转动手段(例如转动该台面)，将基板转正，然而，若基板的歪斜幅度太大时，仅通过θ方向转动手段，往往很难将该基板导正到可接受的程度，特别是在精密度要求很高的光学检查场合，例如检查异方性导电胶的导电粒子数量、导电粒子压痕强度等场合。因此，如何提供一种新的导正机制，用以对歪斜平放在一台面上的基板进行导正，以降低该基板的歪斜幅度，乃为当务之急。

发明内容

本发明的目的是提供一种基板导正机构，以对基板进行导正作业，降低基板的歪斜幅度。

本发明的基板导正机构包括：一真空吸附平台，供承载至少一基板，所述基板具有相互垂直的一第一边及一第二边；一X轴导正装置，邻设于所述真空吸附平台的一侧边，对应所述基板的第一边，所述X轴导正装置包括一第一驱动单元、一X载台及设于所述X载台上的至少两第一推抵柱；所述第一驱动单元用以驱动所述X载台移动，以使所述X载台上的所述第一推抵柱对所述真空吸附平台上的所述基板纵向推移至一第一位置，使得所述基板的第一边与一Y轴线对齐；以及一Y轴导正装置，邻设于所述真空吸附平台的另一侧边，对应所述基板的第二边，所述Y轴导正装置包括一第二驱动单元、一Y载台及设于所述Y载台上的至少两第二推抵柱；所述第二驱动单元用以驱动所述Y载台移动，以使所述Y载台上的所述第二推抵柱对所述真空吸附平台上的所述基板横向推移至一第二位置，使得所述基板的第二边与一X轴线对齐；其中，所述真空吸附平台被控制在提供一吸力，允许所述基板受所述第一推抵柱和所述第二推抵柱推挤而移动，以防止所述基板受推挤时滑移而脱离所述第一推抵柱和所述第二推抵柱。

本发明的基板导正机构的特点和优点是，其主要包括一X轴导正装置、一Y轴导正装置及一真空吸附平台，并特别利用该X轴导正装置沿X方向推该真空吸附平台上的一基板的一侧边，及利用该Y轴导正装置沿Y方向推该基板的另一侧边，从而能对该基板进行导正作业，降低该基板的歪斜幅度。

附图说明

以下附图仅旨在于对本发明做示意性说明和解释，并不限定本发明的范围。其中：

图1为本发明的基板导正机构的立体结构示意图。

图2为本发明的基板导正机构的立体分解示意图。

图3A至图3C为本发明的基板导正机构的第一种动作示意图。

图4A至图4C为本发明的基板导正机构的第二种动作示意图。

主要元件标号说明：

100 基板导正机构 1 底座

2 X轴导正装置 21 驱动单元

210 伺服马达 211 导螺杆

22 X载台

220a 前段组接孔 220b 后段组接孔

23 推抵柱

3 Y轴导正装置 31 驱动单元

310 伺服马达 311 导螺杆

32 Y载台

320a 前段组接孔 320b 后段组接孔

33 推抵柱

4、5 真空吸附平台 40 支柱

401、501 缺槽 502 沟槽

41、51 吸附平台本体 42、52 延伸板

6 大型基板 61 长边

62 短边

7 小型基板 71 短边

72 长边

具体实施方式

为了对本发明的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解，现对照附图说明本发明的具体实施方式。

参阅图1至图4C，其为本发明的基板导正机构100的一较佳实施例。该基板导正机构100用于对平放于一台面(即X-Y平面)上的一大型基板6(或小型基板7)进行导正作业，以降低该大型基板6(或小型基板7)的歪斜幅度。该大型基板6(或小型基板7)指液晶面板、有机发光二极管面板、印刷电路板、包装用垫板或其它板状物料，亦可泛指大致呈方形或矩形的物体。

