CN106079861A - 晶体硅印刷遮边网版及其对位结构 - Google Patents

晶体硅印刷遮边网版及其对位结构 Download PDF

Info

Publication number
CN106079861A
CN106079861A CN201610695036.5A CN201610695036A CN106079861A CN 106079861 A CN106079861 A CN 106079861A CN 201610695036 A CN201610695036 A CN 201610695036A CN 106079861 A CN106079861 A CN 106079861A
Authority
CN
China
Prior art keywords
screen
half tone
cover side
crystalline silicon
area
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201610695036.5A
Other languages
English (en)
Inventor
王国良
李琪鹏
豆福来
焦国涛
高岩
李子龙
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
KUNSHAN SUPERIOR SILK PRINTING MATERIAL CO Ltd
Original Assignee
KUNSHAN SUPERIOR SILK PRINTING MATERIAL CO Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by KUNSHAN SUPERIOR SILK PRINTING MATERIAL CO Ltd filed Critical KUNSHAN SUPERIOR SILK PRINTING MATERIAL CO Ltd
Priority to CN201610695036.5A priority Critical patent/CN106079861A/zh
Publication of CN106079861A publication Critical patent/CN106079861A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41F—PRINTING MACHINES OR PRESSES
    • B41F15/00—Screen printers
    • B41F15/14—Details
    • B41F15/34—Screens, Frames; Holders therefor
    • B41F15/36—Screens, Frames; Holders therefor flat
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41F—PRINTING MACHINES OR PRESSES
    • B41F15/00—Screen printers
    • B41F15/14—Details

Abstract

本发明公开了一种晶体硅印刷遮边网版及其对位结构，在菲林胶片的四周边缘对应网框和丝网的连接位置处设有遮光区域，从而在网版边缘形成遮边区域，克服了传统菲林胶片没有遮光区域，晒版过程中紫外线光对整个网版印刷面全方位曝光，而在网版和丝网的交界区域存在大量因涂布过程造成不可避免的感光乳剂残留，经过晒版、显影环节不能完全彻底的把残留感光乳剂冲洗干净，导致成品网版依然存在部分残留感光乳剂，从而导致网版印刷过程中，残留乳剂出现颗粒状脱落，混入印刷银浆中，对浆料造成严重污染，随之导致晶体硅印刷出现堵孔、EL增加、电性能降低、不良片增多、浆料浪费等一系列严重问题，降低电池片等级，单价降低，成本严重提高。

