CN106019692B - 一种显示基板、显示装置及制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种显示基板、显示装置及制作方法，该显示基板的制作方法包括：形成偏光层，所述偏光层采用的材料为掺杂有偏光材料的胶体。本发明实施例中，在形成显示基板的过程中形成偏光层，用于代替现有技术中的偏光片，从而无需使用单独的贴附工艺设备将偏光片贴附在显示面板上，从而减少了显示装置的制作工艺。另外，位于显示基板中的膜层的厚度要小于偏光片的厚度，因而有利于实现轻薄化的显示装置。

Description

一种显示基板、显示装置及制作方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示基板、显示装置及制作方法。
背景技术
因显示原理或者优化显示效果的需要，偏光片已成为显示装置不可或缺的部件，例如LCD(液晶显示装置)需要使用偏光片实现成像，OLED(有机发光二极管)显示装置则会使用偏光片防止金属反光从而优化显示效果。
目前的显示装置制作过程中，偏光片通常是采用贴附工艺最后形成在显示面板(panel)上。偏光片作为单独的资材，其需要单独的工艺设备去与显示面板结合，增加了显示装置的制作工艺。另外，偏光片具有一定的厚度，对显示装置的轻薄化有一定的影响。
发明内容
有鉴于此，本发明提供一种显示基板、显示装置及制作方法，用于解决现有的偏光片与显示面板集合制作工艺复杂，且制作的显示装置厚度大的问题。
为解决上述技术问题，本发明提供一种显示基板的制作方法，包括：
形成偏光层，所述偏光层采用的材料为掺杂有偏光材料的胶体。
优选地，所述形成偏光层的步骤包括：
涂覆掺杂有偏光材料的胶体，并进行平坦化处理，形成偏光层。
优选地，所述胶体为光刻胶，所述形成偏光层的步骤包括：
形成显示基板的预定功能层材料薄膜；
在所述预定功能层材料薄膜上涂覆掺杂有偏光材料的光刻胶，形成光刻胶层；
对所述光刻胶层进行曝光并显影，形成光刻胶层图形；
以所述光刻胶层图形为掩膜，对所述预定功能层材料薄膜进行刻蚀，形成预定功能层的图形；
对所述光刻胶层图形进行平坦化处理，形成覆盖所述显示基板的显示区域的偏光层。
优选地，采用热压工艺对掺杂有偏光材料的胶体进行平坦化处理，形成偏光层；或者
利用溶液将掺杂有偏光材料的胶体融化并平坦固化，形成偏光层；或者
将掺杂有偏光材料的胶体热熔并平坦固化，形成偏光层。
优选地，所述偏光材料为聚乙烯醇或二色性有机染料。
优选地，所述形成偏光层的步骤之前还包括：
采用高温熔融或溶剂掺杂的方式将所述偏光材料和胶体进行掺杂，形成用于制作所述偏光层的材料。
本发明还提供一种显示装置的制作方法，包括采用上述显示基板的制作方法制作所述显示装置的显示基板的步骤。
优选地，所述显示基板为彩膜基板，所述方法具体包括：
在所述彩膜基板的衬底基板的一侧形成透明导电材料薄膜；
在所述透明导电材料薄膜上涂覆掺杂有偏光材料的光刻胶，形成光刻胶层；
对所述光刻胶层进行曝光并显影，形成光刻胶层图形；
以所述光刻胶层图形为掩膜，对所述透明导电材料薄膜进行刻蚀，形成触控电极的图形；
对所述光刻胶层图形进行平坦化处理，形成覆盖所述显示装置的显示区域的偏光层。
本发明还提供一种显示基板，采用上述显示基板的制作方法制作而成，所述显示基板包括：
偏光层，所述偏光层采用的材料为掺杂有偏光材料的胶体。
本发明还提供一种显示装置，采用上述显示装置的制作方法制作而成，所述显示装置包括：
形成在所述显示装置的显示基板上的偏光层，所述偏光层采用的材料为掺杂有偏光材料的胶体。
优选地，所述显示基板为彩膜基板；所述显示装置包括：
彩膜基板；
形成在所述彩膜基板的衬底基板的一侧的触控电极；
形成在所述触控电极上的偏光层。
本发明的上述技术方案的有益效果如下：
本发明实施例中，在形成显示基板的过程中形成偏光层，用于代替现有技术中的偏光片，从而无需使用单独的贴附工艺设备将偏光片贴附在显示面板上，从而减少了显示装置的制作工艺。另外，位于显示基板中的膜层的厚度要小于偏光片的厚度，因而有利于实现轻薄化的显示装置。
附图说明
图1-图6为本发明实施例的显示装置的制作方法的流程示意图；
附图标记说明：