如图所示，该基板导正机构100大致包括一底座1、设于该底座上方的一X轴导正装置2、堆叠在该X轴导正装置2上方的一Y轴导正装置3以及一真空吸附平台4(或5)。如图2所示，该真空吸附平台4(或5)是通过多支支柱40而架设在底座1的上方，使得前述X轴导正装置2和Y轴导正装置3位于底座1与真空吸附平台4(或5)之间。又真空吸附平台4(或5)主要供承载至少一大型基板6(或小型基板7)。本发明提供两种规格的真空吸附平台4(或5)供选用，其中右方的真空吸附平台4供2～7英寸的小型基板7使用，而左方的真空吸附平台5供8～12英寸的大型基板6使用。较佳地，真空吸附平台4或5都是以螺接方式跟该些支柱40连接。

该X轴导正装置2搭配该Y轴导正装置3以共同对该大型基板6(或小型基板7)进行导正，待该大型基板6(或小型基板7)被导正后，便能沿着该底座1上的一皮带滑台11将该大型基板6(或小型基板7)直接送往下一工作站，进行下一个制造工艺或检查工序(例如：对芯片-玻璃接合的面板进行异方性导电胶的导电粒子光学检查的工序)。

首先，以真空吸附平台4为例，其供承载一大型基板6，该大型基板6具有相互垂直的一长边61及一短边62。该真空吸附平台4具有一吸附平台本体41及延伸自该吸附平台本体41的一延伸板42。该延伸板42加大该真空吸附平台4的承载面积，以确保该大型基板6不会掉落，或是用来撑托连接至该大型基板6周边的软板或硬板(未显示)。

该X轴导正装置2邻设于该真空吸附平台4的一侧边，对应该大型基板6的长边61。此外，该X轴导正装置包括一驱动单元21、一X载台22及设于该X载台22上的至少两推抵柱23。其中，该X载台22对应该大型基板6的长边61设有多个组接孔220a及220b(例如螺孔)，供对应的两推抵柱23选择性地插设，以调整该两推抵柱23间的距离。再者，该真空吸附平台4的侧边对应该X载台22设有深浅不一的缺槽401，以供该X载台22上的该些推抵柱23深入(或伸入)该真空吸附平台4，以推抵该大型基板6的长边61。此外，该驱动单元21包括一伺服马达210及一导螺杆211，该伺服马达210用以驱动该导螺杆211旋转，借以带动螺设在该导螺杆211上的该X载台22位移。如此，该X载台22上的两推抵柱23便能纵向推移该真空吸附平台4上的该大型基板6至一第一位置，如图3B所示，使得该大型基板6的长边61与一Y轴线对齐。

另一方面，该Y轴导正装置3邻设于该真空吸附平台4的另一侧边，对应该大型基板6的短边。此外，该Y轴导正装置3包括一驱动单元31、一Y载台32及设于该Y载台32上的至少两推抵柱33。其中，该Y载台32对应该大型基板6的短边62设有多个组接孔320a及320b(例如螺孔)，供对应的两推抵柱33选择性地插设。再者，该真空吸附平台4的侧边对应该Y载台32的组接孔320a及320b分别设有深浅不一的缺槽，以供该Y载台32上的该些推抵柱33深入(或伸入)该真空吸附平台4，以推抵该大型基板6的短边62。该驱动单元31包括一伺服马达310及一导螺杆311，该伺服马达310用以驱动该导螺杆311旋转，借以带动设在该导螺杆311上的该Y载台32位移。如此，该Y载台32上的两推抵柱33便能横向推移该真空吸附平台4上的该大型基板6至一第二位置，如图3C所示，使得该大型基板6的短边62与一X轴线对齐。

值得特别注意的是，该真空吸附平台4并非完全吸住该大型基板6，让大型基板6不能移动，而是控制在提供一适当吸力，允许该大型基板6受该些推抵柱23、33推挤而移动。如此，当该大型基板6受推挤时，该大型基板6不会因自身的惯性而滑移脱离该些推抵柱23、33。简言之，该些推抵柱23、33往前移动多少距离，该大型基板6大致上就对应移动相同的距离。