Description

晶体硅印刷遮边网版及其对位结构
技术领域
本发明涉及一种晶体硅印刷遮边网版及其对位结构。
背景技术
传统用于太阳能晶体硅印刷的正面栅线的网版，晒版工序会把网版边缘多余的残留感光胶通过强紫外线彻底固化，导致成品后边缘多余感光胶无法擦拭干净，大面积存在乳剂残留，在网版使用过程中经过刮胶高压力(60-90N/c㎡)多次数摩擦(目前市场上网版平均寿命为25000次)，残留乳剂随着印刷次数的增加，慢慢脱落，掺杂在浆料中，对浆料造成严重污染，从而造成印刷虚印、断栅，直接影响晶体硅的光电转换效率，对银浆造成污染浪费，致使印刷成本增加。
发明内容
为了克服上述缺陷，本发明提供了一种晶体硅印刷遮边网版及其对位结构，解决太阳能晶体硅印刷网版边缘残留乳剂，对印刷效果的影响。
本发明为了解决其技术问题所采用的技术方案是：一种晶体硅印刷遮边网版对位结构，包括网框，该网框上张有丝网，该丝网的待形成图案区域内涂布有感光胶，该网框上对应设有与该网框大小一致的菲林胶片，该菲林胶片对应所述丝网的待形成图案区域设置遮光区域和非遮光区域，该非遮光区域形成与待形成图案区域一致的遮光图案，所述菲林胶片的四周边缘对应所述网框和丝网的连接位置处设有遮光区域。
作为本发明的进一步改进，所述网框上还粘接有聚氨酯网布，所述丝网粘接于该聚氨酯网布上。
作为本发明的进一步改进，所述遮光区为所述聚氨酯网布和丝网重合部分并向内侧延伸4～6mm。
作为本发明的进一步改进，所述丝网为不锈钢钢丝网。
本发明还提供了一种根据所述的晶体硅印刷遮边网版对位结构形成的晶体硅印刷遮边网版，包括网框，该网框上粘接有聚氨酯网布，该聚氨酯网布上粘接有丝网，该丝网中心区域形成图案区域，所述网框内侧聚氨酯网布和丝网的重合部分并向内侧延伸4～6mm形成遮边区域。
本发明的有益效果是：该晶体硅印刷遮边网版及其对位结构通过在菲林胶片上设置遮光区域，克服了传统菲林胶片没有遮光区域，晒版过程中紫外线光对整个网版S面(网版印刷面)全方位曝光，而在网版和丝网的交界区域存在大量因涂布过程造成不可避免的感光乳剂残留，经过晒版机机强紫外线照射以后，显影环节不能完全彻底的把残留感光乳剂冲洗干净，导致成品网版依然存在部分残留感光乳剂，从而导致网版印刷过程中，印刷刮条与网版经过数以万次的高压力(60-100牛顿/平方厘米)反复摩擦，残留乳剂出现颗粒状脱落，混入印刷银浆中，对浆料造成严重污染，随之导致晶体硅印刷出现堵孔、EL增加、电性能降低、不良片增多、浆料浪费等一系列严重问题，降低电池片等级，单价降低，成本严重提高。
本发明菲林胶片的遮光区域完全可以遮挡晒版过程中强紫外线对残留乳剂的照射，使感光乳剂保持本身分子结构不发生化学变化，保持曝光前本身自由的超强的水溶性，从而显影过程中通过高压水淋彻底冲洗掉残留感光乳剂。
附图说明
图1为现有网版结构示意图；
图2为本发明所述遮边网版结构示意图；
图3为现有的菲林胶片结构示意图；
图4为本发明所述菲林胶片结构示意图。
结合附图，作以下说明：
1——网框 2——丝网
21——图案区域 3——菲林胶片
31——遮光图案 32——遮光区域
5——聚氨酯网布 6——遮边区域
具体实施方式
以下结合附图，对本发明的一个较佳实施例作详细说明。但本发明的保护范围不限于下述实施例，即但凡以本发明申请专利范围及说明书内容所作的简单的等效变化与修饰，皆仍属本发明专利涵盖范围之内。
参阅图2、4，一种晶体硅印刷遮边网版对位结构，包括网框1，该网框上张有丝网2，该丝网的待形成图案区域21内涂布有感光胶，该网框上对应设有与该网框大小一致的菲林胶片3，该菲林胶片对应所述丝网的待形成图案区域21设置遮光区域和非遮光区域，该非遮光区域形成与待形成图案区域21一致的遮光图案31，所述菲林胶片的四周边缘对应所述网框和丝网的连接位置处设有遮光区域32。
优选的，所述网框上还粘接有聚氨酯网布5，所述丝网粘接于该聚氨酯网布上；所述遮光区为所述聚氨酯网布和丝网重合部分并向内侧延伸4～6mm；所述丝网2为不锈钢钢丝网。
参阅图2，为本发明所述的晶体硅印刷遮边网版对位结构形成的晶体硅印刷遮边网版，包括网框1，该网框上粘接有聚氨酯网布5，该聚氨酯网布上粘接有丝网2，该丝网中心区域形成图案区域21，所述网框内侧聚氨酯网布和丝网的重合部分并向内侧延伸4～6mm形成遮边区域6。
该晶体硅印刷遮边网版及其对位结构通过在菲林胶片3上设置遮光区域32(参阅图4)，克服了传统菲林胶片没有遮光区域(参阅图3)，晒版过程中紫外线光对整个网版S面(网版印刷面)全方位曝光(参阅图1)，而在网版和丝网的交界区域存在大量因涂布过程造成不可避免的感光乳剂残留，经过晒版机机强紫外线照射以后，显影环节不能完全彻底的把残留感光乳剂冲洗干净，导致成品网版依然存在部分残留感光乳剂，从而导致网版印刷过程中，印刷刮条与网版经过数以万次的高压力(60-100牛顿/平方厘米)反复摩擦，残留乳剂出现颗粒状脱落，混入印刷银浆中，对浆料造成严重污染，随之导致晶体硅印刷出现堵孔、EL增加、电性能降低、不良片增多、浆料浪费等一系列严重问题，降低电池片等级，单价降低，成本严重提高。
本发明菲林胶片3的遮光区域32完全可以遮挡晒版过程中强紫外线对残留乳剂的照射，使感光乳剂保持本身分子结构不发生化学变化，保持曝光前本身自由的超强的水溶性，从而显影过程中通过高压水淋彻底冲洗掉残留感光乳剂。

Claims (5)

