CN105807413A - 一种基于光调制技术的落射金相显微镜 - Google Patents

一种基于光调制技术的落射金相显微镜 Download PDF

Info

Publication number
CN105807413A
CN105807413A CN201610332773.9A CN201610332773A CN105807413A CN 105807413 A CN105807413 A CN 105807413A CN 201610332773 A CN201610332773 A CN 201610332773A CN 105807413 A CN105807413 A CN 105807413A
Authority
CN
China
Prior art keywords
photomodulator
light
lens
reflecting mirror
microscope
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201610332773.9A
Other languages
English (en)
Other versions
CN105807413B (zh
Inventor
夏波
邬明慧
肖倩
江建平
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Maike Aodi Industry Group Co Ltd
Original Assignee
Maike Aodi Industry Group Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Maike Aodi Industry Group Co Ltd filed Critical Maike Aodi Industry Group Co Ltd
Priority to CN201610332773.9A priority Critical patent/CN105807413B/zh
Publication of CN105807413A publication Critical patent/CN105807413A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN105807413B publication Critical patent/CN105807413B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B21/00Microscopes
    • G02B21/06Means for illuminating specimens
    • G02B21/08Condensers
    • G02B21/14Condensers affording illumination for phase-contrast observation
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B21/00Microscopes
    • G02B21/0004Microscopes specially adapted for specific applications
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B21/00Microscopes
    • G02B21/06Means for illuminating specimens
    • G02B21/08Condensers
    • G02B21/086Condensers for transillumination only

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Microscoopes, Condenser (AREA)

Abstract

本发明属于显微镜技术领域,具体涉及一种基于光调制技术的落射金相显微镜,包括显微镜机架组、铰链头部、落射明场同轴照明装置和电器控制装置,机架上设透射照明系统IV,包括聚光镜、第二孔径光栏、集光镜后片、第二视场光栏、第六反射镜、集光镜前片、散射镜、半球形集光镜片和透射光源;铰链头部包括管镜、直角棱镜、第一反射镜、第二反射镜、第一中继透镜、第二光调制器、第二中继透镜、直角棱镜组、第四反射镜、第五反射镜、第一目镜、第三反射镜和第二目镜;落射明场同轴照明装置包括落射光源、照明透镜前片、第一光调制器、第一孔径光栏、第一视场光栏、照明透镜后片和半透半反镜。目的是:解决现有显微镜观察方式单一,功能单一的问题。

