CN106125389B - 一种彩膜基板及其驱动方法、显示面板及显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种彩膜基板及其驱动方法、显示面板及显示装置，用以解决现有技术中存在传统黑矩阵无法有效改善遮蔽区域漏光的问题。本发明包括在基底的正投影分别位于各沿第一方向延伸和/或沿第二方向延伸的黑矩阵条两侧的第一可控遮挡部和第二可控遮挡部，在不改变现有黑矩阵条宽度的前提下，能够通过控制遮蔽区域的可控遮挡部呈遮光状，以实现遮挡信号线的遮蔽区域由于取向不均匀而导致的漏光的目的；同时，针对非遮蔽区域的可控遮挡部，保持其呈透明状，以保证一定的开口率。从而，有效改善信号线的遮蔽区域漏光的问题，提升显示品质。

Description

一种彩膜基板及其驱动方法、显示面板及显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种彩膜基板及其驱动方法、显示面板及显示装置。

背景技术

现有技术中，由于薄膜晶体管基板上的膜层种类和膜厚不同，造成基板膜层表面存在高低起伏的固有形貌，这种不平整的形貌会严重影响取向工艺的均一性；参照图1(a)所示，为经过取向工艺后的一个像素单元的俯视图，该像素单元A被数据线11、数据线12以及栅线13、栅线14围设而成，其中，取向方向为虚线箭头所示，在进行摩擦取向工艺时，结合图1(b)所示的沿图1(a)中a-a切割线切割得到的剖视图，摩擦轮15在固定位置高速旋转(旋转方向为ω方向)，而基板16沿与取向方向相反的方向移动，从而，使得摩擦轮15在基板16上产生摩擦痕迹，形成所需的取向方向。

然而，考虑到取向方向已经确定，那么，针对该像素单元A而言，由于数据线的存在而导致基板表面有落差，进而，数据线11、栅线13靠近像素单元A的一侧边形成遮蔽区域x1，数据线12、栅线14靠近像素单元A的一侧边形成非遮蔽区域(未示出)；在取向工艺进行时，参照图1(b)所示，摩擦轮15上的摩擦布的绒毛能够充分接触摩擦迎面相对的非遮蔽区域，而无法充分接触摩擦遮蔽区域x1；从而，这种接触摩擦不均匀会导致遮蔽区域x1锚定能较弱，非遮蔽区域锚定能较强。进一步，遮蔽区域x1的液晶分子排列混乱，非遮蔽区域的液晶分子排列近乎与像素单元A内的排布规则一样有序，因而，遮蔽区域x1易发生漏光等不良现象，影响显示品质。

发明内容

本发明实施例提供一种彩膜基板及其驱动方法、显示面板及显示装置，用以解决现有技术中存在传统黑矩阵无法有效改善遮蔽区域漏光的问题。

本发明实施例采用以下技术方案：

一种彩膜基板，包括：基底，位于所述基底一侧的彩色光阻，黑矩阵，所述黑矩阵包含多个沿第一方向延伸的黑矩阵条以及多个沿与所述第一方向垂直的第二方向延伸的黑矩阵条；还包括：

在所述基底的正投影分别位于各沿所述第一方向延伸和/或沿所述第二方向延伸的黑矩阵条两侧的第一可控遮挡部和第二可控遮挡部；且在所述彩膜基板处于工作状态时，位于同一所述黑矩阵条两侧的所述第一可控遮挡部和所述第二可控遮挡部其中一呈透明状，另一至少部分呈遮光状。

