CN106011863A - 一种封闭式自体循环的碱性蚀刻液循环再生系统 - Google Patents

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韦建敏
赵兴文
张晓蓓
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Abstract

本发明公开了一种封闭式自体循环的碱性蚀刻液循环再生系统，它包括依次连接的蚀刻线（1）、中转母液罐（2）、母液罐（3）、铜离子无损分离系统（4）、再生子液罐（5）、配液罐（6）、过滤器（7）和子液罐（8），铜离子无损分离系统还连接有一提铜装置（9），蚀刻线（1）、中转母液罐、母液罐、铜离子无损分离系统（4）、再生子液罐（5）、配液罐（6）、过滤器（7）、子液罐（8）、提铜装置（9）上均设置有检测对应部件的检测仪，检测仪与控制器连接，控制器内设置有能将异常信息发给对应负责人的短消息模块。本发明的有益效果是：它具有药液回用率高、安全性能高的优点，实现了蚀刻液封闭式自体循环和平行式无损分离。

Description

一种封闭式自体循环的碱性蚀刻液循环再生系统
技术领域
本发明涉及废液净化循环再生系统，特别是一种封闭式自体循环的碱性蚀刻液循环再生系统。
背景技术
随着电子行业的回暖，中国线路板行业发展随之也普遍回升，据《2009-2012 年中国印刷电路板行业发展与前景预测分析报告》指出，中国将在近年成为世界最大的PCB产业基地，目前占全球市场的30%左右。同时，四川遂宁目前已经是国家审批的“西南电路板（PCB）产业制造基地”，川渝两地方正电子、富士康电子等PCB产业巨头的入驻，沿海大量的线路板厂内迁，PCB 行业将迎来巨大的商机。
印刷电路板时电器和电子产品的重要组件，应用非常普遍，其中蚀刻工序是PCB生产流程中比重最大的一部分，当蚀刻液由于溶解的物质太多而使蚀刻指标（包括速度、侧蚀系数、表面洁净性等）低于工艺要求时，即成为蚀刻废液。
现如今PCB 行业所排放的蚀刻废液量每年呈迅速递增趋势，这使得对蚀刻液循环再生设备的要求也越来越高，总的来说，目前的蚀刻液循环再生设备大多存在效率低、成本高、占地面积大、有三废排出等问题，并且为保证生产能力，极大的提高设备利用率，通常蚀刻过程都为24小时不间断进行，从而对蚀刻液循环再生设备的持续性、安全性、设备维护及时性、检修及时性提出了更高的要求。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术的缺点，提供一种平行式无损分离、药液回用率高和安全性能高的封闭式自体循环的碱性蚀刻液循环再生系统。
本发明的目的通过以下技术方案来实现：一种封闭式自体循环的碱性蚀刻液循环再生系统，它包括依次连接的蚀刻线、中转母液罐、母液罐、铜离子无损分离系统、再生子液罐、配液罐、过滤器、子液罐，所述的子液罐再与蚀刻线连接形成封闭循环，所述的相邻两个部件之间均设置有高压泵，所述的铜离子无损分离系统还连接有一提铜装置，所述的蚀刻线、中转母液罐、母液罐、铜离子无损分离系统、再生子液罐、配液罐、过滤器、子液罐、提铜装置和高压泵上均设置有检测对应部件的检测仪，所述的检测仪与控制器连接，所述的控制器内设置有能将异常信息发给对应负责人的短消息模块。
所述的铜离子无损分离系统包括电解槽和与电解槽相连的温控槽，电解槽上端设有将电解槽和温控槽连通的两根平行的溢流管，电解槽下端设有循环管和出水管，循环管一端与电解槽连通，另一端与温控槽下端连通，循环管上还设有循环泵，出水管上设有控制阀门Ⅰ，所述温控槽底端还设有母液管，母液管上同样设有控制阀门Ⅱ。
所述温控槽的下端还设有排污管，排污管上设有开关阀门，所述排污管与出水管连通。
