CN105807465A - 显示设备 - Google Patents

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CN105807465A
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top layer
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尹海柱
浅川幸纪
裵光洙
吴旻贞
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Abstract

本发明涉及显示设备。示例性实施方式提供了一种显示设备，包括：薄膜晶体管，布置在包括多个像素的绝缘基板上；公共电极和像素电极，布置在薄膜晶体管上，在绝缘层插入其间的同时彼此重叠；液晶层，填充由包括上述像素电极的多个像素电极区分的多个微腔；以及顶层，布置在多个微腔中的微腔上，并且包括延伸至微腔的注入孔和支撑微腔的支撑构件；以及光学构件，布置在支撑构件上，其中，注入孔沿列方向布置在相邻的微腔之间，并且支撑构件沿行方向布置在相邻的微腔之间。可以通过光学构件防止可能发生在显示设备中的光的全反射、不良取向以及光泄漏。

Description

显示设备
技术领域
本申请涉及利用一个基板形成的并且包括光学构件的显示设备及其制造方法。
背景技术
作为目前使用最广泛的平板显示器之一，液晶显示器(LCD)包括在其上形成诸如像素电极和公共电极的电场生成电极的两个显示面板、以及插入两个显示面板之间的液晶层。LCD通过将电压施加到电场生成电极从而在液晶层上生成电场、通过所生成的电场确定液晶层的液晶分子的取向方向、以及控制入射光的偏振，从而显示图像。
组成LCD的两片显示面板可包括薄膜晶体管阵列面板和相对的显示面板。在薄膜晶体管阵列面板中，用于传输栅极信号的栅极线和用于传输数据信号的数据线被形成为彼此交叉，并且可形成耦接至栅极线和数据线的薄膜晶体管、耦接至薄膜晶体管的像素电极等。在相对的显示面板中，可形成遮光构件、滤色器、公共电极等。如果有必要的话，遮光构件、滤色器和公共电极可形成在薄膜晶体管阵列面板上。
然而，在传统液晶显示器中，必不可少地使用两个基板并且组成元件分别地形成在两个基板上，从而需要长的处理时间并且使显示设备重、厚而且贵。
本背景技术部分中所公开的上述信息仅用于增强对背景技术的理解，并且因此背景技术部分可能包含并不构成在该国中为本领域的普通技术人员所知的现有技术的信息。
发明内容
实施方式已经被做出以致力于提供可以通过使用一个基板制造显示设备来降低重量、厚度、成本和处理时间的显示设备及其制造方法。
进一步，实施方式已经被做出以致力于提供可以通过包括光学构件来防止光的全反射、不良取向以及光泄漏的显示设备及其制造方法。
示例性实施方式提供了一种显示设备，包括：薄膜晶体管，布置在包括多个像素的绝缘基板上；公共电极和像素电极，布置在薄膜晶体管上，在绝缘层插入其间的同时彼此重叠；液晶层，填充由包括所述像素电极的多个像素电极区分的多个微腔；顶层，布置在多个微腔中的微腔上，并且包括延伸至微腔的注入孔和支撑微腔的支撑构件；以及光学构件，布置在支撑构件上，其中，注入孔沿列方向布置在相邻的微腔之间，并且支撑构件沿行方向布置在相邻的微腔之间。
光学构件可具有半圆柱形。
光学构件可在绝缘基板上布置为具有凸起的形状。
光学构件的边缘可布置为与相邻的微腔的至少一部分重叠。
光学构件的直径可以布置为比预定第二凹陷的宽度更宽，并且比第二凹陷和微腔的宽度的和更窄。
光学构件可以布置在与顶层相同的层上。
可以以水平取向模式布置包含于液晶层中的液晶分子。