Description

一种基于光调制技术的落射金相显微镜
技术领域
本发明属于显微镜技术领域,具体涉及一种基于光调制技术的落射金相显微镜。
背景技术
现在,显微镜已经广泛用于教学、医疗、工业检测等多个领域。它不仅可以应用于动物、植物的观察与研究,也广泛用于工业的在线检测,因此,需要多种观察方式以满足应用。而随着工业的发展,对金相学的研究,已扩展到对材相学的研究,对微观结构的研究,几乎已经介入到产品的所有阶段,从最初的材料开发到检查、生产、制造过程的控制以及故障分析等等。
如今材相学中微观结构的鉴定,通常需要多种观察方式,单一的观察方式已经不能完整地表达信息,迫切需要多种观察方式并存的显微镜以满足应用。因此,落射金相显微镜成为必不可少的工具,同时由于材料性质的千变万化,多种观察方式并存意义重大。
明视场观察,是最普遍的一种观察方式,广泛应用于病理、检验,用于观察被染色的切片,这种通用观察方式,整个视场亮度高、均匀,应用范围广,操作简单,但是标本的对比度低,且没有立体感。因此,在观察一些特殊标本时,明场观察无法实现。
由于人眼只能区分光波的波长和振幅,即颜色和亮度,对于无色透明的生物标本,当光线通过时,波长和振幅变化不大,在明场观察时很难观察到标本。在《光学技术手册》中公开了一种相衬显微镜,该相衬观察是利用被测物体的光程差,将透过标本的可见光的光程差变成振幅差,从而提高各种结构间的对比度,使各种结构变得清晰可见。光线透过标本后发生折射,偏离原来的光路,同时相位被延迟1/4λ,如果再增加或减少1/4λ,则光程差变成1/2λ,两束光合轴后干涉加强,振幅增大或减小,提高反差。这种观察方式,有效利用光的干涉现象,将人眼不可分辨的相位差变成可分辨的振幅差,即使无色透明的物质也可成为清晰可见,因此,在鉴定活体细胞被大量使用。但该方案需采用特制的相衬物镜,由于落射照明物镜即是聚光镜又是物镜,造成该方案无法实现落射相衬显微镜术。
申请号为US2553108的专利公布文件中公开了一种落射相衬显微系统,该落射相衬显微系统包括落射照明系统、普通物镜系统、中继系统和目镜系统等,在落射照明系统中,灯丝成像于物镜后焦面处,环形光栏放置于视场光栏与灯丝之间,并无孔径光栏;在中继系统中,相板放置于管镜附近,在管镜与半透半反镜之间,与照明系统中的环形光栏共轭。该系统中,灯丝像与相板并没有共轭,因此并不能实现均匀成像,极大影响成像质量。该专利虽然在形式上实现了落射相衬,但是实际并不是真正意义上的相衬,相板与后焦面的偏离,直接影响通过相板的直射光和衍射光,进而影响相衬效果。
霍夫曼相衬是利用斜射光照射到标本产生折射、衍射,光线通过物镜光密度梯度调节器产生不同阴影,从而使透明标本表面产生明暗差异,来增加观察对比度的原理,这种观察方式可提高未染色标本的可见性和对比度,而且图像显示阴影或近似三维结构而不会产生光晕,可应用于所有类型的细胞、组织,无论活体、染色或未染色,晶体,透明聚合物,玻璃以及其它类似材料等等。
申请号为US8599479B2专利公布文件中公开了一种调节对比度显微镜,该调节对比度显微镜包括光圈构件和调节器,光圈构件位于聚光镜的前焦平面,调节器位于与光圈构件共轭的物镜后焦平面处,通过对调节器的特定区域透过率的界定,获得针对ICSI的良好观察。该显微镜采用的是透射的方式,需要特制的霍夫曼相衬物镜,而在落射观察中,由于落射照明物镜即是聚光镜又是物镜,造成该方案无法实现落射霍夫曼相衬显微镜术。
暗视场观察,基于丁达尔光学效应,微粒对斜射光反射或衍射,增大人眼可见性。由于直射光不直接照射标本,只有斜射光线照射到标本上,发生反射或衍射,衍射光线进入物镜,而非衍射光线不能进入物镜,这些衍射光线形成的图像效果就是暗场效果,这些图像边界经常会显现白色的亮光环,这些亮环增强了标本的外观形状,并且使图像具有非常高的衬度和细节。暗场观察可以观察到极其微小的物体,分辨率可达0.02-0.04μm,远远高于明场观察的0.4μm,所以暗场技术又被称为“超显微”技术。