本发明具有以下优点：本发明的封闭式自体循环的碱性蚀刻液循环再生系统，设置有检测仪，检测仪能将异常信息传递到控制器，控制器能控制其它设备停止工作，且能将异常信息通过短消息模块将其通知对应负责人，从而使得负责人能在第一时间内得知异常信息，且能在第一时间内进行维修，从而提高了该系统的安全性、可靠性，保证了蚀刻液的持续再生，且该循环再生系统，为封闭式自体循环，且采用平行式无损分离技术，从而实现了高品质的药液回用，能满足PCB行业最小线宽2mil的蚀刻，其蚀刻因子提升3~5级。
附图说明
图1 为本发明的结构示意图
图2 为铜离子无损分离系统的结构示意图
图中，1-蚀刻线，2-中转母液罐，3-母液罐，4-铜离子无损分离系统，5-再生子液罐，6-配液罐，7-过滤器，8-子液罐，9-提铜装置，10-溢流管，11-温控槽，12-母液管，13-开关阀门，14-出水管，15-控制阀门Ⅱ，16-循环管，17-循环泵，18-控制阀门Ⅰ，19-电解槽。
具体实施方式
下面结合附图对本发明做进一步的描述，本发明的保护范围不局限于以下所述：
如图1所示，一种封闭式自体循环的碱性蚀刻液循环再生系统，它包括依次连接的蚀刻线1、中转母液罐2、母液罐3、铜离子无损分离系统4、再生子液罐5、配液罐6、过滤器7、子液罐8，所述的子液罐8再与蚀刻线1连接形成封闭循环，所述的相邻两个部件之间均设置有高压泵，所述的铜离子无损分离系统还连接有一提铜装置9，在本实施例中，蚀刻线1使用过的蚀刻废液即处理的母液经初步过滤沉淀后通过高压泵送入中转母液罐2，中转母液罐2将母液通过高压泵送入母液罐3内储存并定量将母液输入到铜离子无损分离系统4内，通过铜离子无损分离系统4的电解将母液内的铜离子还原成铜，铜依附在铜离子无损分离系统4内的阴极板内，电解后的母液即为再生子液，再生子液泵的作用下再依次送入到再生子液罐5、配液罐6、过滤器7、子液罐8内，最后子液罐8内的子液再送入到蚀刻线1内即形成循环，可实现连续工作，所述的铜离子无损分离系统4中依附在阴极板内的铜，在提铜装置9的作用下形成高纯度高密铜板，从而使得阴极板能够持续保持极强的依附性能，能够持续的进行铜的依附，当铜被提取后，再生子液中的铜离子含量降低直至消失，再生子液再配液罐6配液，从而形成具有极强蚀刻能力的蚀刻液，从而使得母液能够循环利用，实现封闭式自体循环和平行式无损分离，在本实施例中，所述的蚀刻线1、中转母液罐2、母液罐3、铜离子无损分离系统4、再生子液罐5、配液罐6、过滤器7、子液罐8、提铜装置9和高压泵上均设置有检测对应部件的检测仪，所述的检测仪与控制器连接，所述的控制器内设置有能将异常信息发给对应负责人的短消息模块，当检测仪检测到某一部件出现故障后，检测仪将该信息传送给控制器，控制器控制其它各部件停止工作，并且将该异常信息通过短消息模块发送给对应的负责人，从而能够在第一时间内进行检修，使得整个循环系统能够在最短的时间内恢复生产，且保证了整个循环系统的安全性和保证了蚀刻精度。
在本实施例中，如图2所示，所述的铜离子无损分离系统4包括电解槽19和与电解槽19相连的温控槽11，电解槽19上端设有将电解槽19和温控槽11连通的两根平行的溢流管10，电解槽19下端设有循环管16和出水管14，循环管16一端与电解槽19连通，另一端与温控槽11下端连通，循环管16上还设有循环泵17，出水管14上设有控制阀门Ⅰ18，所述温控槽11底端还设有母液管12，母液管上同样设有控制阀门Ⅱ15，控制阀门Ⅱ15、控制阀门Ⅰ18处于常开状态，开关阀门13处于长闭状态。当电解槽9或者温控槽11出现故障或者其他情况时，只需将控制阀门Ⅱ15和控制阀门Ⅰ18关闭，并关闭整个设备即可进行排故工作，；当需要对温控槽11和电解槽9内部进行清洗时，只需关闭控制阀门Ⅱ15，同时打开控制阀门Ⅰ18和开关阀门13，即可对温控槽11和电解槽9内部进行清洗，清洗的污水从出水管14排出到污水处理设备。维修和清洗起来极为方便所述温控槽11的下端还设有排污管，排污管上设有开关阀门13，所述排污管与出水管连通。