可以进一步包括布置在微腔的表面上的取向层，其中，取向层可以是水平取向层。
可以进一步包括布置在顶层上以覆盖注入孔的保护层。
可以进一步包括布置在顶层下方的第一绝缘层和布置在顶层上方的第二绝缘层。
光学构件可在绝缘基板上布置为具有凹入的形状。
光学构件可具有以多边形形状布置的多边表面，并且可在绝缘基板上布置为具有凸起的形状。
根据示例性实施方式，一个基板可以用于制造显示设备，从而降低显示设备的重量、厚度、成本和处理时间。
此外，根据示例性实施方式，光学构件可以包括在显示设备中，从而防止可能发生在显示设备中的光的全反射、不良取向以及光泄漏。
附图说明
图1是示出根据第一示例性实施方式的显示设备的像素的俯视平面图。
图2是沿着线II-II截取的图1的截面图。
图3是沿着线III-III截取的图1的截面图。
图4是示出根据第二示例性实施方式的显示设备的截面图。
图5是示出根据第三示例性实施方式的显示设备的截面图。
图6A和图6B是用于解释关于根据第一示例性实施方式的显示设备的光学构件的操作原理的示意图。
图7A和图7B是用于解释关于根据第二示例性实施方式的显示设备的光学构件的操作原理的示意图。
具体实施方式
在下文中将参考示出示例性实施方式的附图更全面地描述本发明构思。如本领域的技术人员将意识到的，在完全不偏离本发明构思的精神或范围的前提下，可以以各种不同的方式对所描述的实施方式进行修改。
在附图中，为了清晰起见，夸大了层、膜、面板、区域等的厚度。纵观说明书，相同的附图标记指代相同的元件。将理解，当诸如层、膜、区域、或者基板的元件被称为“在”另一元件“上”时，其可直接在另一个元件上或者也可存在中间元件。相反，当元件被称为“直接在”在另一元件“上”时，则不存在中间元件。
首先，将参考图1至图3描述根据第一示例性实施方式的显示设备。
图1是示出根据第一示例性实施方式的显示设备的像素的俯视平面图，图2是沿着线II-II截取的图1的截面图，并且图3是沿着线III-III截取的图1的截面图。
首先，将示意性地描述根据第一示例性实施方式的显示设备。
根据第一示例性实施方式的显示设备包括由诸如玻璃或塑料的材料形成的绝缘基板110、以及形成在绝缘基板110上的顶层360。
由顶层360覆盖的微腔305形成在绝缘基板110上。顶层360沿行方向延伸，并且多个微腔305形成在单个顶层360下方。
多个像素PX放置在绝缘基板110上。以包括多个像素列和像素行的矩阵形式布置像素PX。一个像素PX是与一个像素电极191重叠的区域。
第一凹陷V1沿着相邻像素PX之间的栅极线121的延伸方向放置，并且第二凹陷V2放置在相邻像素PX的行之间。
换言之，微腔305可以矩阵形式排列，第一凹陷V1可以放置在列方向上相邻的微腔305之间，并且第二凹陷V2可以放置在行方向上相邻的微腔305之间。
顶层360沿数据线171的延伸方向形成。在这种情况下，注入孔307形成在第一凹陷V1中，使得移除顶层360并且然后暴露放置在顶层360下方的组成元件。
每个顶层360形成在相邻的第二凹陷V2之间以与绝缘基板110隔开，从而形成微腔305。此外，每个顶层360形成在第二凹陷V2中以附接至绝缘基板110，从而覆盖微腔305的相对侧。
换言之，形成微腔305的相对侧壁的支撑构件(365)可以形成在第二凹陷V2的每个顶层360中，使得其可以支撑微腔305。
根据第一示例性实施方式的显示设备的上述结构可以被视为一种实例，并且因此可以各种方式修改上述结构。例如，可修改像素PX、第一凹陷V1和第二凹陷V2的布置，顶层360可在第一凹陷V1中彼此耦接，并且每个顶层360可被形成为在第二凹陷V2中与绝缘基板110部分地分开使得相邻的微腔305彼此耦接。
