CN106002605A - 一种超精密圆球研抛机及研抛工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种超精密圆球研抛机,包括驱动机构、主轴、下磨盘、至少一个上磨盘和至少一个行星盘机构,主轴与驱动机构传动连接,主轴设有行星盘机构,包括金属齿圈和设置在金属齿圈内部的行星盘,每个行星盘机构的行星盘对应一个上磨盘,且行星盘设置在上磨盘与下磨盘之间,所述金属齿圈和上磨盘均与主轴传动连接。本发明还涉及一种超精密圆球研抛工艺。本发明球体工件在研磨时可以自由转动,使球体工件表面研磨均匀,加工效率高,成本低,精密度高。
Description
技术领域
本发明涉及一种超精密圆球研抛机及研抛工艺,属于高精度球体零件加工技术领域。
背景技术
高精度球体是圆度仪、陀螺、轴承和精密测量中的重要元件,并常作为精密测量的基准,在精密设备和精密加工中具有十分重要的地位,特别是在球轴承中大量使用,是球轴承的关键零件,轴承球的进度,直接影响着球轴承的运动精度、噪音及使用寿命等技术指标,进而影响设备、仪器的性能。
超精密圆球研抛机对球体工件的研磨精度和效率有这重要的影响。研磨过程中,球体工件的研磨方式直接影响成品的质量,研磨轨迹能否均匀覆盖球面是高效研磨球体工件,提高球度,获得高精密球体的关键。传统的超精密圆球研抛机有多种,比如V形槽研磨加工装置、圆沟槽研磨加工装置、锥形盘研磨加工装置等,其球体工件只能作“不变相对方位”研磨运动,其球体工件的自旋轴对公转轴的相对空间方位固定,导致球体表面研磨不均匀,加工效率低。而磁悬浮研磨加工装置的控制复杂,成本高。
发明内容
本发明的目的在于提供一种球体工件在研磨时可以自由转动,使球体工件表面研磨均匀,加工效率高,成本低的超精密圆球研抛机。
为了达到上述目的,本发明的技术方案是:一种超精密圆球研抛机,其特征在于:包括驱动机构、主轴、下磨盘、至少一个上磨盘和至少一个行星盘机构,所述主轴与驱动机构传动连接,主轴设有行星盘机构包括金属齿圈和设置在金属齿圈内部的行星盘,每个行星盘机构的行星盘对应一个上磨盘,且行星盘设置在上磨盘与下磨盘之间,所述金属齿圈和上磨盘均与主轴传动连接,所述金属齿圈与下磨盘固定连接,主轴通过金属齿圈带动下磨盘转动;且上磨盘的转动方向与下磨盘转动方向相反,行星盘内设有工件盘孔;所述工件盘孔内设有内设有一个以上的工件盘,工件盘孔内设有多个工件容纳孔;所述行星盘中心固定连接有固定轴,所述上磨盘穿过固定轴而设置在行星盘上方。
优选的,所述行星盘机构还包括重量调节装置,所述重量调节装置而设置在上磨盘上方。所述重量调节装置用于调节上磨盘对待加工圆球的压力,从而调整上磨盘对待加工圆球的的摩擦力。重量调节装置可选用机械配重装置,也可选用液压装置或气动加压装置。
优选的,重量调节装置为配重盘,其中部设有圆孔,穿过固定轴而设置在行星盘上方;所述配重盘通过螺栓与上磨盘连接。配重盘设有不同的重量,可选用不同重量的配重盘而调整上磨盘对待加工圆球的的摩擦力。
优选的,所述主轴上设有下传动齿轮,所述下传动齿轮与金属齿圈啮合传动。
优选的,所述主轴上固定连接有上传动齿轮,上传动齿轮与上磨盘啮合传动。
优选的,所述工件盘为圆形或者圆环形。圆环形的工件盘旋转时阻力较小,研磨效果更佳。
优选的,所述上传动齿轮固定连接在上磨盘主轴上,上磨盘主轴设有中孔,主轴伸入中孔内,且主轴上固定连接有第一伞齿轮,中孔内设有与上磨盘主轴转动连接的第二伞齿轮,第二伞齿轮与第一伞齿轮啮合,且上磨盘主轴上固定连接有第三伞齿轮,第三伞齿轮与第二伞齿轮啮合。