Claims (3)

1.一种封闭式自体循环的碱性蚀刻液循环再生系统，它包括依次连接的蚀刻线（1）、中转母液罐（2）、母液罐（3）、铜离子无损分离系统（4）、再生子液罐（5）、配液罐（6）、过滤器（7）、子液罐（8），所述的子液罐（8）再与蚀刻线（1）连接形成封闭循环，所述的相邻两个部件之间均设置有高压泵，其特征在于：所述的铜离子无损分离系统还连接有一提铜装置（9），所述的蚀刻线（1）、中转母液罐（2）、母液罐（3）、铜离子无损分离系统（4）、再生子液罐（5）、配液罐（6）、过滤器（7）、子液罐（8）、提铜装置（9）和高压泵上均设置有检测对应部件的检测仪，所述的检测仪与控制器连接，所述的控制器内设置有能将异常信息发给对应负责人的短消息模块。
2.根据权利要求1所述的一种封闭式自体循环的碱性蚀刻液循环再生系统，其特征在于：所述的铜离子无损分离系统（4）包括电解槽（19）和与电解槽（19）相连的温控槽（11），电解槽（19）上端设有将电解槽（19）和温控槽（11）连通的两根平行的溢流管（10），电解槽（19）下端设有循环管（16）和出水管（14），循环管（16）一端与电解槽（19）连通，另一端与温控槽（11）下端连通，循环管（16）上还设有循环泵（17），出水管（14）上设有控制阀门Ⅰ（18），所述温控槽（11）底端还设有母液管（12），母液管上同样设有控制阀门Ⅱ（15）。
3.根据权利要求1所述的一种封闭式自体循环的碱性蚀刻液循环再生系统，其特征在于：所述温控槽（11）的下端还设有排污管，排污管上设有开关阀门（13），所述排污管与出水管连通。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106873588A (zh) * 2017-02-10 2017-06-20 中国东方电气集团有限公司 一种基于移动机器人的危化溶液提取方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN202705485U (zh) * 2012-08-24 2013-01-30 成都虹华环保科技有限公司 碱性蚀刻液循环再生系统
CN103741143A (zh) * 2013-12-31 2014-04-23 遂宁市广天电子有限公司 蚀刻液循环处理系统及方法
CN205856609U (zh) * 2016-08-09 2017-01-04 成都虹华环保科技股份有限公司 一种封闭式自体循环的碱性蚀刻液循环再生系统

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN202705485U (zh) * 2012-08-24 2013-01-30 成都虹华环保科技有限公司 碱性蚀刻液循环再生系统
CN103741143A (zh) * 2013-12-31 2014-04-23 遂宁市广天电子有限公司 蚀刻液循环处理系统及方法
CN205856609U (zh) * 2016-08-09 2017-01-04 成都虹华环保科技股份有限公司 一种封闭式自体循环的碱性蚀刻液循环再生系统

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106873588A (zh) * 2017-02-10 2017-06-20 中国东方电气集团有限公司 一种基于移动机器人的危化溶液提取方法

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