现在将参考图1至图3描述根据第一示例性实施方式的显示设备。
首先，包括栅极线121的栅极导体形成在由透明玻璃或塑料形成的绝缘基板110上。
栅极线121包括用于使栅电极124与其他层或外部驱动电路(未示出)连接的宽端部。栅极线121可以由诸如铝(Al)或者铝合金的基于铝的金属、诸如银(Ag)或者银合金的基于银的金属、诸如铜(Cu)或者铜合金的基于铜的金属、诸如钼(Mo)或者钼合金的基于钼的金属、铬(Cr)、钽(Ta)、钛(Ti)等形成。然而，栅极线121可具有包括具有不同物理性能的至少两个导电层的多层结构。
由氮化硅(SiNx)或者氧化硅(SiOx)形成的栅极绝缘层140形成在栅极导体121上。栅极绝缘层140可以具有包括具有不同物理性能的至少两个绝缘层的多层结构。
由非晶硅或者多晶硅形成的半导体154形成在栅极绝缘层140上。半导体154可包括氧化物半导体。
欧姆接触(未示出)形成在半导体154上。欧姆接触可以由诸如高度掺杂有n型杂质(诸如磷)的n+氢化非晶硅的材料形成、或可以由硅化物形成。欧姆接触可以被成对地耦接以布置在半导体154上。如果半导体154是氧化物半导体，则可以省去欧姆接触。
包括源电极173的数据线171和包括漏电极175的数据导体形成在半导体154和栅极绝缘层140上。
数据线171包括用于与另一层或者外部驱动电路(未示出)连接的宽端部。数据线171传输数据信号并且主要沿竖直方向延伸以与栅极线121交叉。
在这种情况下，为了获得液晶显示器的最大透射率，数据线171可以包括具有弯曲形状的第一弯曲部，并且弯曲部的多个部分可以在像素区域的中间区域中彼此接触以形成V形。第二弯曲部可以进一步包括在像素区域的中间区域中，使得其被弯曲以与第一弯曲部形成预定角度。
数据线171的第一弯曲部可弯曲为与竖直基准线形成约7°的夹角，该竖直基准线与栅极线121延伸的方向形成90°的夹角。布置在像素区域的中间区域中的第二弯曲部可弯曲为与第一弯曲部形成约7°至约15°的夹角。
源电极173是数据线171的一部分并且布置在与数据线171相同的线上。漏电极175被形成为与源电极173平行地延伸。因此，漏电极175与数据线171的该部分平行。
栅电极124、源电极173以及漏电极175与半导体154一起形成一个薄膜晶体管(TFT)，并且薄膜晶体管的沟道形成在源电极173与漏电极175之间的半导体154中。
通过包括放置在与数据线171相同的线上的源电极173和与数据线171平行地延伸的漏电极175，根据示例性实施方式的显示设备可增加薄膜晶体管的宽度而不增加由数据导体占据的面积，从而增加显示设备的开口率。
然而，根据另一示例性实施方式的显示设备可被形成为使得其源电极173和漏电极175具有不同的形状。
数据线171和漏电极175可优选地由诸如钼、铬、钽、钛等或者其合金的耐熔金属形成，并且它们可具有包括耐熔金属层(未示出)和低电阻导电层(未示出)的多层结构。多层结构的实例可以是铬或钼(合金)下层与铝(合金)上层的双层，或者钼(合金)下层、铝(合金)中层、以及钼(合金)上层的三层。然而，除了上述那些之外，数据线171和漏电极175可以由各种金属或导体制成。
钝化层180布置在数据导体171、173和175、栅极绝缘层140、以及半导体154的暴露部分上。钝化层180可以由有机绝缘材料、无机绝缘材料等制成。
滤色器230形成在钝化层180上的每个像素区域PX中。每个滤色器230可以显示基色(诸如红色、绿色和蓝色的三基色)之一。滤色器230不限于显示红色、绿色和蓝色的三基色，而是可显示蓝绿色、品红色、黄色以及基于白色的颜色。与以上示出的那些不同，滤色器230可以在相邻数据线171之间沿列方向延长。
