CN206858650U - 一种磁控溅射装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及磁控溅射技术领域，特别涉及一种磁控溅射装置，包括壳体，壳体设置有密闭空腔，密闭空腔设置有靶材和基板；密闭空腔设置有进气口和出气口，靶材的内部设置有若干个冷却管，冷却管一端均与进水分流管相连接，进水分流管一端与主进水管相连接，冷却管另一端均与出水分流管相连接，主出水管一端与主出水管相连接，靶材的背部沿靶材的长度方向设置有若干个磁铁，每两个相邻的磁铁之间设置有散热板，散热板一端固定在靶材的背部上；磁铁和散热板之间设置有间隙。在使用本实用新型时，既保证磁控溅射成膜均匀性和靶材利用率，又方便散热，避免靶材的溅射温度过高，进而保证成膜质量。

Description

一种磁控溅射装置

技术领域

本实用新型涉及磁控溅射技术领域，特别涉及一种磁控溅射装置。

背景技术

磁控溅射，是指在阴极(通常为靶材)与阳极(通常为安装被成膜基板的基板安装座或镀膜腔体壁)之间加一个正交磁场和电场，在真空镀膜腔体中充入所需要的惰性气体(通常为氩气)，氩气电离成氩离子(带正电荷)和电子，氩离子在驱动电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材粒子，这些靶材粒子(原子或分子)沉积在被成膜基板上成膜。行业上主要对磁控溅射的成膜均匀性和靶材利用率进行研究，即如何提高靶材利用率为主。而对靶材的溅射温度控制一直停留在原地，即靠靶材自行散热为主，若靶材散热性差，自然会影响成膜质量。故有必要提供一种便于靶材散热的磁控溅射装置。

实用新型内容

本实用新型的目的在于针对现有技术的缺陷和不足，提供一种便于靶材散热的磁控溅射装置。

为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是：

本实用新型所述的一种磁控溅射装置，包括壳体，所述壳体设置有密闭空腔，所述密闭空腔设置有靶材和基板；

所述密闭空腔一侧设置有进气口，进气口与惰性气体的源头相连接，所述密闭空腔另一侧设置有出气口，出气口与负压气源相连接；

所述靶材的内部沿高度方向设置有若干个冷却管，所述冷却管一端均与进水分流管相连接，进水分流管一端与主进水管相连接，主进水管一端与水源相连接；

所述冷却管另一端均与出水分流管相连接，主出水管一端与主出水管相连接，主出水管一端与回收站相连接；

所述靶材的背部沿靶材的长度方向设置有若干个磁铁，每两个相邻的磁铁之间设置有散热板，散热板一端固定在靶材的背部上；磁铁和散热板之间设置有间隙。

进一步地，所述散热板另一端横截面呈三角形状。

进一步地，所述进气口和出气口的数量为两个，进气口和出气口均呈对称设置。

进一步地，所述磁铁的磁铁高度大于散热板的散热板高度。

进一步地，所述主进水管、进水分流管、出水分流管和主出水管的内径相同，冷却管的内径小于主进水管的内径。

采用上述结构后，本实用新型有益效果为：本实用新型所述的一种磁控溅射装置，包括壳体，壳体设置有密闭空腔，密闭空腔设置有靶材和基板；密闭空腔一侧设置有进气口，进气口与惰性气体的源头相连接，密闭空腔另一侧设置有出气口，出气口与负压气源相连接；靶材的内部沿高度方向设置有若干个冷却管，冷却管一端均与进水分流管相连接，进水分流管一端与主进水管相连接，主进水管一端与水源相连接；冷却管另一端均与出水分流管相连接，主出水管一端与主出水管相连接，主出水管一端与回收站相连接；靶材的背部沿靶材的长度方向设置有若干个磁铁，每两个相邻的磁铁之间设置有散热板，散热板一端固定在靶材的背部上；磁铁和散热板之间设置有间隙。在使用本实用新型时，通过在靶材的内部沿高度方向设置有若干个冷却管，通过将散热板一端固定在靶材的背部上，极大地提高了靶材的散热效率；通过在靶材的背部沿靶材的长度方向设置有若干个磁铁，每两个相邻的磁铁之间设置有散热板，这样既可以保证磁控溅射成膜均匀性和靶材利用率，又可以方便散热，避免靶材的溅射温度过高，进而保证成膜质量。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图；

附图标记说明：

1、壳体；1-1、进气口；1-2、出气口；

2、靶材；3、基板；41、主进水管；42、进水分流管；43、冷却管；

44、出水分流管；45、主出水管；5、磁铁；6、散热板。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步的说明。