参阅图3A，在导正作业进行时，该X轴导正装置2首先通过该些推抵柱23纵向推移该真空吸附平台4上的该大型基板6至一第一位置，使得该大型基板6的长边61与该Y轴线对齐，如图3B所示。随后，该Y轴导正装置3续通过其推抵柱33横向推移该真空吸附平台4上的该大型基板6至一第二位置，使得该大型基板6的短边62与该X轴线对齐，如图3C所示，完成导正作业。如此，依序将一片又一片的歪斜大型基板6放在该真空吸附平台4上进行导正后，每一片大型基板6均会受该X轴导正装置2、Y轴导正装置3推移到一目标区域T，该目标区域T就是该Y轴线与该X轴线所共同界定的一区域，如图3C所示，如此，原本有歪斜的大型基板6即得到导正，使得它不至于歪斜或歪斜幅度降低到可接受的范围内。

接下来将以真空吸附平台5为例，其可同时承载两小型基板7，如图4A所示。每一小型基板7具有相互垂直的一短边71及一长边72。该真空吸附平台5具有一吸附平台本体51及延伸自该吸附平台本体51的一延伸板52。该延伸板52加大该真空吸附平台5的承载面积，以确保该两小型基板7不会掉落，或是用来撑托连接至该小型基板7周边的软板或硬板(未显示)。

参阅图1、图2及图4A至图4C，为同时推抵该两小型基板7，该X轴导正装置2的X载台22对应该两小型基板7的短边71分别设有一排前段组接孔220a及一排后段组接孔220b，分别对应该两小型基板7。该X轴导正装置2包括四根推抵柱23，其中两推抵柱23插设于该X载台22的前段组接孔220a，而另两推抵柱23插设于该X载台22的后段组接孔220b。同样地，该Y轴导正装置3的Y载台32对应该两小型基板7的长边72前后并排设有一前段组接孔320a及一后段组接孔320b，而该Y轴导正装置3亦包括四根推抵柱33，其中两推抵柱33插设于该Y载台32的前段组接孔320a，而另两推抵柱33插设于该Y载台32的后段组接孔320b。此外，该真空吸附平台5的侧边对应该Y载台32的前、后段组接孔320a、320b分别设有深浅不一的缺槽501或沟槽502，以供该Y载台32上的该些推抵柱33深入(或伸入)该真空吸附平台5，以推抵该两小型基板7的长边72。

参阅图4A，在导正作业进行时，该X轴导正装置2首先通过该四推抵柱23纵向推移该真空吸附平台5上的该两小型基板7至一第一位置，使得每一小型基板7的短边71均与一Y轴线对齐，如图4B所示。随后，该Y轴导正装置3续通过其四推抵柱33横向推移该真空吸附平台5上的该两小型基板7至一第二位置，使得该小型基板7的长边72分别与一X1轴线及一X2轴线对齐，如图4C所示，完成导正作业。

如上所述，两片歪斜的小型基板7可同时放在该真空吸附平台5上进行导正后，该两片小型基板7会同时受该X、Y轴导正装置2、3推移而分别移动到两目标区域T1、T2，其中一目标区域T1是该Y轴线与该X1轴线所共同界定的一区域，而另一目标区域T2是该Y轴线与该X2轴线所共同界定的一区域如图4C所示，如此，原本有歪斜的小型基板7即得到导正，使得它们不至于歪斜或歪斜幅度降低到可接受的范围内。

以上所述仅为本发明示意性的具体实施方式，并非用以限定本发明的范围。任何本领域的技术人员，在不脱离本发明的构思和原则的前提下所作的等同变化与修改，均应属于本发明保护的范围。而且需要说明的是，本发明的各组成部分并不仅限于上述整体应用，本发明的说明书中描述的各技术特征可以根据实际需要选择一项单独采用或选择多项组合起来使用，因此，本发明理所当然地涵盖了与本案发明点有关的其它组合及具体应用。

Claims (10)