有机层240布置在滤色器230上。有机层240具有比钝化层180的厚度更大的厚度，并且可具有平滑的表面。
有机层240可以布置在布置了多个像素的显示区域中，并且可以不布置在形成有栅极焊盘部分或数据焊盘部分的外围区域中。或者，有机层240甚至也可以放置在形成有栅极焊盘部分或数据焊盘部分的外围区域中。
接触孔184设置在有机层240、滤色器230和钝化层180中。
公共电极270放置在有机层240上。公共电极270可具有平坦的形状，并且可以布置在布置了多个像素的显示区域中但不布置在形成有栅极焊盘部分或数据焊盘部分的外围区域中。
公共电极270由诸如氧化铟锡(ITO)或者氧化铟锌(IZO)的透明导电层形成。
层间绝缘层250布置在公共电极270上。层间绝缘层250可由诸如氮化硅(SiNx)、氧化硅(SiOx)、氮氧化硅(SiOxNy)等的无机绝缘材料形成。层间绝缘层250用于保护由有机材料制成的滤色器230并且使公共电极270与像素电极191隔离。即，即使公共电极270被形成为与像素电极191重叠，但是因为层间绝缘层250形成在公共电极270上，所以可以防止公共电极270和像素电极191发生短路。
像素电极191布置在层间绝缘层250上。像素电极191包括与数据线171的第一弯曲部和第二弯曲部基本上平行的弯曲边缘。
像素电极191可由诸如ITO或IZO的透明导电层形成。
像素电极191通过形成在有机层240、滤色器230和钝化层180中的接触孔184物理地且电气地耦接至漏电极175，并且被施加来自漏电极175的电压。
像素电极191被施加来自漏电极175的数据电压，并且公共电极270被施加来自参考电压施加单元(其布置在显示区域外部)的预定参考电压。
像素电极191和公共电极270根据这些所施加的电压生成电场，并且在两个电极191和270上方的液晶层的液晶分子310沿与电场的方向平行的方向旋转。穿过液晶层的光的偏振根据如上所述确定的液晶分子310的旋转方向而改变。
第一绝缘层350可以进一步形成在像素电极191上，使得其与像素电极191以预定距离分开。第一绝缘层350可由诸如氮化硅(SiNx)、氧化硅(SiOx)等的无机绝缘材料制成。
微腔305形成在像素电极191和第一绝缘层350之间。换言之，由像素电极191和第一绝缘层350包围微腔305。可以根据显示设备的尺寸和分辨率来不同地修改微腔305的宽度和尺寸。
第一取向层11形成在像素电极191上。第一取向层11可直接形成在未由像素电极191覆盖的层间绝缘层250上。
第二取向层21形成在面向第一取向层11的第一绝缘层350下方。
第一取向层11和第二取向层21可以形成为竖直取向层，并且可以由诸如聚酰胺酸、聚硅氧烷、聚酰亚胺等的取向材料制成。第一取向层11和第二取向层21可以如图3所示在像素的边缘处彼此耦接。
由液晶分子310组成的液晶层形成在放置在像素电极191和第一绝缘层350之间的微腔305中。
进一步，遮光构件220形成在相邻的滤色器230之间的区域中，并且具体地，如图2所示，遮光构件220可以放置在像素电极191和未由像素电极191覆盖的层间绝缘层250上。遮光构件220形成在像素PX的边界和薄膜晶体管上以防止光泄漏。
遮光构件220沿着栅极线121延伸的同时向上且向下扩展，并且可以包括覆盖形成有薄膜晶体管等的区域的水平遮光构件以及沿着数据线171延伸的竖直遮光构件。换言之，水平遮光构件可以形成在第一凹陷V1中，并且竖直遮光构件可以形成在第二凹陷V2中。滤色器230和遮光构件220可以在一些区域中彼此重叠。