申请号为CN201320273674.X专利公布文件中公开了一种用于金相显微镜暗场观察的照明系统,但该方案需采用特制的暗场物镜及照明器,该产品通用性不强,结构复杂。
传统意义上的专用观察方式的显微镜,基本是在透射照明的前提下,且需要配置专用物镜及相关配件,才能实现专用的观察。如相衬显微镜,需要在聚光镜前面的孔径光栏附近放置环形光栏,选用匹配的相衬物镜,才能实现相衬观察,若需要转换成其他的观察方式,如暗场观察,则需要更换暗场物镜,同时将环形光栏替换成专用暗场光栏,才能实现暗场观察,使用时多有不便。随着工业发展,对显微镜的要求越来越高,所以,设计一种多功能的落射金相显微镜已成为必需。
发明内容
本发明的目的是:旨在提供一种基于光调制技术的落射金相显微镜,用以解决现有显微镜观察方式单一,功能单一,通用性不强的问题。
为实现上述技术目的,本发明采用的技术方案如下:一种基于光调制技术的落射金相显微镜,包括显微镜机架组、铰链头部、落射明场同轴照明装置、电器控制装置和双插头弹簧线,所述的铰链头部、落射明场同轴照明装置从上到下依次固定在显微镜机架组上,所述的电器控制装置设于显微镜机架组内,所述电器控制装置的输出端与落射明场同轴照明装置的输入端通过双插头弹簧线电连接,
所述的显微镜机架组包括载物台、转换器、机架和调焦机构,所述的机架上设有物镜,形成物镜系统III,所述的机架于物镜的下方设有透射照明系统IV,所述的透射照明系统IV包括聚光镜、第二孔径光栏、集光镜后片、第二视场光栏、第六反射镜、集光镜前片、散射镜、半球形集光镜片和透射光源,所述集光镜前片、散射镜、半球形集光镜片和透射光源的光路位于水平线上,所述聚光镜、第二孔径光栏、集光镜后片、第二视场光栏、第六反射镜的光路垂直向上透过标本和物镜;
所述的铰链头部包括管镜、直角棱镜、第一反射镜、第二反射镜、第一中继透镜、第二光调制器、第二中继透镜、直角棱镜组、第四反射镜、第五反射镜、第一目镜、第三反射镜和第二目镜,并形成头部光学系统I;
所述的落射明场同轴照明装置包括落射光源、照明透镜前片、第一光调制器、第一孔径光栏、第一视场光栏、照明透镜后片和半透半反镜,并形成落射照明系统II,所述落射光源、照明透镜前片、第一光调制器、第一孔径光栏、第一视场光栏、照明透镜后片的光路位于水平线上;
所述半透半反镜、管镜、直角棱镜的光路垂直向上并经第一反射镜、第二反射镜、第一中继透镜、第二光调制器、第二中继透镜、直角棱镜组、第四反射镜、第五反射镜和第一目镜后输出,同时光路从直角棱镜组经第三反射镜和第二目镜输出。
采用上述技术方案的发明,通过第一光调制器和第二光调制器对照明光和成像光进行调制,在明场物镜条件下,实现多种落射观察方式。当第一光调制器和第二光调制器均放入光路时,可实现落射相衬、落射霍夫曼相衬、落射暗场等;当第一光调制器和第二光调制器均不放入光路时,为普通明场观察;当第一光调制器放入光路时,可实现环形照明、斜照明等等。这样的结构设计,观察方式多种多样,可以随意切换,实现不同的功能,通用性非常强。
进一步,所述的第一光调制器为环形光栏,所述的环形光栏包括第一光调制器凹槽、第一光调制器通孔和相衬环形光栏插板,所述的第二光调制器为相衬环板,所述的相衬环板包括第二光调制器凹槽、第二光调制器通孔和相衬环板插板。
这样的结构设计,通过第一光调制器和第二光调制器的搭配使用,实现落射相衬显微镜术。
进一步,所述的第一光调制器为狭缝光栏,所述的狭缝光栏包括第一光调制器凹槽、第一光调制器通孔和霍夫曼相衬狭缝光栏插板,所述的第二光调制器为滤波器,所述的相衬环板包括第二光调制器凹槽、第二光调制器通孔和霍夫曼相衬滤波器插板。
这样的结构设计,通过第一光调制器和第二光调制器的搭配使用,实现落射霍夫曼相衬显微镜术。
进一步,所述的第一光调制器为圆形挡片,所述的圆形挡片包括第一光调制器凹槽、第一光调制器通孔和暗场圆形挡片插板,所述的第二光调制器为环形挡片,所述的环形挡片包括第二光调制器凹槽、第二光调制器通孔和暗场环形挡片插板。
这样的结构设计,通过第一光调制器和第二光调制器的搭配使用,实现落射暗场显微镜术。