1.一种晶体硅印刷遮边网版对位结构，包括网框(1)，该网框上张有丝网(2)，该丝网的待形成图案区域(21)内涂布有感光胶，该网框上对应设有与该网框大小一致的菲林胶片(3)，该菲林胶片对应所述丝网的待形成图案区域(21)设置遮光区域和非遮光区域，该非遮光区域形成与待形成图案区域(21)一致的遮光图案(31)，其特征在于：所述菲林胶片的四周边缘对应所述网框和丝网的连接位置处设有遮光区域(32)。
2.根据权利要求1所述的晶体硅印刷遮边网版对位结构，其特征在于：所述网框上还粘接有聚氨酯网布(5)，所述丝网粘接于该聚氨酯网布上。
3.根据权利要求2所述的晶体硅印刷遮边网版对位结构，其特征在于：所述遮光区为所述聚氨酯网布和丝网重合部分并向内侧延伸4～6mm。
4.根据权利要求1所述的晶体硅印刷遮边网版对位结构，其特征在于：所述丝网(2)为不锈钢钢丝网。
5.一种根据权利要求1至4中任一项所述的晶体硅印刷遮边网版对位结构形成的晶体硅印刷遮边网版，包括网框(1)，该网框上粘接有聚氨酯网布(5)，该聚氨酯网布上粘接有丝网(2)，该丝网中心区域形成图案区域(21)，其特征在于：所述网框内侧聚氨酯网布和丝网的重合部分并向内侧延伸4～6mm形成遮边区域(6)。
CN201610695036.5A 2016-08-22 2016-08-22 晶体硅印刷遮边网版及其对位结构 Pending CN106079861A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610695036.5A CN106079861A (zh) 2016-08-22 2016-08-22 晶体硅印刷遮边网版及其对位结构

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610695036.5A CN106079861A (zh) 2016-08-22 2016-08-22 晶体硅印刷遮边网版及其对位结构

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN106079861A true CN106079861A (zh) 2016-11-09

Family

ID=58070643

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201610695036.5A Pending CN106079861A (zh) 2016-08-22 2016-08-22 晶体硅印刷遮边网版及其对位结构

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN106079861A (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110271264A (zh) * 2019-07-22 2019-09-24 沃苏特电子科技（苏州）有限公司 一种超精细双立体高分子材料集成网版

Citations (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN201205780Y (zh) * 2008-05-26 2009-03-11 苏州栗田精密制版有限公司 丝网印刷版
CN101636049A (zh) * 2008-07-23 2010-01-27 深圳富泰宏精密工业有限公司 壳体的制作方法
CN101873775A (zh) * 2009-04-27 2010-10-27 深圳富泰宏精密工业有限公司 具编织图纹的壳体及其制作方法
CN102991100A (zh) * 2011-09-15 2013-03-27 昆山良品丝印器材有限公司 晶体硅印刷用复合网版
CN102991099A (zh) * 2011-09-15 2013-03-27 昆山良品丝印器材有限公司 用于晶体硅印刷的复合型网版
CN103176365A (zh) * 2011-12-22 2013-06-26 深圳富泰宏精密工业有限公司 菲林及其制作方法，应用该菲林进行遮蔽的方法
CN103640328A (zh) * 2013-12-14 2014-03-19 福州大学 一种高稳定性的精密复合网版
CN103707626A (zh) * 2013-12-16 2014-04-09 昆山良品丝印器材有限公司 印刷用复合网版
US20140127612A1 (en) * 2012-11-06 2014-05-08 Industry-Academic Cooperation Foundation, Yonsei University Photomask for exposure and method of manufacturing pattern using the same
CN104057690A (zh) * 2014-06-30 2014-09-24 太仓市虹鹰印花有限公司 一种印花用平网网版
CN203995011U (zh) * 2014-08-18 2014-12-10 邓国山 一种大幅背景墙画组合式施工专业模具
CN105172345A (zh) * 2015-09-10 2015-12-23 苏州蓝昇精密制版科技有限公司 一种太阳能电池印刷丝网网版及其制版方法
CN105269995A (zh) * 2015-09-15 2016-01-27 赫日光电（苏州）有限公司 一种基于复合网版的平滑镜面处理工艺
US20160109794A1 (en) * 2014-10-20 2016-04-21 Il-yong Jang Photomask and method of forming the same and methods of manufacturing electronic device and display device using the photomask
CN205210508U (zh) * 2015-10-30 2016-05-04 江西鸿格科技有限公司 晒版防镂空脱落菲林片
CN205220028U (zh) * 2015-12-21 2016-05-11 卫巍 丝网印刷版
CN206011976U (zh) * 2016-08-22 2017-03-15 昆山良品丝印器材有限公司 晶体硅印刷遮边网版及其对位结构