然后，顶层360形成在第一绝缘层350上。顶层360可由有机材料形成。微腔305形成在顶层360下方，并且因为顶层360通过硬化处理进行了硬化，所以顶层360维持微腔305的形状。顶层360被形成为与像素电极191隔开，同时微腔305插入在顶层360和像素电极191之间。
顶层360沿着像素行形成在每个像素PX和第二凹陷V2中，但是顶层360不形成在第一凹陷V1中。在第二凹陷V2中，微腔305不形成在顶层360下方。因此，放置在第二凹陷V2中的顶层360的厚度可以被形成为大于放置在像素区域中的顶层360的厚度，并且较厚的区域可被称为支撑构件(365)。形成微腔305使得其顶面和侧面由顶层360覆盖。
换言之，微腔305的相对侧可以由形成在与顶层360相同的层上的支撑构件(365)支撑。
在根据第一示例性实施方式的显示设备中，光学构件300形成在与形成在顶层360的第二凹陷V2中的支撑构件(365)对应的部分上。
光学构件300在绝缘基板110上以凸起的半圆柱形沿着形成在第二凹陷V2上的支撑构件(365)连续地形成在支撑构件(365)的顶部。光学构件300的边缘与相邻的微腔305的至少一部分重叠。
光学构件300可以由与顶层360相同的材料形成，并且以向上凸起的形状形成，从而折射从外部入射到绝缘基板110上的光的方向。
在使用一个绝缘基板110的典型显示设备中，当液晶分子310不竖直取向时，即，当液晶分子310水平取向时，沿一个方向摩擦取向层11和取向层21的处理由于微腔305和覆盖微腔305的顶层360而是困难的。因此，为了对使用一个绝缘基板110并且其中液晶分子310被水平取向的显示设备的取向层11和取向层21进行取向，使用光取向法，所述光取向法使用UV辐射等对取向层11和取向层21进行取向。
当根据显示设备的典型制造处理形成微腔305时，与第二凹陷V2相邻的微腔305的侧壁可以形成为倾斜的。由于微腔305的倾斜的侧壁，光取向时，辐射的UV光的路径被改变，从而发生UV光的全反射。因此，不可以在取向层11和取向层21的与微腔305的倾斜的侧壁对应的部分处实施取向。
因此，光取向时，辐射的光通过使用根据示例性实施方式的光学构件300竖直辐射在微腔305的侧壁上，从而防止不良取向。
当光学构件300的直径太小或太大时，辐射的光可能不恰当地入射到微腔305的侧壁上，并且可能不容易改变辐射的光的路径。因此，光学构件300的直径可以形成为比第二凹陷V2的宽度更宽，并且比第二凹陷V2和微腔305的宽度的和更窄。
随后将详细地描述通过光学构件300改变辐射在微腔305的侧壁上的光的路径。
注入孔307形成在顶层360中以延伸至并且部分地暴露微腔305。与形成有注入孔307的区域相邻的第一绝缘层350可以包括比顶层360突出更多的区域。
因为注入孔307可以形成在像素PX的至少一个或多个的边缘处并且通过注入孔307暴露微腔305，所以取向剂或液晶材料可以通过注入孔307注入到微腔305中。
第二绝缘层370可进一步形成在顶层360上。第二绝缘层370可由诸如氮化硅(SiNx)、氧化硅(SiOx)等的无机绝缘材料制成。第二绝缘层370可形成为覆盖顶层360的顶面和侧面。第二绝缘层370用于保护由有机材料形成的顶层360，并且如果需要的话可省去。
如图2所示，第二绝缘层370可以在放置有注入孔307的区域中接触比顶层360突出更多的第一绝缘层350。此外，由于在接触第一绝缘层350的区域和覆盖顶层360的区域之间的台阶，第二绝缘层370可具有台阶状截面。
此外，第二绝缘层370可以耦接至第一绝缘层350。
保护层390可以形成在第二绝缘层370和注入孔307上。
保护层390形成为覆盖注入孔307，微腔305通过注入孔307部分地暴露至外部。即，保护层390可以密封微腔305，使得在微腔305内部的液晶分子310不流到外部。因为保护层390接触液晶分子310，所以保护层390可以由不与液晶分子310起反应的材料制成。例如，保护层390可由聚对二甲苯等制成。