进一步,所述的第一光调制器为环形光栏,所述的环形光栏包括第一光调制器凹槽、第一光调制器通孔和相衬环形光栏插板。
这样的结构设计,用来实现对标本的环形照明效果。
进一步,所述的第一光调制器为狭缝光栏,所述的狭缝光栏包括第一光调制器凹槽、第一光调制器通孔和霍夫曼相衬狭缝光栏插板。
这样的结构设计,用来实现对标本的斜照明效果。
进一步,所述的铰链头部包括多角度旋转机构,所述多角度旋转机构的角度调整范围为3°~30°。
这样的结构设计,可以随意调整铰链头部的角度,使用起来非常方便。
附图说明
本发明可以通过附图给出的非限定性实施例进一步说明;
图1是本发明一种基于光调制技术的落射金相显微镜的实施例的结构示意图;
图2是本发明一种基于光调制技术的落射金相显微镜的实施例的光学系统示意图;
图3是图1中落射明场同轴照明装置的结构示意图;
图4是图1中铰链头部的结构示意图;
图5是图2中第一光调制器的结构示意图;
图6是图2中第二光调制器的结构示意图;
图7是图5中第一光调制器包括相衬环形光栏插板的结构示意图;
图8是图5中第一光调制器包括霍夫曼相衬狭缝光栏插板的结构示意图;
图9是图5中第一光调制器包括暗场圆形挡片插板的结构示意图;
图10是图6中第二光调制器包括相衬环板插板的结构示意图;
图11是图6中第二光调制器包括霍夫曼相衬滤波器插板的结构示意图;
图12是图6中第二光调制器包括暗场环形挡片插板的结构示意图;
主要元件符号说明如下:
1.铰链头部,2.落射明场同轴照明装置,3.电器控制装置,4.载物台,5.落射光源,6.照明透镜前片,7.第一光调制器,8.第一孔径光栏,9.第一视场光栏,10.照明透镜后片,11.半透半反镜,12.管镜,13.直角棱镜,14.第一反射镜,15.第二反射镜,16.第一中继透镜,17.第二光调制器,18.第二中继透镜,19.直角棱镜组,20.第四反射镜,21.第五反射镜,22.第一目镜,23.第三反射镜,24.第二目镜,25.物镜,26.标本,27.聚光镜,28.第二孔径光栏,29.集光镜后片,30.第二视场光栏,31.第六反射镜,32.集光镜前片,33.散射镜,34.半球形集光镜片,35.透射光源,70.第一光调制器凹槽,71.第一光调制器通孔,72.相衬环形光栏插板,73.霍夫曼相衬狭缝光栏插板,74.暗场圆形挡片插板,100.多角度旋转机构,170.第二光调制器凹槽,171.第二光调制器通孔,172.相衬环板插板,173.霍夫曼相衬滤波器插板,174.暗场环形挡片插板,200.检偏片,201.起偏片,202.滤色片。
具体实施方式
为了使本领域的技术人员可以更好地理解本发明,下面结合附图和实施例对本发明技术方案进一步说明。
如图1所示和图2,本发明的一种基于光调制技术的落射金相显微镜,包括显微镜机架组、铰链头部1、落射明场同轴照明装置2、电器控制装置3和双插头弹簧线,铰链头部1、落射明场同轴照明装置2从上到下依次固定在显微镜机架组上,电器控制装置3设于显微镜机架组内,电器控制装置3的输出端与落射明场同轴照明装置2的输入端通过双插头弹簧线电连接,显微镜机架组包括载物台4、转换器、机架和调焦机构,机架上设有物镜25,形成物镜系统III,机架于物镜25的下方设有透射照明系统IV,透射照明系统IV包括聚光镜27、第二孔径光栏28、集光镜后片29、第二视场光栏30、第六反射镜31、集光镜前片32、散射镜33、半球形集光镜片34和透射光源35,集光镜前片32、散射镜33、半球形集光镜片34和透射光源35的光路位于水平线上,聚光镜27、第二孔径光栏28、集光镜后片29、第二视场光栏30、第六反射镜31的光路垂直向上透过标本26和物镜25;铰链头部1包括管镜12、直角棱镜13、第一反射镜14、第二反射镜15、第一中继透镜16、第二光调制器17、第二中继透镜18、直角棱镜组19、第四反射镜20、第五反射镜21、第一目镜22、第三反射镜23和第二目镜24,并形成头部光学系统I;落射明场同轴照明装置2包括落射光源5、照明透镜前片6、第一光调制器7、第一孔径光栏8、第一视场光栏9、照明透镜后片10和半透半反镜11,并形成落射照明系统II,落射光源5、照明透镜前片6、第一光调制器7、第一孔径光栏8、第一视场光栏9、照明透镜后片10的光路位于水平线上;半透半反镜11、管镜12、直角棱镜13的光路垂直向上并经第一反射镜14、第二反射镜15、第一中继透镜16、第二光调制器17、第二中继透镜18、直角棱镜组19、第四反射镜20、第五反射镜21和第一目镜22后输出,同时光路从直角棱镜组19经第三反射镜23和第二目镜24输出。
