CN106350776A - 一种加工防静电层的方法及电子设备 - Google Patents

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谭造时
蔡良照
闫海姣
李建华
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    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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Abstract

本发明公开了一种加工防静电层的方法及电子设备,其中加工防静电层的方法包括:步骤1:利用电子击打高阻靶材,使其析出高阻物质;步骤2:使所述高阻物质附着在玻璃的表面,形成防静电层。由于利用该方法形成的防静电层,在其内部物质结构之间不能形成完全的闭合回路,因此电子不能完全的运动,即控制了防静电层的导电性能,使其介于导电和绝缘之间,既能达到屏蔽的作用,又能使触摸屏满足触控效果;而且可以通过控制防静电层的厚度,来控制其导电能力。故,利用本加工防静电层的方法制作出的防静电层,能够使触摸屏在满足屏蔽能力的同时、达到触控效果,解决了现有技术中的难题。

Description

一种加工防静电层的方法及电子设备
技术领域
本发明涉及镀膜加工领域,更具体地说,涉及一种加工防静电层的方法及电子设备。
背景技术
近些年,随着科技的发展,触摸屏相关技术广泛的应用于手机、电脑等电子产品。现阶段,触摸屏集成了平面转换和触控两种技术,其中平面转换则需要防静电层来屏蔽外界电磁场的干扰;而屏蔽能力的强弱直接影响着触控效果。实验表明屏蔽能力即导电能力越强的触摸屏,其触控效果就会越差,因此,如何使屏蔽能力和触控效果达到一个合理的平衡点,是近些年该领域的研究热点。
故,如何使触摸屏在满足屏蔽能力的同时、达到触控效果,是现阶段该领域亟待解决的难题。
发明内容
有鉴于此,本发明的目的在于提供一种加工防静电层的方法,利用该方法制作出的防静电层,能够使触摸屏在满足屏蔽能力的同时、达到触控效果,解决了现有技术中的难题。本发明的目的还在于提供一种电子设备,该电子设备应用了加工防静电层的方法,利用此方法制作出的防静电层,能够使触摸屏在满足屏蔽能力的同时、达到触控效果
一种加工防静电层的方法,包括:
步骤1:利用电子击打高阻靶材,使其析出高阻物质;
步骤2:使所述高阻物质附着在触摸屏的表面,形成防静电层。
优选的,所述加工防静电层的方法,所述步骤1采用溅射工艺使电子击打所述高阻靶材。
优选的,所述加工防静电层的方法,所述步骤2采用镀膜工艺使所述高阻物质附着在触摸屏上。
优选的,所述加工防静电层的方法,所述防静电层的厚度均匀一致。
优选的,所述加工防静电层的方法,所述防静电层的厚度在0.01μm-0.1μm之间。
一种电子设备,设有防静电层,所述防静电层通过如上任一条所述的加工防静电层的方法制得。
本发明提供的加工防静电层的方法,包括:步骤1:利用电子击打高阻靶材,使其析出高阻物质;步骤2:使所述高阻物质附着在玻璃的表面,形成防静电层。由于利用该方法形成的防静电层,在其内部物质结构之间不能形成完全的闭合回路,因此电子不能完全的运动,即控制了防静电层的导电性能,使其介于导电和绝缘之间,既能达到屏蔽的作用,又能使触摸屏满足触控效果;而且可以通过控制防静电层的厚度,来控制其导电能力。故,利用本加工防静电层的方法制作出的防静电层,能够使触摸屏在满足屏蔽能力的同时、达到触控效果,解决了现有技术中的难题。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明具体实施方式中触摸屏的整装示意图。
图1中:
触摸屏—1、防静电层—2、第一偏光片—3、第二偏光片—4、粘胶层—5。
具体实施方式
本具体实施方式的核心在于提供一种加工防静电层的方法,利用该方法制作出的防静电层,能够使触摸屏在满足屏蔽能力的同时、达到触控效果,解决了现有技术中的难题。
以下,参照附图对实施例进行说明。此外,下面所示的实施例不对权利要求所记载的发明内容起任何限定作用。另外,下面实施例所表示的构成的全部内容不限于作为权利要求所记载的发明的解决方案所必需的。
本具体实施方式提供的加工防静电层的方法,包括:首先,利用高速运动的电子击打高阻靶材,使高阻靶材析出高阻物质;再使高阻物质附着在触摸屏1的表面,形成防静电层2。由于利用该方法形成的防静电层2,在其内部物质结构之间不能形成完全的闭合回路,因此电子不能完全的运动,即控制了防静电层2的导电性能,使其介于导电和绝缘之间,既能达到屏蔽的作用,又能使触摸屏1满足触控效果;且还可以通过控制防静电层2的厚度,来控制其导电能力。故,利用本加工防静电层的方法制作出的防静电层2,能够使触摸屏1在满足屏蔽能力的同时、达到触控效果,解决了现有技术中的难题。在实际进行整装时,在附着有防静电层2的触摸屏1的上层为第一偏光片3,在其下层为第二偏光片4,在第一偏光片3的上为粘胶层5,最后与电子设备的外屏相粘合。详情请如图所示。
本具体实施方式提供的加工防静电层的方法,使高阻靶材析出高阻物质所采用的工艺可以为溅射,或者其他能够起到同等作用的工艺。
本具体实施方式提供的加工防静电层的方法,制作防静电层2的工艺可以为镀膜,或者其他能够起到同等作用的工艺。
本具体实施方式提供的加工防静电层的方法,为了更好的控制触摸屏的导电性和触控效果,防静电层2的厚度以均匀一致为最佳,其厚度可以选在0.01μm-0.1μm之间的某个值。
需要说明的是,设有由本发明公开的加工防静电层的方法制作而成的防静电层的电子设备,也在本发明的权利保护范围内。
对所公开的实施例的上述说明,使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的,本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下,在其它实施例中实现。因此,本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例,而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (6)

1.一种加工防静电层的方法,其特征在于,包括:
步骤1:利用电子击打高阻靶材,使所述高阻靶材析出高阻物质;
步骤2:使所述高阻物质附着在触摸屏(1)的表面,形成防静电层(2)。
2.根据权利要求1所述加工防静电层的方法,其特征在于,所述步骤1采用溅射工艺使电子击打所述高阻靶材。
3.根据权利要求1所述加工防静电层的方法,其特征在于,所述步骤2采用镀膜工艺使所述高阻物质附着在触摸屏(1)上。
4.根据权利要求1所述加工防静电层的方法,其特征在于,所述防静电层(2)的厚度均匀一致。
5.根据权利要求1所述加工防静电层的方法,其特征在于,所述防静电层(2)的厚度在0.01μm-0.1μm之间。
6.一种电子设备,其特征在于,设有防静电层,所述防静电层通过如权利要求1-5所述的加工防静电层的方法制得。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108089752A (zh) * 2017-12-28 2018-05-29 信利半导体有限公司 一种ips型触摸显示模组和显示装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105951046A (zh) * 2016-05-19 2016-09-21 昆明理工大学 一种ito薄膜的制备方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105951046A (zh) * 2016-05-19 2016-09-21 昆明理工大学 一种ito薄膜的制备方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
李东平 等: "ITO高阻薄膜的制备及光电特性研究", 《第八届华东三省一市真空学术交流会论文集》 *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108089752A (zh) * 2017-12-28 2018-05-29 信利半导体有限公司 一种ips型触摸显示模组和显示装置

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