可选地，所述第一可控遮挡部与所述第二可控遮挡部在所述基底上的正投影与相应的黑矩阵条在所述基底上的正投影无缝衔接。

该技术方案可提升遮挡黑矩阵条任一侧漏光的效果，有效改善漏光问题。

可选地，各所述黑矩阵条与所述彩色色阻同层且位于彩色光阻之间的缝隙处，所述第一可控遮挡部和第二可控遮挡部位于所述基底的另一侧。

可选地，各黑矩阵条位于所述基底的另一侧；所述第一可控遮挡部和所述第二可控遮挡部与相应的黑矩阵条位于所述基底的同侧。

可选地，所述第一可控遮挡部和所述第二可控遮挡部与相应的黑矩阵条位于同一平面上，且相接触。

由于黑矩阵条与可控遮挡层同层，从而，避免了光在彩膜基板内行进时造成的散射等问题，更为有效的实现对信号线边缘区域漏光的遮挡。

可选地，各所述第一可控遮挡部和第二可控遮挡部包含多个可控遮挡条，其中，所述多个可控遮挡条相互绝缘且并排设置。

该技术方案可提升遮挡漏光的精准度，实现对不同漏光现象的处理，有效提升改善的效率。

可选地，位于同一所述黑矩阵条两侧的所述第一可控遮挡部和所述第二可控遮挡部相对于该黑矩阵条呈镜像设置。

该技术方案可保证改善漏光时的均一性。

可选地，各所述各个可控遮挡条的宽度相同。

该方案可保证相邻可控遮挡条之间的调整幅度相同，以便于灵活实现对漏光的遮挡。

可选地，各所述第一可控遮挡部和各所述第二可控遮挡部包括层叠设置的第一透明电极和第二透明电极，以及夹设在所述第一透明电极和所述第二透明电极之间的电致变色层；

其中，所述电致变色层在所述第一透明电极和所述第二透明电极施加电压时呈现透明状，未施加电压时呈现遮光状；或，所述电致变色层在所述第一透明电极和所述第二透明电极施加电压时呈现遮光状，未施加电压时呈现透明状。

可选地，所述第一可控遮挡部以及第二可控遮挡部的宽度取值范围为1.8μm-3.2μm。

该技术方案既可以实现对漏光的有效遮挡，还可以保证像素单元的开口率。

一种显示面板，包括：所述的彩膜基板，以及与所述彩膜基板相对设置的阵列基板，夹设在所述彩膜基板与所述阵列基板之间的液晶层。

该技术方案所涉及的显示面板既实现对漏光区域的遮光作用，又保证了正常区域的开口率。

一种显示装置，包括所述的显示面板。

该技术方案所涉及的显示装置既实现对漏光区域的遮光作用，又保证了正常区域的开口率。

一种驱动权所述的彩膜基板的方法，包括：

在根据彩膜基板的摩擦取向方向确定遮蔽区域和非遮蔽区域之后，将所述遮蔽区域对应的可控遮挡部调整为至少部分遮光，将所述非遮蔽区域对应的可控遮挡部调整为透光。

本发明的有益效果如下：

该技术方案中，在黑矩阵条两侧(可不在同一水平面上)分别设置第一可控遮挡部与第二可控遮挡部，第一可控遮挡部在基底上的正投影与第二可控遮挡部在基底上的正投影分别位于沿第一方向延伸和/或沿第二方向延伸的黑矩阵条两侧，在不改变黑矩阵条的前提下，能够有效控制遮挡信号线的膜层的宽度，具体通过调整黑矩阵条两侧中任一侧的可控遮挡部，使得相应可控遮挡部变为至少部分遮光状，以实现遮挡漏光的目的，同时，针对另一侧的可控遮挡部，使之保持透明状，以保证一定的开口率。这样，针对任一黑矩阵条两侧的区域，可以分别进行调整控制，既实现对漏光的遮挡，又保证了正常区域的开口率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简要介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域的普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1(a)-图1(b)为现有技术中进行取向工艺时的原理示意图；