本实施例中,通过第一光调制器7和第二光调制器17对照明光和成像光进行调制,在明场物镜条件下,实现多种落射观察方式。当第一光调制器7和第二光调制器17均放入光路时,可实现落射相衬、落射霍夫曼相衬、落射暗场等;当第一光调制器7和第二光调制器17均不放入光路时,为普通明场观察;当第一光调制器7放入光路时,可实现环形照明、斜照明等等。
在落射照明下,落射光源5发出的光,依次经过照明透镜前片6、第一光调制器7、第一孔径光栏8、第一视场光栏9、照明透镜后片10和半透半反镜11,进入充当聚光镜的物镜25,均匀照射在标本26上。标本26反射的光,再次经过物镜25,半透半反镜11,进入头部光学系统I,经由管镜12、直角棱镜13、第一反射镜14、第二反射镜15、第一中继透镜16、第二光调制器17、第二中继透镜18、直角棱镜组19、第四反射镜20、第五反射镜21和第一目镜22后输出,同时光路从直角棱镜组19经第三反射镜23和第二目镜24后输出。在透射照明下,透射光源35发出的光,结果由半球形集光镜片34和散射镜33组成的匀光系统,再通过由集光镜前片32、第六反射镜31、第二视场光栏30、集光镜后片29、第二孔径光栏28和聚光镜27组成的聚光系统,最后均匀照射在标本26上,形成完善照明。经过标本26的光,通过物镜25,半透半反镜11,进入头部光学系统I,最终成像于第一目镜22和第二目镜24。
如图3所示,检偏片200和起偏片201可以调制光强,滤色片202根据具体应用选择,常用的为绿色滤光片。
如图7和图10所示,当第一光调制器7为环形光栏,环形光栏包括第一光调制器凹槽70、第一光调制器通孔71和相衬环形光栏插板72,第二光调制器17为相衬环板,相衬环板包括第二光调制器凹槽170、第二光调制器通孔171和相衬环板插板172,通过第一光调制器7和第二光调制器17的搭配使用,实现落射相衬显微镜术。
如图8和图11所示,当第一光调制器7为狭缝光栏,狭缝光栏包括第一光调制器凹槽70、第一光调制器通孔71和霍夫曼相衬狭缝光栏插板73,第二光调制器17为滤波器,相衬环板包括第二光调制器凹槽170、第二光调制器通孔171和霍夫曼相衬滤波器插板173,通过第一光调制器7和第二光调制器17的搭配使用,实现落射霍夫曼相衬显微镜术。
如图9和图12所示,当第一光调制器7为圆形挡片,圆形挡片包括第一光调制器凹槽70、第一光调制器通孔71和暗场圆形挡片插板74,第二光调制器17为环形挡片,环形挡片包括第二光调制器凹槽170、第二光调制器通孔171和暗场环形挡片插板174,通过第一光调制器7和第二光调制器17的搭配使用,实现落射暗场显微镜术。
如图7所示,当第一光调制器7为环形光栏,环形光栏包括第一光调制器凹槽70、第一光调制器通孔71和相衬环形光栏插板72,用来实现对标本26的环形照明效果。
如图8所示,当第一光调制器7为狭缝光栏,狭缝光栏包括第一光调制器凹槽70、第一光调制器通孔71和霍夫曼相衬狭缝光栏插板73,用来实现对标本26的斜照明效果。
如图4所示,铰链头部1包括多角度旋转机构100,多角度旋转机构100的角度调整范围为3°~30°,可以随意调整铰链头部1的角度,使用起来非常方便。第一目镜22和第二目镜24为广角平场目镜,目镜视场22,第一目镜22或第二目镜24可在-5~+5个视度范围内调节,目镜瞳距在55mm~75mm之间任意调节。
如图5和图6所示,第一光调制器7设有第一光调制器凹槽70、第一光调制器通孔71,第二光调制器17设第二光调制器凹槽170、第二光调制器通孔171。