100彩膜基板；101衬底基板；102透明导电材料薄膜；102A触控电极的图形；103光刻胶层；103A光刻胶层图形；201掩膜版；300阵列基板；301阵列基板的偏光层。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例的附图，对本发明实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本发明的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
除非另作定义，此处使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本发明专利申请说明书以及权利要求书中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。同样，“一个”或者“一”等类似词语也不表示数量限制，而是表示存在至少一个。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也相应地改变。
本发明实施例提供了一种显示基板的制作方法，包括：形成偏光层，所述偏光层采用的材料为掺杂有偏光材料的胶体。
本发明实施例中，在形成显示基板的过程中形成偏光层，用于代替现有技术中的偏光片，从而无需使用单独的贴附工艺设备将偏光片贴附在显示面板上，从而减少了显示装置的制作工艺。另外，位于显示基板中的膜层的厚度要小于偏光片的厚度，因而有利于实现轻薄化的显示装置。
所述偏光层采用的材料为掺杂有偏光材料的胶体，所述偏光材料可以为聚乙烯醇(PVA)或二色性有机染料。所述胶体可以为光刻胶或者其他类型的胶体。
所述偏光层可以单独形成，即所述形成偏光层的步骤包括：涂覆掺杂有偏光材料的胶体，并进行平坦化处理，形成偏光层。
当所述偏光层采用的胶体为光刻胶时，所述偏光层也可以和显示基板的预定功能层同时形成，下面举例进行说明。
在本发明的一实施例种，所述显示基板的制作方法可以包括：
步骤S11：形成显示基板的预定功能层材料薄膜；
步骤S12：在所述预定功能层材料薄膜上涂覆掺杂有偏光材料的光刻胶，形成光刻胶层；
步骤S13：对所述光刻胶层进行曝光并显影，形成光刻胶层图形；
步骤S14：以所述光刻胶层图形为掩膜，对所述预定功能层材料薄膜进行刻蚀，形成预定功能层的图形；
步骤S15：对所述光刻胶层图形进行平坦化处理，形成覆盖所述显示基板的显示区域的偏光层。
本发明实施例中，在形成显示基板的预定功能层的过程中同时形成偏光层，减少了制作显示基板的工艺步骤。
本发明实施例中，可以采用多种平坦化工艺对掺杂有偏光材料的胶体进行平坦化处理，例如：
采用热压工艺对掺杂有偏光材料的胶体进行平坦化处理，形成偏光层；或者
利用溶液将掺杂有偏光材料的胶体融化并平坦固化，形成偏光层；或者
将掺杂有偏光材料的胶体热熔并平坦固化，形成偏光层。
本发明实施例中，在形成偏光层的步骤之前还可以包括：
采用高温熔融或溶剂掺杂的方式将所述偏光材料和胶体进行掺杂，形成用于制作所述偏光层的材料。
其中，偏光材料和胶体的掺杂比例及反应条件(反应温度)等，需根据偏光片的需求以及光刻条件等而定。
本发明实施例还提供一种显示装置的制作方法，包括采用上述显示基板的制作方法制作所述显示装置的显示基板的步骤。
所述显示基板可以为阵列基板，也可以为彩膜基板。
请参考图1-图6，图1-图6为本发明一实施例的显示装置的制作方法示意图，所述显示装置为on cell touch TFT LCD，所述显示装置的制作方法包括：
步骤S21：请参考图1，在所述彩膜基板的衬底基板101的一侧形成透明导电材料薄膜102；
步骤S22：请参考图2，在所述透明导电材料薄膜102上涂覆掺杂有偏光材料的光刻胶，形成光刻胶层103；
步骤S23：请参考图3，采用一掩膜版201,对所述光刻胶层103进行曝光并显影，形成光刻胶层图形103A；
步骤S24：请参考图4，以所述光刻胶层图形103A为掩膜，对所述透明导电材料薄膜102进行刻蚀，形成触控电极的图形102A；
步骤S25：请参考图5，对所述光刻胶层图形103A进行热压处理，形成覆盖所述显示装置的显示区域的偏光层103B。
其中，所述彩膜基板上还包括滤光层和黑矩阵等膜层，这些膜层可以在形成偏光层之前形成，也可以在形成偏光层之后形成。
步骤S26：请参考图6，将形成的彩膜基板100与形成有偏光层301的阵列基板300进行对盒，形成显示装置。
现有技术中的on cell touch TFT LCD显示装置的形成过程中，形成彩膜基板时，首先在彩膜基板的衬底基板一侧形成触摸电极的图形，具体工艺步骤包括成膜、涂胶、曝光、显影、刻蚀、剥离光刻胶等步骤，然后将彩膜基板与阵列基板对盒，形成显示面板，并最制成的显示面板进行偏光片的贴附，以达到显示效果。