图2(a)为本发明实施例提供的彩膜基板的剖面结构示意图之一；

图2(b)为图2(a)所示的彩膜基板贴合阵列基板后形成的显示面板示意图；

图3(a)-图3(c)分别为本发明所涉及的三种类型的彩膜基板的俯视结构示意图；

图4为本发明实施例提供的彩膜基板的剖面结构示意图之二；

图5(a)-图5(b)为第一可控遮挡部与第二可控遮挡部的具体结构示意图；

图6为本发明实施例提供的彩膜基板的剖面结构示意图之三；

图7(a)为可控遮挡部在工作状态时的原理示意图；

图7(b)为可控遮挡部在非工作状态时的原理示意图；

图8为本发明实施例提供的显示面板的结构示意图。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。

下面通过具体的实施例对本发明所涉及的技术方案进行详细描述，本发明包括但并不限于以下实施例。

如图2(a)所示，为本发明实施例提供的彩膜基板的剖面结构示意图，该彩膜基板主要包括：基底21，位于基底21一侧的彩色光阻22，黑矩阵23，其中，该黑矩阵23包含多个沿第一方向延伸的黑矩阵条231以及多个沿与第一方向垂直的第二方向延伸的黑矩阵条231；此外，该彩膜基板还包括：在基底的正投影分别位于各沿第一方向延伸和/或沿第二方向延伸的黑矩阵条231两侧的第一可控遮挡部24和第二可控遮挡部25，在彩膜基板处于工作状态时，位于同一黑矩阵条两侧的第一可控遮挡部24和第二可控遮挡部25其中一呈透明状，另一至少部分呈遮光状；为了更好的说明本发明彩膜基板的结构以及该结构所能达到的技术效果，可结合图2(b)中由图2(a)所示的彩膜基板贴合阵列基板后形成的显示面板示意图，黑矩阵条231在与彩膜基板A相对设置的阵列基板B上的正投影覆盖阵列基板B的信号线L1；第一可控遮挡部24与第二可控遮挡部25均沿信号线L1方向延伸，在此需要说明的是，信号线L1的方向为图示中垂直于剖面的方向；第一可控遮挡部24在基底21上的正投影与第二可控遮挡部25在基底21上的正投影分别位于黑矩阵条231的两侧，以实现在彩膜基板处于工作状态时，位于同一黑矩阵条两侧的第一可控遮挡部和第二可控遮挡部其中一呈透明状，另一至少部分呈遮光状。

需要说明的是，上述实施例中所涉及的黑矩阵条的位置并不限于上述图示2(a)中表示的位置，其仅作为一个示例来说明。

在本发明实施例中，第一可控遮挡部与第二可控遮挡部是分设在黑矩阵条两侧的，而黑矩阵中的黑矩阵条是分别沿第一方向以及第二方向延伸的，那么，第一可控遮挡部与第二可控遮挡部的具体图案可以包括以下类型：

类型1：仅在沿第一方向延伸的黑矩阵条的两侧设置有第一可控遮挡部和第二可控遮挡部

具体地，参照图3(a)所示，该方案中黑矩阵呈网格排布，具体的排布方式可以是同层设置也可以是异层设置，需要根据实际的设计需求设置。在每个沿第一方向(例如为数据线延伸方向)延伸的黑矩阵条231两侧，布设有第一可控遮挡部24和第二可控遮挡部25，从而，实现对数据线两侧可能出现的漏光的遮挡。

类型2：仅在沿第二方向延伸的黑矩阵条的两侧设置有第一可控遮挡部和第二可控遮挡部

参照图3(b)所示，在每个沿第二方向(例如栅线延伸方向)延伸的黑矩阵条231的两侧，布设有第一可控遮挡部24和第二可控遮挡部25，从而，实现对栅线两侧可能出现的漏光进行遮挡。

类型3：在沿第一方向延伸的黑矩阵条以及沿第二方向延伸的黑矩阵条的两侧均设置有第一可控遮挡部和第二可控遮挡部

参照图3(c)所示，在每个沿第一方向(例如数据线延伸方向)延伸的黑矩阵条231两侧，布设有第一可控遮挡部24和第二可控遮挡部25，同时，在每个沿第二方向(例如栅线延伸方向)延伸的黑矩阵条231两侧，布设有第一可控遮挡部24和第二可控遮挡部25，从而，实现对数据线两侧以及栅线两侧可能出现的漏光进行遮挡。

进一步，基于图3(c)所示的方案，沿第一方向(例如数据线方向)延伸的黑矩阵条231两侧设置的第一可控遮挡部24、第二可控遮挡部25与沿第二方向(例如栅线方向)延伸的黑矩阵条231两侧的第一可控遮挡部24、第二可控遮挡部25同层设置，且在交叉区域绝缘跨接。从而，实现了同时对数据线两侧以及栅线两侧可能出现的漏光进行遮挡，而且，还通过绝缘跨接防止相互干扰。