如图1所示，本实用新型所述的一种磁控溅射装置，包括壳体1，所述壳体1设置有密闭空腔，所述密闭空腔设置有靶材2和基板3，靶材2和基板3固定在密闭空腔内底面的技术与现有技术无本质区别，故不在此详说；靶材2一端与电源阴极相连接，基板3一端与电源阳极相连接。

所述密闭空腔一侧设置有进气口1-1，进气口1-1与惰性气体的源头(图中未示出)相连接，所述密闭空腔另一侧设置有出气口1-2，出气口1-2与负压气源(图中未示出)相连接。

所述靶材2的内部沿高度方向设置有若干个冷却管43，两个冷却管43之间的间隙为1～5cm，间隙的大于取决于靶材2厚度，靶材2的厚度越大，间隙就越大。

所述冷却管43一端均与进水分流管42相连接，进水分流管42一端与主进水管41相连接，主进水管41一端与水源(图中未示出)相连接。

所述冷却管43另一端均与出水分流管44相连接，主出水管45一端与主出水管45相连接，主出水管45一端与回收站(图中未示出)相连接。

所述靶材2的背部沿靶材2的长度方向设置有若干个磁铁5，磁铁5为永磁铁。每两个相邻的磁铁5之间设置有散热板6，散热板6一端固定在靶材2的背部上；磁铁5和散热板6之间设置有间隙；磁铁5和散热板6之间的间隙为3～6cm，间隙的大于取决于靶材2厚度，靶材2的厚度越大，间隙就越大。

进一步地，所述散热板6另一端横截面呈三角形状，便于提高散热效率，散热板6的材质优选用铝制材料。

进一步地，所述进气口1-1和出气口1-2的数量为两个，进气口1-1和出气口1-2均呈对称设置；两个进气口1-1分布在密闭空腔一侧壁的两端；两个出气口1-2分布在密闭空腔另一侧壁的两端。

进一步地，所述磁铁5的磁铁高度H1大于散热板6的散热板高度H2。

进一步地，所述主进水管41、进水分流管42、出水分流管44和主出水管45的内径相同，冷却管43的内径小于主进水管41的内径。

在使用本实用新型时，通过在靶材的内部沿高度方向设置有若干个冷却管，通过将散热板一端固定在靶材的背部上，极大地提高了靶材的散热效率；通过在靶材的背部沿靶材的长度方向设置有若干个磁铁，每两个相邻的磁铁之间设置有散热板，这样既可以保证磁控溅射成膜均匀性和靶材利用率，又可以方便散热，避免靶材的溅射温度过高，进而保证成膜质量。

以上所述仅是本实用新型的较佳实施方式，故凡依本实用新型专利申请范围所述的构造、特征及原理所做的等效变化或修饰，均包括于本实用新型专利申请范围内。

Claims (5)

1.一种磁控溅射装置，其特征在于：包括壳体(1)，所述壳体(1)设置有密闭空腔，所述密闭空腔设置有靶材(2)和基板(3)，

所述密闭空腔一侧设置有进气口(1-1)，进气口(1-1)与惰性气体的源头相连接，所述密闭空腔另一侧设置有出气口(1-2)，出气口(1-2)与负压气源相连接；

所述靶材(2)的内部沿高度方向设置有若干个冷却管(43)，所述冷却管(43)一端均与进水分流管(42)相连接，进水分流管(42)一端与主进水管(41)相连接，主进水管(41)一端与水源相连接；

所述冷却管(43)另一端均与出水分流管(44)相连接，主出水管(45)一端与主出水管(45)相连接，主出水管(45)一端与回收站相连接；

所述靶材(2)的背部沿靶材(2)的长度方向设置有若干个磁铁(5)，每两个相邻的磁铁(5)之间设置有散热板(6)，散热板(6)一端固定在靶材(2)的背部上；磁铁(5)和散热板(6)之间设置有间隙。

2.根据权利要求1所述的一种磁控溅射装置，其特征在于：所述散热板(6)另一端横截面呈三角形状。

3.根据权利要求1所述的一种磁控溅射装置，其特征在于：所述进气口(1-1)和出气口(1-2)的数量为两个，进气口(1-1)和出气口(1-2)均呈对称设置。

4.根据权利要求1所述的一种磁控溅射装置，其特征在于：所述磁铁(5)的磁铁高度(H1)大于散热板(6)的散热板高度(H2)。

5.根据权利要求1所述的一种磁控溅射装置，其特征在于：所述主进水管(41)、进水分流管(42)、出水分流管(44)和主出水管(45)的内径相同，冷却管(43)的内径小于主进水管(41)的内径。