此外，保护层390用于使具有向上凸起的形状的光学构件300平滑。
保护层390可以由诸如双层、三层等的多层形成。双层可以由不同的材料制成的两个层形成。三层由其中相邻层的形成材料彼此不同的三个层组成。例如，保护层390可包括由有机绝缘材料形成的层和由无机绝缘材料形成的层。
虽然未示出，但是偏振器可以形成在显示设备的顶面和底面上。偏振器可包括第一偏振器和第二偏振器。第一偏振器可附接至绝缘基板110的底面，并且第二偏振器可附接在保护层390的顶部上。
接下来，将参考图4和图5描述根据第一示例性实施方式和第二示例性实施方式的显示设备。
图4是示出根据第二示例性实施方式的显示设备的截面图，并且图5是示出根据第三示例性实施方式的显示设备的截面图。
首先，与图3中示出的第一示例性实施方式的显示设备相比，因为除了光学构件300的形状之外，图4和图5中示出的第二示例性实施方式和第三示例性实施方式的显示设备与第一示例性实施方式的显示设备相同，所以将省去其重复描述。
首先，如图4所示，根据第二示例性实施方式的光学构件301以对于绝缘基板110的方向凹入的半圆形沿着形成在第二凹陷V2中的支撑构件(365)连续地形成。光学构件301的边缘与相邻的微腔305的至少一部分重叠。光学构件301可以由与顶层360相同的材料形成，并且可以对于绝缘基板110的方向凹入的半圆形而形成，从而折射从外部入射到绝缘基板110上的光的方向。
在这种情况下，光学构件301的直径可以形成为比第二凹陷V2的宽度更宽，并且比第二凹陷V2和微腔305的宽度的和更窄。
然后，参考图5，根据第三示例性实施方式的光学构件302可以对于绝缘基板110向上凸起的形状沿着形成在第二凹陷V2中的支撑构件(365)连续地形成，光学构件302的截面表面可具有形成多边表面的多边形形状；并且完全连接最外面的部分的线条可具有半圆形形状。
光学构件302的边缘与相邻的微腔305的至少一部分重叠。
光学构件302可以由与顶层360相同的材料形成。
在这种情况下，光学构件302的直径可以形成为比形成在第二凹陷V2中的支撑构件(365)的宽度更宽，并且比支撑构件(365)和微腔305的宽度的和更窄。
现在将参考图6A至图7B描述关于根据第一示例性实施方式和第二示例性实施方式的显示设备的光学构件300和光学构件301的操作原理。
图6A和图6B是用于解释关于根据第一示例性实施方式的显示设备的光学构件的操作原理的示意图，并且图7A和图7B是用于解释关于根据第二示例性实施方式的显示设备的光学构件的操作原理的示意图。
参考图6A和图7A，微腔305的侧壁被形成为倾斜的。根据第一示例性实施方式和第二示例性实施方式的光学构件300和光学构件301覆盖相邻的微腔305的侧壁，并且以向上凸起的形状或向下凹入的形状形成。
然后，参考图6B和图7B，光的入射角可以基于光入射的位置来在凸起形或凹入形的光学构件300或光学构件301上改变。换言之，由于第一示例性实施方式和第二示例性实施方式分别包括光学构件300和光学构件301，入射角从半圆形形状的中心部分至外部逐渐增加，因此，发生光的折射并且光可以竖直地入射在微腔305的倾斜的侧壁上。
因此，当对取向层11和取向层21进行取向时，由于光学构件300和光学构件301而不存在未取向的部分，从而改善取向质量。
根据示例性实施方式，可使用一个基板来制造显示设备，从而降低显示设备的重量、厚度、成本和处理时间，并且光学构件可以包括在显示设备中，从而防止可能发生在显示设备中的光的全反射、不良取向以及光泄漏。