通过该技术方案，在彩膜基板的黑矩阵条两侧(可不在同一水平面上)分别设置第一可控遮挡部、第二可控遮挡部，在不改变现有黑矩阵宽度的前提下，能够通过控制可控遮挡部实现遮挡信号线任一侧由于取向不均匀而导致的漏光的目的；具体地，在彩膜基板处于工作状态时，位于同一所述黑矩阵条两侧的所述第一可控遮挡部和所述第二可控遮挡部，其中对应遮蔽区域的可控遮挡部至少部分呈遮光状，以实现遮挡漏光的目的，同时，对应非遮蔽区域的可控遮挡部呈透明状，以保证一定的开口率。

可选地，在本发明实施例中，参照图2(a)所示，第一可控遮挡部24与第二可控遮挡部25在基底上的正投影与相应的黑矩阵条231在基底上的正投影无缝衔接。考虑到在信号线的两侧，越是靠近信号线的位置处，其在进行摩擦取向工艺时被接触的可能性就越小，因而，该处的锚定能越弱，进而导致此处易发生漏光；由此，第一可控遮挡部24与第二可控遮挡部25与黑矩阵条231无缝衔接，可提升遮挡信号线任一侧漏光的效果，有效改善漏光问题。

基于上述实施例所提供的彩膜基板的结构，下面根据黑矩阵条的具体位置可进一步存在以下两种彩膜基板结构：

结构1：

参照图4所示，各黑矩阵条231与彩色光阻22同层且位于彩色光阻22之间的缝隙处，第一可控遮挡部24和第二可控遮挡部25位于基底21的另一侧。

结构2：

参照图2(a)所示，各黑矩阵条231位于基底21的另一侧，其中，第一可控遮挡部24与第二可控遮挡部25与相应的黑矩阵条231位于基底的同侧。

优选地，仍参照图2(a)所示，第一可控遮挡部24和第二可控遮挡部25与相应的黑矩阵条231位于同一平面上，且相接触。

由于黑矩阵条与可控遮挡部同层，从而，避免了光在彩膜基板内行进时造成的散射等问题，更为有效的实现对信号线边缘区域漏光的遮挡。

在本发明实施例中，第一可控遮挡部和第二可控遮挡部中包含可控遮挡条：

一种可实现的方案，第一可控遮挡部与第二可控遮挡部均包含一个可控遮挡条，参照图5(a)所示，第一可控遮挡部24包含一个可控遮挡条L1，第二可控遮挡部25包含一个可控遮挡条R1，其实，可以理解为第一可控遮挡部24为可控遮挡条L1，第二可控遮挡部25为可控遮挡条R1。

另一种可实现的方案，各第一可控遮挡部和各第二可控遮挡部包含多个可控遮挡条，其中，多个可控遮挡条相互绝缘且并排设置。参照图5(b)所示，第一可控遮挡部24包含可控遮挡条L1、可控遮挡条L2、可控遮挡条L3；第二可控遮挡部25包含可控遮挡条R1、可控遮挡条R2、可控遮挡条R3。图5(b)中示出的第一可控遮挡部和第二可控遮挡部包含了相等个数的可控遮挡条，其实，本发明并不限于此，还涵盖第一可控遮挡部和第二可控遮挡部包含不相等个数的可控遮挡条的方案。

其实，考虑到遮光特性，第一可控遮挡部与第二可控遮挡部中每个可控遮挡部仅包含一个可控遮挡条，即可实现对信号线任一侧的漏光的遮挡。因此，图5(a)所示的结构较为简单，实现较为便捷。然而，考虑到液晶分子的排布不规则性，每次施加电压后的偏转方向以及偏转程度可能不一致，进而，会导致漏光程度以及宽度不一致，因而，本发明为了提升遮挡漏光的精准度，第一可控遮挡部与第二可控遮挡部中每个可控遮挡部可以包含多个可控遮挡条，从而，实现对不同漏光现象的处理，有效提升改善的效率。

需要说明的是，为了便于说明，在图5(a)-图5(b)中，第一可控遮挡部24和第二可控遮挡部25分别以虚线框表示，且以黑矩阵条的中轴线(图中虚线条所示)为界限分设在黑矩阵条(未示出)两侧。