如图7所示,根据相板与环形光栏的共轭关系,通过光路追迹,得到相应尺寸,相衬环形光栏插板72材料为40Cr,厚度为0.3mm,外径为外环为1,内环2,具体数值如表a所示:
4X 10X 20X 40X
Φ 22mm 22mm 22mm 22mm
Φ1 5mm 9mm 9mm 14.3mm
Φ2 4.4mm 7.8mm 7.8mm 11.5mm
表a
如图8所示,根据滤波片与狭缝光栏的共轭关系,通过光路追迹,得到相应尺寸,霍夫曼相衬狭缝光栏插板73材料为40Cr,厚度为0.3mm,外径为,狭缝上宽度L1,下宽度L2,高度H1,具体数值如表b所示:
4X 10X 20X 40X
Φ 22mm 22mm 22mm 22mm
H1 0.8mm 2mm 2mm 3mm
H2 4.2mm 5mm 5mm 6.5mm
L1 4.5mm 10mm 10mm 12mm
L2 4.5mm 14mm 14mm 16mm
表b
如图9所示,暗场圆形挡片插板74材料为K9玻璃,表面Ⅰ,全表面镀减反射膜后,B区表面加镀吸收膜,透过率为1%±1%,表面Ⅱ,镀增透膜,在400nm~630nm范围内,反射率低于0.5%,具体数值如表c所示:
4X 10X 20X 40X
Φ 22mm 22mm 22mm 22mm
Φ1 15.6mm 18.4mm 19.6mm 20.8mm
T 1.5mm 1.5mm 1.5mm 1.5mm
表c
如图10所示,相衬环板插板172材料为K9玻璃,厚度T为1.5mm,确定1和2的值,使环形宽度满足评价指标Q,能够极大改善位相物体像四周的“镶边”现象,并且成像的光亮度较大。表面Ⅰ,全表面镀减反射膜后,C区内加镀λ/4相位膜,B区表面加镀吸收膜。使透过率为0.2~0.1,表面Ⅱ,镀增透膜,在400nm~630nm范围内,反射率低于0.5%,具体数值如表d所示:
4X 10X 20X 40X
Φ 12.5mm 12.5mm 12.5mm 12.5mm
Φ1 6.2mm 5mm 2.8mm 3mm
Φ2 3.6mm 3mm 1.8mm 1.6mm
T 1.5mm 1.5mm 1.5mm 1.5mm
表d
如图11所示,霍夫曼相衬滤波器插板173材料为K9玻璃,厚度T为1.5mm,选择合适的B区即灰色区域的透过率和宽度H2,得到一个合适的像衬比和成像灵敏度,得到最佳的成像效果。表面Ⅰ,全表面镀减反射膜后,B区表面加镀吸收膜,使透过率为15%±1.5%,C区表面加镀吸收膜。使透过率为1%±1%,表面Ⅱ,镀增透膜,在400nm~630nm范围内,反射率低于0.5%,具体数值如表e所示:
4X 10X 20X 40X
Φ 12.5mm 12.5mm 12.5mm 12.5mm
H1 2.5mm 2.2mm 0.8mm 1.4mm
H2 1.2mm 1.6mm 0.8mm 0.9mm
T 1.5mm 1.5mm 1.5mm 1.5mm
表e
如图12所示,暗场环形挡片插板174材料为K9玻璃,表面Ⅰ,全表面镀减反射膜后,C区表面加镀吸收膜,使透过率为1%±1%,表面Ⅱ,镀增透膜,在400nm~630nm范围内,反射率低于0.5%,具体数值如表f所示:
4X 10X 20X 40X
Φ 22mm 22mm 22mm 22mm
Φ1 15.6mm 18.4mm 19.6mm 20.8mm
T 1.5mm 1.5mm 1.5mm 1.5mm
表f
上述实施例仅示例性说明本发明的原理及其功效,而非用于限制本发明。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本发明的精神及范畴下,对上述实施例进行修饰或改变。因此,凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本发明所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变,仍应由本发明的权利要求所涵盖。