1.一种基板导正机构，其特征在于，所述基板导正机构包括：

一真空吸附平台，供承载至少一基板，所述基板具有相互垂直的一第一边及一第二边；

一X轴导正装置，邻设于所述真空吸附平台的一侧边，且对应所述基板的第一边，所述X轴导正装置包括一第一驱动单元、一X载台及设于所述X载台上的至少两第一推抵柱；所述第一驱动单元用以驱动所述X载台移动，以使所述X载台上的所述第一推抵柱对所述真空吸附平台上的所述基板纵向推移至一第一位置，使得所述基板的第一边与一Y轴线对齐；以及

一Y轴导正装置，邻设于所述真空吸附平台的另一侧边，且对应所述基板的第二边，所述Y轴导正装置包括一第二驱动单元、一Y载台及设于所述Y载台上的至少两第二推抵柱；所述第二驱动单元用以驱动所述Y载台移动，以使所述Y载台上的所述第二推抵柱对所述真空吸附平台上的所述基板横向推移至一第二位置，使得所述基板的第二边与一X轴线对齐；

其中，所述真空吸附平台被控制在提供一吸力，允许所述基板受所述第一推抵柱和所述第二推抵柱推挤而移动，以防止所述基板受推挤时滑移而脱离所述第一推抵柱和所述第二推抵柱。

2.如权利要求1所述的基板导正机构，其特征在于，所述X轴导正装置的X载台对应所述基板的第一边设有多个第一组接孔，多个所述第一组接孔供对应的所述第一推抵柱选择性地插设。

3.如权利要求1所述的基板导正机构，其特征在于，所述Y轴导正装置的Y载台对应所述基板的第二边设有多个第二组接孔，多个所述第二组接孔供对应的所述第二推抵柱选择性地插设。

4.如权利要求1所述的基板导正机构，其特征在于，所述真空吸附平台供承载两所述基板，所述X轴导正装置的X载台对应两所述基板的第一边分别设有一排第一前段组接孔及一排第一后段组接孔，所述第一前段组接孔和所述第一后段组接孔分别对应两所述基板；所述X轴导正装置包括四根所述第一推抵柱，其中两所述第一推抵柱插设于所述X载台的第一前段组接孔，另外两所述第一推抵柱插设于所述X载台的第一后段组接孔。

5.如权利要求4所述的基板导正机构，其特征在于，所述X轴导正机构的第一驱动单元包括一第一伺服马达及一第一导螺杆，所述第一伺服马达用以驱动所述第一导螺杆旋转以带动设在所述第一导螺杆上的所述X载台位移。

6.如权利要求4所述的基板导正机构，其特征在于，所述Y轴导正装置的Y载台对应两所述基板的第二边前后并排设有一第二前段组接孔及一第二后段组接孔，且所述Y载台上设有四根所述第二推抵柱，其中两所述第二推抵柱插设于所述Y载台的第二前段组接孔，另外两所述第二推抵柱插设于所述Y载台的第二后段组接孔。

7.如权利要求6所述的基板导正机构，其特征在于，所述Y轴导正机构的第二驱动单元包括一第二伺服马达及一第二导螺杆，所述第二伺服马达用以驱动所述第二导螺杆旋转以带动设在所述第二导螺杆上的所述Y载台位移。

8.如权利要求6所述的基板导正机构，其特征在于，所述真空吸附平台的侧边对应所述Y载台的第二前段组接孔和第二后段组接孔分别设有深浅不一的缺槽或沟槽，以供所述Y载台上的所述第二推抵柱深入所述真空吸附平台，以推抵所述基板的第二边。

9.如权利要求1所述的基板导正机构，其特征在于，所述真空吸附平台的侧边对应所述X载台设有深浅不一的缺槽，以供所述X载台上的所述第一推抵柱深入所述真空吸附平台，以推抵所述基板的第一边。

10.如权利要求1所述的基板导正机构，其特征在于，所述真空吸附平台具有一吸附平台本体及延伸自所述吸附平台本体的一延伸板，以防止所述基板掉落。