一般情况下，针对同一信号线，其任意一侧的边缘成为遮蔽区域的可能性是相等的，因此，为了保证改善漏光时的均一性，可选地，基于图5(b)所示的方案，位于同一黑矩阵条231两侧的第一可控遮挡部24和第二可控遮挡部25相对于该黑矩阵条呈镜像设置。具体参照图5(b)所示，第一可控遮挡部24中包含可控遮挡条L1、可控遮挡条L2、可控遮挡条L3；第二可控遮挡部25中包含可控遮挡条R1、可控遮挡条R2、可控遮挡条R3；其中，可控遮挡条L1与可控遮挡条R1以黑矩阵条231的轴线对称设置，同理，可控遮挡条L2与可控遮挡条R2以黑矩阵条231的轴线对称设置，可控遮挡条L3与可控遮挡条R3以黑矩阵条231的轴线对称设置。

可选地，在本发明实施例中，参照图6所示，第一可控遮挡部24和第二可控遮挡部25中的各个可控遮挡条的宽度相同，从而，保证相邻可控遮挡条之间的调整幅度相同，以便于灵活实现对漏光的遮挡。

在本发明实施例中，各第一可控遮挡部和各第二可控遮挡部可以为其他可实现透明与非透明的膜层结构，可选地，参照图7(a)-图7(b)所示，以第一可控遮挡部为例，该第一可控遮挡部包括层叠设置的第一透明电极201和第二透明电极202，以及夹设在第一透明电极201和第二透明电极202之间的电致变色层203；其中，电致变色层203在第一透明电极201和第二透明电极202施加电压时呈现透明状，未施加电压时呈现遮光状；或，电致变色层203在第一透明电极201和第二透明电极202施加电压时呈现遮光状，未施加电压时呈现透明状。需要说明的是，图7(a)与图7(b)仅以电致变色层203在第一透明电极201和第二透明电极202施加电压时呈现遮光状，未施加电压时呈现透明状为例。其中，电致变色层的材料为有机导电聚合物，在电致变色层两侧的电极施加有电压时，电致变色材料对光线的反射率和吸收率提高，对光线的透过率降低，在外观上体现为黑色；当取消施加在电致变色层两侧的电极上的电压时，电致变色材料对光线的反射率和吸收率降低，对光线的透过率提高，在外观上体现为透明。另外，需要说明的是，当可控遮挡部为上述电致变色结构时，第一可控遮挡部以及第二可控遮挡部需设置在彩膜基板的出光侧；由于第一可控遮挡部以及第二可控遮挡部需要施加电压才可以工作，因而，设置于彩膜基板的出光侧，一方面可以避免对其他膜层的干扰，另一方面，可以降低布线复杂度。

可选地，本发明实施例中所涉及的第一可控遮挡部以及第二可控遮挡部的宽度取值范围为1.8μm-3.2μm，厚度取值范围为1μm-1.7μm；可选地，第一可控遮挡部以及第二可控遮挡部的宽度具体为3μm，从而，既可以实现对漏光的有效遮挡，还可以保证像素单元的开口率。

进一步，依据上述各个实施例可知，为了实现更为精确的遮挡控制，第一可控遮挡部、第二可控遮挡部中的各个可控遮挡条分别连接不同的控制端；这样，就可以根据实际的漏光区域确定第一可控遮挡部或第二可控遮挡部中对应的可控遮挡条的个数，一般情况下，会按照由靠近信号线至远离信号线的顺序，例如：参照图6所示，第一可控遮挡部对应遮蔽区域，若该遮蔽区域的漏光情况严重，则可同时控制可控遮挡条L1、可控遮挡条L2、可控遮挡条L3呈遮光状；若该遮蔽区域的漏光情况不严重，则可仅控制可控遮挡条L1为遮光状，或者，控制可控遮挡条L1、可控遮挡条L2呈透明状。

同理，本发明还提供了一种显示面板，参照图8所示，该显示面板包括：上述任一实施例所涉及的彩膜基板P1，以及与彩膜基板P1相对设置的阵列基板P2，夹设在彩膜基板P1与阵列基板P2之间的液晶层P3。该显示面板中的彩膜基板P1能够实现对由于取向不均匀而导致信号线边缘漏光的遮挡的目的。