Claims (7)

1.一种基于光调制技术的落射金相显微镜,其特征在于:包括显微镜机架组、铰链头部(1)、落射明场同轴照明装置(2)、电器控制装置(3)和双插头弹簧线,所述的铰链头部(1)、落射明场同轴照明装置(2)从上到下依次固定在显微镜机架组上,所述的电器控制装置(3)设于显微镜机架组内,所述电器控制装置(3)的输出端与落射明场同轴照明装置(2)的输入端通过双插头弹簧线电连接,
所述的显微镜机架组包括载物台(4)、转换器、机架和调焦机构,所述的机架上设有物镜(25),形成物镜系统III,所述的机架于物镜(25)的下方设有透射照明系统IV,所述的透射照明系统IV包括聚光镜(27)、第二孔径光栏(28)、集光镜后片(29)、第二视场光栏(30)、第六反射镜(31)、集光镜前片(32)、散射镜(33)、半球形集光镜片(34)和透射光源(35),所述集光镜前片(32)、散射镜(33)、半球形集光镜片(34)和透射光源(35)的光路位于水平线上,所述聚光镜(27)、第二孔径光栏(28)、集光镜后片(29)、第二视场光栏(30)、第六反射镜(31)的光路垂直向上透过标本(26)和物镜(25);
所述的铰链头部(1)包括管镜(12)、直角棱镜(13)、第一反射镜(14)、第二反射镜(15)、第一中继透镜(16)、第二光调制器(17)、第二中继透镜(18)、直角棱镜组(19)、第四反射镜(20)、第五反射镜(21)、第一目镜(22)、第三反射镜(23)和第二目镜(24),并形成头部光学系统I;
所述的落射明场同轴照明装置(2)包括落射光源(5)、照明透镜前片(6)、第一光调制器(7)、第一孔径光栏(8)、第一视场光栏(9)、照明透镜后片(10)和半透半反镜(11),并形成落射照明系统II,所述落射光源(5)、照明透镜前片(6)、第一光调制器(7)、第一孔径光栏(8)、第一视场光栏(9)、照明透镜后片(10)的光路位于水平线上;
所述半透半反镜(11)、管镜(12)、直角棱镜(13)的光路垂直向上并经第一反射镜(14)、第二反射镜(15)、第一中继透镜(16)、第二光调制器(17)、第二中继透镜(18)、直角棱镜组(19)、第四反射镜(20)、第五反射镜(21)和第一目镜(22)后输出,同时光路从直角棱镜组(19)经第三反射镜(23)和第二目镜(24)输出。
2.根据权利要求1所述的一种基于光调制技术的落射金相显微镜,其特征在于:所述的第一光调制器(7)为环形光栏,所述的环形光栏包括第一光调制器凹槽(70)、第一光调制器通孔(71)和相衬环形光栏插板(72),所述的第二光调制器(17)为相衬环板,所述的相衬环板包括第二光调制器凹槽(170)、第二光调制器通孔(171)和相衬环板插板(172)。
3.根据权利要求1所述的一种基于光调制技术的落射金相显微镜,其特征在于:所述的第一光调制器(7)为狭缝光栏,所述的狭缝光栏包括第一光调制器凹槽(70)、第一光调制器通孔(71)和霍夫曼相衬狭缝光栏插板(73),所述的第二光调制器(17)为滤波器,所述的相衬环板包括第二光调制器凹槽(170)、第二光调制器通孔(171)和霍夫曼相衬滤波器插板(173)。
4.根据权利要求1所述的一种基于光调制技术的落射金相显微镜,其特征在于:所述的第一光调制器(7)为圆形挡片,所述的圆形挡片包括第一光调制器凹槽(70)、第一光调制器通孔(71)和暗场圆形挡片插板(74),所述的第二光调制器(17)为环形挡片,所述的环形挡片包括第二光调制器凹槽(170)、第二光调制器通孔(171)和暗场环形挡片插板(174)。
5.根据权利要求1所述的一种基于光调制技术的落射金相显微镜,其特征在于:所述的第一光调制器(7)为环形光栏,所述的环形光栏包括第一光调制器凹槽(70)、第一光调制器通孔(71)和相衬环形光栏插板(72)。
6.根据权利要求1所述的一种基于光调制技术的落射金相显微镜,其特征在于:所述的第一光调制器(7)为狭缝光栏,所述的狭缝光栏包括第一光调制器凹槽(70)、第一光调制器通孔(71)和霍夫曼相衬狭缝光栏插板(73)。
7.根据权利要求1所述的一种基于光调制技术的落射金相显微镜,其特征在于:所述的铰链头部(1)包括多角度旋转机构(100),所述多角度旋转机构(100)的角度调整范围为3°~30°。
CN201610332773.9A 2016-05-18 2016-05-18 一种基于光调制技术的落射金相显微镜 Active CN105807413B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610332773.9A CN105807413B (zh) 2016-05-18 2016-05-18 一种基于光调制技术的落射金相显微镜

