CN105925959B - 一种复合型ald导气装置 - Google Patents

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    • C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
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Abstract

本发明公开了一种复合型的ALD导气装置，其包括平面台阶（1）和圆弧壁（2）组成的主体结构、导气孔阵列（3）以及抽气孔（4）。本发明通过对反应腔体抽气进行导气，改善反应腔气流分布，能够有效提升制备薄膜的均匀性；同时，利用复合结构，大幅度的节约了空间，在承载了导气功能的同时，也可作为腔体内样品架的支撑机构，实现了功能的复合化。

Description

一种复合型ALD导气装置
发明领域
本发明涉及一种ALD（原子层沉积）系统中，用于反应腔体内气体导流的装置。
背景技术
根据ALD的反应原理，在现有技术中，ALD前驱体经管路系统进入反应腔体，在有限的时间内与腔体内基底表面发生吸附，连续的两种不同气体在基底表面发生反应，从而导致一个原子层的沉积。为了在有限的时间内，确保反应前驱体能够与墙体内的基底发生充分的均匀的吸附，一般都会对反应腔体结构以及进气喷嘴进行设计，以优化腔内气流分布。但是，对于结构较为复杂的反应腔体或者尺寸较大的反应腔体，仅仅只是对喷嘴或者腔体结构进行有限的设计，是不够的，还需要对抽气部分进行优化设计，才能进一步提升气流均匀性，提升所制备的薄膜的均匀性。
发明内容
为克服现有技术的不足，本发明提出一种复合型的ALD导气装置，通过对抽气的气流分布进行调节，能够有效优化反应腔体内气流分布，解决腔体内因气流不均导致的制备薄膜不均的现象。
一种复合型的ALD导气装置，其特征在于，其包括平面台阶（1）和圆弧壁（2）组成的主体结构、导气孔阵列（3）以及抽气孔（4）。
其平面台阶（1），中间部分用于布置导气孔，两边平台用于腔体内安装样品架。
其圆弧壁（2），其弧度与反应腔弧度相同，便于安装于反应腔内壁。
其导气孔阵列（3），孔沿着垂直方向贯穿，孔径为1-3mm，呈矩形均匀分布，孔间距为10mm-50mm，与装置内部以及抽气孔连通，用于气体抽气过程中的导流，优化腔体气流分布。
其抽气孔（4），与真空抽气管路相连，用于抽气，直径为30mm-50mm。
本发明提出一种复合型的ALD导气装置，其包括平面台阶和圆弧壁组成的主体结构、导气孔阵列以及抽气孔。
所述的平面台阶，中间部分用于布置导气孔，两边平台用于腔体内安装样品架；
所述的圆弧壁，其弧度与反应腔弧度相同，便于安装于反应腔内壁；
所述的导气孔阵列，孔沿着垂直方向贯穿，呈矩形均匀分布，与装置内部以及抽气孔连通，用于气体抽气过程中的导流，优化腔体气流分布；
所述的抽气孔，与真空抽气管路相连，用于抽气。
本发明具有如下优点：
1、本发明通过对反应腔体抽气进行导气，改善反应腔气流分布，能够有效提升制备薄膜的均匀性；
2、本发明，利用复合结构，大幅度的节约了空间，在承载了导气功能的同时，也可作为腔体内样品架的支撑机构，实现了功能的复合化。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明作出详细的说明，其中：
图1为本发明较佳实施例的剖视图；
图2位本发明较佳实施例的俯视图。
具体实施方式
如图1、与2 所示，为本发明较佳实施例的结构示意图，所述的一种复合型的ALD导气装置，其包括平面台阶（1）和圆弧壁（2）组成的主体结构、导气孔阵列（3）以及抽气孔（4）。平面台阶（1），中间部分用于布置导气孔，两边平台用于腔体内安装样品架；圆弧壁（2），其弧度与反应腔弧度相同，便于安装于反应腔内壁；导气孔阵列（3），孔沿着垂直方向贯穿，孔径为1-3mm，呈矩形均匀分布，孔间距为10mm~50mm，与装置内部以及抽气孔连通，用于气体抽气过程中的导流，优化腔体气流分布；抽气孔（4），与真空抽气管路相连，用于抽气，直径为30mm~50mm。本实施例中，导气孔阵列（3），孔径为2mm，孔间距为25mm；抽气孔（4），直径为40mm。根据需要，孔径还可以取1mm，3mm，孔间距可以为10mm，20mm，30mm，40mm或者50mm。

Claims (1)

1.一种复合型的ALD导气装置，其特征在于，其包括平面台阶（1）和圆弧壁（2）组成的主体结构、导气孔阵列（3）以及抽气孔（4）；
其平面台阶（1），中间部分用于布置导气孔，两边平台用于腔体内安装样品架；
其圆弧壁（2），其弧度与反应腔弧度相同，便于安装于反应腔内壁；
其导气孔阵列（3），孔沿着垂直方向贯穿，孔径为1-3mm，呈矩形均匀分布，孔间距为10mm-50mm，与装置内部以及抽气孔连通，用于气体抽气过程中的导流，优化腔体气流分布；
其抽气孔（4），与真空抽气管路相连，用于抽气，直径为30mm-50mm。
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