此外，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的任意一种显示面板，其中，所述显示装置可以为手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。对于该显示装置的其它必不可少的组成部分均为本领域的普通技术人员应该理解具有的，在此不做赘述，也不应作为对本发明的限制。

同时，本发明实施例还提供了一种驱动上述的彩膜基板的方法，主要包括：在根据彩膜基板的摩擦取向方向确定遮蔽区域和非遮蔽区域之后，将所述遮蔽区域对应的可控遮挡部调整为至少部分遮光，将所述非遮蔽区域对应的可控遮挡部调整为透光。

尽管已描述了本发明的优选实施例，但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念，则可对这些实施例作出另外的变更和修改。所以，所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本发明范围的所有变更和修改。

显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (12)

1.一种彩膜基板，包括：基底，位于所述基底一侧的彩色光阻，黑矩阵，所述黑矩阵包含多个沿第一方向延伸的黑矩阵条以及多个沿与所述第一方向垂直的第二方向延伸的黑矩阵条；其特征在于，还包括：

在所述基底的正投影分别位于各沿所述第一方向延伸和/或沿所述第二方向延伸的黑矩阵条两侧的第一可控遮挡部和第二可控遮挡部；且在所述彩膜基板处于工作状态时，位于同一所述黑矩阵条两侧的所述第一可控遮挡部和所述第二可控遮挡部其中一呈透明状，另一至少部分呈遮光状；

其中，所述第一可控遮挡部和所述第二可控遮挡部分别包含多个可控遮挡条，所述多个可控遮挡条相互绝缘且并排设置，且每个可控遮挡条分别连接不同的控制端。

2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一可控遮挡部与所述第二可控遮挡部在所述基底上的正投影与相应的黑矩阵条在所述基底上的正投影无缝衔接。

3.如权利要求1或2所述的彩膜基板，其特征在于，各所述黑矩阵条与所述彩色光阻同层且位于彩色光阻之间的缝隙处，所述第一可控遮挡部和第二可控遮挡部位于所述基底的另一侧。

4.如权利要求1或2所述的彩膜基板，其特征在于，各所述黑矩阵条位于所述基底的另一侧；所述第一可控遮挡部和所述第二可控遮挡部与相应的黑矩阵条位于所述基底的同侧。

5.如权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一可控遮挡部和所述第二可控遮挡部与相应的黑矩阵条位于同一平面上，且相接触。

6.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，位于同一所述黑矩阵条两侧的所述第一可控遮挡部和所述第二可控遮挡部相对于该黑矩阵条呈镜像设置。

7.如权利要求6所述的彩膜基板，其特征在于，各所述可控遮挡条的宽度相同。

8.如权利要求1或2所述的彩膜基板，其特征在于，各所述第一可控遮挡部和各所述第二可控遮挡部包括：层叠设置的第一透明电极和第二透明电极，以及夹设在所述第一透明电极和所述第二透明电极之间的电致变色层；

其中，所述电致变色层在所述第一透明电极和所述第二透明电极施加电压时呈现透明状，未施加电压时呈现遮光状；或，所述电致变色层在所述第一透明电极和所述第二透明电极施加电压时呈现遮光状，未施加电压时呈现透明状。

9.如权利要求1或2所述的彩膜基板，其特征在于，各所述第一可控遮挡部与各所述第二可控遮挡部的宽度取值范围为1.8μm-3.2μm。

10.一种显示面板，其特征在于，包括：权利要求1-9任一项所述的彩膜基板，以及与所述彩膜基板相对设置的阵列基板，夹设在所述彩膜基板与所述阵列基板之间的液晶层。

11.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求10所述的显示面板。

12.一种权利要求1-9任一项所述的彩膜基板的驱动方法，其特征在于，包括：

在根据彩膜基板的摩擦取向方向确定遮蔽区域和非遮蔽区域之后，将所述遮蔽区域对应的可控遮挡部调整为至少部分遮光，将所述非遮蔽区域对应的可控遮挡部调整为透光。