虽然已结合目前被认为是实际的示例性实施方式描述了本发明构思，但应当理解的是，本发明构思并不局限于所公开的实施方式，但是，相反，而是旨在涵盖包含在所附权利要求的精神和范围内的各种变形和等同布置。
<附图标记说明>
11：第一取向层21：第二取向层
110：绝缘基板121：栅极线
124：栅电极140：栅极绝缘层
154：半导体171：数据线
180：钝化层191：像素电极
220：遮光构件230：滤色器
240：有机层250：层间绝缘层
270：公共电极305：微腔
307：注入孔310：液晶分子
350：第一绝缘层360：顶层
370：第二绝缘层390：保护层
300，301，302：光学构件

Claims (20)

1.一种显示设备，包括：
薄膜晶体管，布置在包括多个像素的绝缘基板上；
公共电极和像素电极，布置在所述薄膜晶体管上，在绝缘层插入其间的同时彼此重叠；
液晶层，填充由包括所述像素电极的多个像素电极区分的多个微腔；以及
顶层，布置在所述多个微腔中的微腔上，并且包括延伸至所述微腔的注入孔和支撑所述微腔的支撑构件；以及
光学构件，布置在所述支撑构件上，
其中，所述注入孔沿列方向布置在相邻的微腔之间，并且所述支撑构件沿行方向布置在相邻的微腔之间。
2.根据权利要求1所述的显示设备，其中
所述光学构件具有半圆柱形。
3.根据权利要求2所述的显示设备，其中
所述光学构件在所述绝缘基板上布置为具有凸起的形状。
4.根据权利要求3所述的显示设备，其中
所述光学构件的边缘布置为与相邻的微腔的至少一部分重叠。
5.根据权利要求4所述的显示设备，其中
所述光学构件的直径布置为比预定第二凹陷的宽度更宽，并且比所述第二凹陷和所述微腔的宽度的和更窄。
6.根据权利要求4所述的显示设备，其中
所述光学构件布置在与所述顶层相同的层上。
7.根据权利要求1所述的显示设备，其中
以水平取向模式布置包含在所述液晶层中的液晶分子。
8.根据权利要求7所述的显示设备，进一步包括：
取向层，布置在所述微腔的表面上，
其中，所述取向层是水平取向层。
9.根据权利要求8所述的显示设备，进一步包括：
保护层，布置在所述顶层上以覆盖所述注入孔。
10.根据权利要求9所述的显示设备，进一步包括：
第一绝缘层，布置在所述顶层下方；以及
第二绝缘层，布置在所述顶层上方。
11.根据权利要求2所述的显示设备，其中
所述光学构件在所述绝缘基板上布置为具有凹入的形状。
12.根据权利要求11所述的显示设备，其中
所述光学构件的边缘布置为与相邻的微腔的至少一部分重叠。
13.根据权利要求12所述的显示设备，其中
所述光学构件的直径布置为比预定第二凹陷的宽度更宽，并且比所述第二凹陷和所述微腔的宽度的和更窄。
14.根据权利要求12所述的显示设备，其中
所述光学构件布置在与所述顶层相同的层上。
15.根据权利要求11所述的显示设备，进一步包括：
取向层，布置在所述微腔的表面上，
其中，所述取向层是水平取向层。
16.根据权利要求15所述的显示设备，其中
保护层布置在所述顶层上以覆盖所述注入孔。
17.根据权利要求1所述的显示设备，其中
所述光学构件具有以多边形形状布置的多边表面，并且在所述绝缘基板上布置为具有凸起的形状。
18.根据权利要求17所述的显示设备，其中
所述光学构件的边缘布置为与相邻的微腔的至少一部分重叠。
19.根据权利要求18所述的显示设备，其中
所述光学构件的直径布置为比预定第二凹陷的宽度更宽，并且比所述第二凹陷和所述微腔的宽度的和更窄。
20.根据权利要求18所述的显示设备，其中
所述光学构件布置在与所述顶层相同的层上。
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