本发明实施例中，在形成彩膜基板上的触摸电极的工艺中，同时形成偏光层，具体工艺步骤包括：成膜、涂胶、曝光、显影、刻蚀、热压等步骤，即形成触摸电极的图形时，并不剥离光刻胶，而是将刻蚀后残余的光刻胶进行热压处理，从而形成带有偏光片功能的偏光复合型触控彩膜基板。
另外，在形成阵列基板时，可以在阵列基板的膜层中选取适合的膜层，或者单独使用涂胶热压工艺形成带有偏光片功能的偏光复合型阵列基板。
本发明实施例还提供一种显示基板，采用上述显示基板的方法制作而成，所述显示基板包括：偏光层，所述偏光层采用的材料为掺杂有偏光材料的胶体。
本发明实施例还提供一种显示装置，采用上述显示装置的制作方法制作而成，所述显示装置包括：形成在所述显示装置的显示基板上的偏光层，所述偏光层采用的材料为掺杂有偏光材料的胶体。
在本发明的一实施例中，所述显示基板为彩膜基板；所述显示装置包括：
彩膜基板；
形成在所述彩膜基板的衬底基板的一侧的触控电极；
形成在所述触控电极上的偏光层。
上述实施例中，由于将偏光层形成于显示基板中，因而无需考虑现有的偏光片对显示面板本身的拉力及偏光片自身的收缩，将偏光层形成于显示基板中更有利于实现可挠型的显示装置。
上述实施例中的显示装置可以为LCD显示装置，也可以为OLED显示装置。
具体的，上述显示装置的类型可以为PM-LCD，AM-LCD，PM-OLED，AM-OLED等等。
以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：
形成偏光层，所述偏光层采用的材料为掺杂有偏光材料的胶体；
所述胶体为光刻胶，所述形成偏光层的步骤包括：
形成显示基板的预定功能层材料薄膜；
在所述预定功能层材料薄膜上涂覆掺杂有偏光材料的光刻胶，形成光刻胶层；
对所述光刻胶层进行曝光并显影，形成光刻胶层图形；
以所述光刻胶层图形为掩膜，对所述预定功能层材料薄膜进行刻蚀，形成预定功能层的图形；
对所述光刻胶层图形进行平坦化处理，形成覆盖所述显示基板的显示区域的偏光层。
2.根据权利要求1所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述形成偏光层的步骤包括：
涂覆掺杂有偏光材料的胶体，并进行平坦化处理，形成偏光层。
3.根据权利要求1或2所述的显示基板的制作方法，其特征在于，
采用热压工艺对掺杂有偏光材料的胶体进行平坦化处理，形成偏光层；或者
利用溶液将掺杂有偏光材料的胶体融化并平坦固化，形成偏光层；或者
将掺杂有偏光材料的胶体热熔并平坦固化，形成偏光层。
4.根据权利要求1所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述偏光材料为聚乙烯醇或二色性有机染料。
5.根据权利要求4所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述形成偏光层的步骤之前还包括：
采用高温熔融或溶剂掺杂的方式将所述偏光材料和胶体进行掺杂，形成用于制作所述偏光层的材料。
6.一种显示装置的制作方法，其特征在于，包括采用如权利要求1-5任一项所述显示基板的制作方法制作所述显示装置的显示基板的步骤。
7.根据权利要求6所述的显示装置的制作方法，其特征在于，所述显示基板为彩膜基板，所述显示基板的制作方法具体包括：
在所述彩膜基板的衬底基板的一侧形成透明导电材料薄膜；
在所述透明导电材料薄膜上涂覆掺杂有偏光材料的光刻胶，形成光刻胶层；
对所述光刻胶层进行曝光并显影，形成光刻胶层图形；
以所述光刻胶层图形为掩膜，对所述透明导电材料薄膜进行刻蚀，形成触控电极的图形；
对所述光刻胶层图形进行平坦化处理，形成覆盖所述显示装置的显示区域的偏光层。
8.一种显示基板，其特征在于，采用如权利要求1-5任一项所述的方法制作而成，所述显示基板包括：
偏光层，所述偏光层采用的材料为掺杂有偏光材料的胶体。
9.一种显示装置，其特征在于，采用如权利要求6或7所述的显示装置的制作方法制作而成，所述显示装置包括：
形成在所述显示装置的显示基板上的偏光层，所述偏光层采用的材料为掺杂有偏光材料的胶体。
10.根据权利要求9所述的显示装置，其特征在于，所述显示基板为彩膜基板；所述显示装置包括：
彩膜基板；
形成在所述彩膜基板的衬底基板的一侧的触控电极；
形成在所述触控电极上的偏光层。
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