Patent Citations (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN201205780Y (zh) * 2008-05-26 2009-03-11 苏州栗田精密制版有限公司 丝网印刷版
CN101636049A (zh) * 2008-07-23 2010-01-27 深圳富泰宏精密工业有限公司 壳体的制作方法
CN101873775A (zh) * 2009-04-27 2010-10-27 深圳富泰宏精密工业有限公司 具编织图纹的壳体及其制作方法
CN102991100A (zh) * 2011-09-15 2013-03-27 昆山良品丝印器材有限公司 晶体硅印刷用复合网版
CN102991099A (zh) * 2011-09-15 2013-03-27 昆山良品丝印器材有限公司 用于晶体硅印刷的复合型网版
CN103176365A (zh) * 2011-12-22 2013-06-26 深圳富泰宏精密工业有限公司 菲林及其制作方法，应用该菲林进行遮蔽的方法
US20140127612A1 (en) * 2012-11-06 2014-05-08 Industry-Academic Cooperation Foundation, Yonsei University Photomask for exposure and method of manufacturing pattern using the same
CN103640328A (zh) * 2013-12-14 2014-03-19 福州大学 一种高稳定性的精密复合网版
CN103707626A (zh) * 2013-12-16 2014-04-09 昆山良品丝印器材有限公司 印刷用复合网版
CN104057690A (zh) * 2014-06-30 2014-09-24 太仓市虹鹰印花有限公司 一种印花用平网网版
CN203995011U (zh) * 2014-08-18 2014-12-10 邓国山 一种大幅背景墙画组合式施工专业模具
US20160109794A1 (en) * 2014-10-20 2016-04-21 Il-yong Jang Photomask and method of forming the same and methods of manufacturing electronic device and display device using the photomask
CN105172345A (zh) * 2015-09-10 2015-12-23 苏州蓝昇精密制版科技有限公司 一种太阳能电池印刷丝网网版及其制版方法
CN105269995A (zh) * 2015-09-15 2016-01-27 赫日光电（苏州）有限公司 一种基于复合网版的平滑镜面处理工艺
CN205210508U (zh) * 2015-10-30 2016-05-04 江西鸿格科技有限公司 晒版防镂空脱落菲林片
CN205220028U (zh) * 2015-12-21 2016-05-11 卫巍 丝网印刷版
CN206011976U (zh) * 2016-08-22 2017-03-15 昆山良品丝印器材有限公司 晶体硅印刷遮边网版及其对位结构

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110271264A (zh) * 2019-07-22 2019-09-24 沃苏特电子科技（苏州）有限公司 一种超精细双立体高分子材料集成网版

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105269995A (zh) 一种基于复合网版的平滑镜面处理工艺
TW440475B (en) Method for cleaning photomask and cleaning device
CN106274039B (zh) 晶体硅印刷网版及其制版工艺
CN105346213B (zh) 具有漏斗状开口的复合网版及其制作方法
CN109094177A (zh) 一种无网结印刷网版的制版工艺
CN106827781A (zh) 一种高效无网结网版的制作方法
CN104669776A (zh) 一种复合钢丝网版及其制备方法
CN106079861A (zh) 晶体硅印刷遮边网版及其对位结构
CN106494074A (zh) 一种丝网印刷版的制备方法
CN206011976U (zh) 晶体硅印刷遮边网版及其对位结构
CN102819187B (zh) 单片玻璃及单层玻璃黑色矩阵的光刻生产工艺
CN102049898A (zh) 液体壁纸丝网模具的生产技术
CN206011975U (zh) 晶体硅印刷网版
CN106739600B (zh) 热固油墨印花工艺
CN103448350A (zh) 一种精密网版砂刻处理方法
CN101537762A (zh) 家庭装饰胶贴制作方法
CN105172345B (zh) 一种太阳能电池印刷丝网网版及其制版方法
CN106054534A (zh) 一种网版的印刷工艺
CN104924737A (zh) 一种丝网印刷制版工艺
CN104818627B (zh) 一种带有感温感光变色圆网印花的方法
CN208993260U (zh) 一种减少丝印漏料的网版
JP2005514234A (ja) シルクスクリーン印刷方法
CN205044285U (zh) 具有漏斗状开口的复合网版
US2131225A (en) Process of manufacturing a photographic stencil
CN208721978U (zh) 一种印染图案紫外光辐射设备的光线补偿装置

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20161109

RJ01 Rejection of invention patent application after publication