优选的,所述超精密圆球研抛机还包括研磨液添加装置,研磨液添加装置包括水泵、输出管路和研磨液槽,所述下磨盘设有流通孔,且下磨盘的外沿设有环形的遮挡凸块,研磨液槽位于流通孔下方,水泵置于研磨液槽内,并与输出管路连接,输出管路的出口端位于下磨盘上方。研磨液可选用市售产品。
优选的,所述下磨盘的上表面和上磨盘的下表面设有可更换研磨层,可更换研磨层(7)为阻尼布。下磨盘的上表面和上磨盘的下表面可以设置不同的阻尼布,可在下磨盘的上表面和上磨盘的下表面形成不同的摩擦力,研磨效果更佳。
优选的,所述驱动机构(1)为电机。
本发明的第二目的在于提供一种超精密圆球研抛工艺。
为了达到上述目的,本发明的技术方案是:一种超精密圆球研抛工艺,包括如下步骤:
(1)根据待加工圆球选择合适的工件盘(56)和行星盘(51),选择原则是待加工圆球的直径小于工件盘孔(511)的直径,工件盘(56)的直径小于工件盘孔(511)的直径;行星盘(51)和工件盘(56)的厚度相当于待加工圆球直径的70-80%;待加工圆球的直径小于工件盘孔的直径,在上磨盘和下磨盘的摩擦作用下,待加工圆球在工件盘孔中作无规则运动;同理,工件盘也在工件盘孔中作无规则运动,双重无规则运动的设计,能够实现待加工圆球更好的真球度;
(2)将选择好的行星盘(51)放入金属齿圈(55)中,然后将选择好的工件盘(56)放入行星盘(51)的工件盘孔(511)中,再将待加工圆球放入工件盘(56)的工件容纳孔(561)中;
(3)将上磨盘(4)穿过固定轴(52)而放置在行星盘(51)上方,并选择重量调节装置(54)穿过固定轴(52)而放置在上磨盘(4)的上方;
(4)打研磨液添加装置(6),使得研磨液覆盖下磨盘(3)的表面,启动驱动机构(1),进行研抛。
本发明采用简单的机械机构设计,通过主轴带动上磨盘与下磨盘实现相反的转动方向。而且在行星盘内设置工件盘孔,球体工件通过上磨盘和下磨盘的夹持,并且当上磨盘与下磨盘在研磨转动过程中带动球体工件转动,并且行星盘也处于自转过程中,球体工件在工件盘孔内实现自由转动,提高了球体工件的真球度;同时,不同的行星盘中可加工不同规格的工件,加工效率高,成本低。
附图说明
图1是本发明的具体实施方式的结构示意图;
图2是图1的A-A剖视图,并逆时针旋转90°;
图3是图2中行星盘机构剖视图。
图4是图2中I部传动示意图。
具体实施方式
以下结合附图给出的实施例对本发明作进一步详细的说明。
参见图1所示,一种超精密圆球研抛机,包括驱动机构1、主轴2、下磨盘3、三个上磨盘4和三个行星盘机构5,主轴2与驱动机构1传动连接,主轴2设有行星盘机构5包括金属齿圈55和设置在金属齿圈55内部的行星盘51,行星盘51为塑料制成,其外径与金属齿圈55的内径相当;每个行星盘51对应一个上磨盘4,且行星盘51设置在上磨盘4与下磨盘3之间;
主轴2上设有上传动齿轮8和下传动齿轮53,下传动齿轮53与金属齿圈55啮合传动,主轴2通过金属齿圈55带动下磨盘3转动;且上磨盘4与下磨盘3转动方向相反。
参见图1、2、3所示,行星盘51中心固定连接有固定轴52,固定轴52与行星盘相垂直,上磨盘4穿过固定轴52而设置在行星盘51上方;行星盘51的工件盘孔511内设有五个工件盘56,工件盘56孔内设有三个工件容纳孔561;工件盘56为圆形或者圆环形。
参见图4所示,所述上传动齿轮8固定连接在上磨盘主轴70上,上磨盘主轴70设有中孔71,主轴2伸入中孔71内,且主轴2上固定连接有第一伞齿轮72,中孔71内设有与上磨盘主轴70转动连接的第二伞齿轮73,第二伞齿轮73与第一伞齿轮72啮合,且上磨盘主轴70上固定连接有第三伞齿轮74,第三伞齿轮74与第二伞齿轮73啮合。在图4中可以看出,当主轴2转动,带动第一伞齿轮72转动,从而带动第二伞齿轮73转动,第二伞齿轮73带动第三伞齿轮74转动,最终实现主轴2与上磨盘主轴70相反方向转动,研磨效率大大提高。
参见图1所示,超精密圆球研抛机还包括研磨液添加装置6,研磨液添加装置6包括水泵62、输出管路63和研磨液槽64,所述下磨盘3设有流通孔31,且下磨盘3的外沿设有环形的遮挡凸块32,研磨液槽64位于流通孔31下方,水泵62置于研磨液槽64内,并与输出管路63连接,输出管路63的出口端位于下磨盘3上方。
参见图2所示,所述下磨盘3的表面设有可更换研磨层7,研磨层7为阻尼布。为了进一步降低使用成本,本发明的下磨盘3附着一层可更换研磨层7,可更换研磨层7属于消耗品,当可更换研磨层7的研磨作用下降,可以及时更换。如果下研磨盘3的上表面直接加工成研磨表面,如果研磨表面磨损严重,只能直接更换下研磨盘3,就会提高使用成本。同样的,上磨盘4上也设有可更换研磨层。
参见图1、2、3所示,行星盘机构5具有三组,且每组的行星盘机构5的金属齿圈55均与下传动齿轮53啮合传动。
驱动机构1为电机,驱动机构1启动后,带动主轴2转动,主轴2同时带动下磨盘3、下传动齿轮53和上传动齿轮8转动。主轴2带动下磨盘3转动,上传动齿轮8带动上磨盘4转动,并且为了提高研磨效率和研磨精度,下磨盘3和上磨盘4的转动方向相反。工件盘56在行星盘51的带动下运动,并同时带动球体工件做不规则的自由转动,因此球体工件表面的研磨均匀,加工效率高,成本低。
本发明的超精密圆球研抛工艺,包括如下步骤:
(1)根据待加工圆球选择合适的工件盘56和行星盘51,选择原则是待加工圆球的直径小于工件盘孔511的直径,工件盘56的直径小于工件盘孔511的直径,在本发明的一个优选实施例中,待加工圆球的直径为5mm,工件盘孔511的直径为8mm,工件盘56直径为4cm,工件盘孔511的直径为5.5cm;行星盘51和工件盘56的厚度为3.9mm;待加工圆球的直径小于工件盘孔的直径,在上磨盘和下磨盘的摩擦作用下,待加工圆球在工件盘孔中作无规则运动;同理,工件盘也在工件盘孔中作无规则运动,双重无规则运动的设计,能够实现待加工圆球更好的真球度;
(2)将选择好的行星盘51放入金属齿圈55中,然后将选择好的工件盘(56)放入行星盘51的工件盘孔511中,再将待加工圆球放入工件盘56的工件容纳孔561中;
(3)将上磨盘4穿过固定轴52而放置在行星盘51上方,并选择重量调节装置54穿过固定轴52而放置在上磨盘4的上方;
(4)打研磨液添加装置6,使得研磨液覆盖下磨盘3的表面,启动电机,进行研抛。
通过上述设备和方法加工的圆球真球度≤0.02μm,大大超过光纤中使用的玻璃圆球国际标准(≤0.04μm)。
以上所述的仅是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明创造构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。
Claims (10)
1.一种超精密圆球研抛机,其特征在于:包括驱动机构(1)、主轴(2)、下磨盘(3)、至少一个上磨盘(4)和至少一个行星盘机构(5),所述主轴(2)与驱动机构(1)传动连接,主轴(2)设有行星盘机构(5)包括金属齿圈(55)和设置在金属齿圈(55)内部的行星盘(51),每个行星盘(51)对应一个上磨盘(4),且行星盘(51)设置在上磨盘(4)与下磨盘(3)之间,所述金属齿圈(55)和上磨盘(4)均与主轴(2)传动连接,所述金属齿圈(55)与下磨盘(3)固定连接,主轴(2)通过金属齿圈(55)带动下磨盘(3)转动;且上磨盘(4)的转动方向与下磨盘(3)转动方向相反;
所述行星盘(51)内设有工件盘孔(511);所述工件盘孔(511)内设有内设有一个以上的工件盘(56),工件盘(56)孔内设有多个工件容纳孔(561);所述行星盘(51)中心固定连接有固定轴(52),所述上磨盘(4)穿过固定轴(52)而设置在行星盘(51)上方。
2.根据权利要求1所述的超精密圆球研抛机,其特征在于:所述行星盘机构(5)还包括重量调节装置(54),所述重量调节装置(54)而设置在上磨盘(4)上方。
3.根据权利要求2所述的超精密圆球研抛机,其特征在于:所述重量调节装置(54)为配重盘,其中部设有圆孔,穿过固定轴(52)而设置在行星盘(51)上方;所述配重盘通过螺栓与上磨盘(4)连接。
4.根据权利要求1所述的超精密圆球研抛机,其特征在于:所述主轴(2)上设有下传动齿轮(53),所述下传动齿轮(53)与金属齿圈(55)啮合传动。
5.根据权利要求1所述的超精密圆球研抛机,其特征在于:所述主轴(2)上固定连接有上传动齿轮(8),上传动齿轮(8)与上磨盘(4)啮合传动。
6.根据权利要求1所述的超精密圆球研抛机,其特征在于:所述工件盘(56)为圆形或者圆环形。
7.根据权利要求5所述的超精密圆球研抛机,其特征在于:所述上传动齿轮(8)固定连接在上磨盘主轴(70)上,上磨盘主轴(70)设有中孔(71),主轴(2)伸入中孔(71)内,且主轴(2)上固定连接有第一伞齿轮(72),中孔(71)内设有与上磨盘主轴(70)转动连接的第二伞齿轮(73),第二伞齿轮(73)与第一伞齿轮(72)啮合,且上磨盘主轴(70)上固定连接有第三伞齿轮(74),第三伞齿轮(74)与第二伞齿轮(73)啮合。
8.根据权利要求1-7任一项所述的超精密圆球研抛机,其特征在于:还包括研磨液添加装置(6),研磨液添加装置(6)包括水泵(62)、输出管路(63)和研磨液槽(64),所述下磨盘(3)设有流通孔(31),且下磨盘(3)的外沿设有环形的遮挡凸块(32),研磨液槽(64)位于流通孔(31)下方,水泵(62)置于研磨液槽(64)内,并与输出管路(63)连接,输出管路(63)的出口端位于下磨盘(3)上方。
9.根据权利要求1所述的超精密圆球研抛机,其特征在于:所述下磨盘(3)的上表面和上磨盘(4)的下表面设有可更换研磨层(7),所述可更换研磨层(7)为阻尼布。
10.一种超精密圆球研抛工艺,其特征在于包括如下步骤:
(1)根据待加工圆球选择合适的工件盘(56)和行星盘(51),选择原则是待加工圆球的直径小于工件盘孔(511)的直径,工件盘(56)的直径小于工件盘孔(511)的直径;行星盘(51)和工件盘(56)的厚度相当于待加工圆球直径的70-80%;
(2)将选择好的行星盘(51)放入金属齿圈(55)中,然后将选择好的工件盘(56)放入行星盘(51)的工件盘孔(511)中,再将待加工圆球放入工件盘(56)的工件容纳孔(561)中;
(3)将上磨盘(4)穿过固定轴(52)而放置在行星盘(51)上方,并选择重量调节装置(54)穿过固定轴(52)而放置在上磨盘(4)的上方;
(4)打开研磨液添加装置(6),使得研磨液覆盖下磨盘(3)的表面,启动驱动机构(1),进行研抛。
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20161012 |
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