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610332773.9A CN105807413B (zh) 2016-05-18 2016-05-18 一种基于光调制技术的落射金相显微镜

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN105807413A true CN105807413A (zh) 2016-07-27
CN105807413B CN105807413B (zh) 2018-11-02

Family

ID=56452515

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201610332773.9A Active CN105807413B (zh) 2016-05-18 2016-05-18 一种基于光调制技术的落射金相显微镜

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN105807413B (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106092521B (zh) * 2016-08-11 2019-04-12 麦克奥迪实业集团有限公司 一种高精度的物镜齐焦检测设备及检测方法
CN109683301A (zh) * 2019-02-01 2019-04-26 宁波永新光学股份有限公司 一种正置显微镜的照明装置

Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA1028878A (en) * 1974-06-05 1978-04-04 Robert Hoffman Modulation contrast microscope
JP2002031758A (ja) * 2000-07-17 2002-01-31 Olympus Optical Co Ltd 顕微鏡
DE102005023850A1 (de) * 2005-05-24 2006-11-30 Leica Microsystems Cms Gmbh Inverses Mikroskop
JP2010008793A (ja) * 2008-06-27 2010-01-14 Nikon Corp 顕微鏡装置
JP2011017875A (ja) * 2009-07-08 2011-01-27 Olympus Corp 観察装置
CN101995649A (zh) * 2010-12-22 2011-03-30 广州粤显光学仪器有限责任公司 落射式微分干涉相衬显微镜
CN201909886U (zh) * 2010-12-22 2011-07-27 广州粤显光学仪器有限责任公司 落射式微分干涉相衬显微镜
CN202956529U (zh) * 2012-08-17 2013-05-29 北京倍肯恒业科技发展有限责任公司 一种led荧光显微镜
JP2013105155A (ja) * 2011-11-16 2013-05-30 Olympus Corp 顕微鏡システム
JP2013142829A (ja) * 2012-01-11 2013-07-22 Olympus Corp 顕微鏡、及び、顕微鏡用光源ユニット
JP2013242418A (ja) * 2012-05-21 2013-12-05 Sigma Koki Kk 落射型位相差顕微鏡
CN203561790U (zh) * 2013-10-24 2014-04-23 广州粤显光学仪器有限责任公司 一种偏振光调制相衬显微镜
JP2016031444A (ja) * 2014-07-29 2016-03-07 オリンパス株式会社 顕微鏡システム
CN205691849U (zh) * 2016-05-18 2016-11-16 麦克奥迪实业集团有限公司 一种基于光调制技术的落射金相显微镜

Patent Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA1028878A (en) * 1974-06-05 1978-04-04 Robert Hoffman Modulation contrast microscope
JP2002031758A (ja) * 2000-07-17 2002-01-31 Olympus Optical Co Ltd 顕微鏡
DE102005023850A1 (de) * 2005-05-24 2006-11-30 Leica Microsystems Cms Gmbh Inverses Mikroskop
JP2010008793A (ja) * 2008-06-27 2010-01-14 Nikon Corp 顕微鏡装置
JP2011017875A (ja) * 2009-07-08 2011-01-27 Olympus Corp 観察装置
CN201909886U (zh) * 2010-12-22 2011-07-27 广州粤显光学仪器有限责任公司 落射式微分干涉相衬显微镜
CN101995649A (zh) * 2010-12-22 2011-03-30 广州粤显光学仪器有限责任公司 落射式微分干涉相衬显微镜
JP2013105155A (ja) * 2011-11-16 2013-05-30 Olympus Corp 顕微鏡システム
JP2013142829A (ja) * 2012-01-11 2013-07-22 Olympus Corp 顕微鏡、及び、顕微鏡用光源ユニット
JP2013242418A (ja) * 2012-05-21 2013-12-05 Sigma Koki Kk 落射型位相差顕微鏡
CN202956529U (zh) * 2012-08-17 2013-05-29 北京倍肯恒业科技发展有限责任公司 一种led荧光显微镜
CN203561790U (zh) * 2013-10-24 2014-04-23 广州粤显光学仪器有限责任公司 一种偏振光调制相衬显微镜
JP2016031444A (ja) * 2014-07-29 2016-03-07 オリンパス株式会社 顕微鏡システム
CN205691849U (zh) * 2016-05-18 2016-11-16 麦克奥迪实业集团有限公司 一种基于光调制技术的落射金相显微镜

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106092521B (zh) * 2016-08-11 2019-04-12 麦克奥迪实业集团有限公司 一种高精度的物镜齐焦检测设备及检测方法
CN109683301A (zh) * 2019-02-01 2019-04-26 宁波永新光学股份有限公司 一种正置显微镜的照明装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN105807413B (zh) 2018-11-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104765138B (zh) 基于led阵列的多模式显微成像系统及其方法
CN107065159B (zh) 一种基于大照明数值孔径的大视场高分辨率显微成像装置及迭代重构方法
Mehta et al. Polarized light imaging of birefringence and diattenuation at high resolution and high sensitivity
DE102006027836B4 (de) Mikroskop mit Autofokuseinrichtung
EP2562245B1 (en) Cell observation device and cell observation method
CN105182514B (zh) 基于led光源的无透镜显微镜及其图像重构方法
Masters Confocal microscopy and multiphoton excitation microscopy: the genesis of live cell imaging
JPH01501527A (ja) 眼の後部観察用物の結像装置
CN109581645A (zh) 基于光强传输方程的相衬与微分干涉相衬的显微成像方法
JP6865507B2 (ja) 多能性幹細胞の無染色評価支援方法、プログラム、演算装置
CN103197413B (zh) 可产生三维立体图像的光学显微成像方法
Li et al. Resolution-enhanced intensity diffraction tomography in high numerical aperture label-free microscopy
JP2020514809A (ja) 非再入型の2次的にひずめる(nrqd)回折格子及び回折格子プリズムに基づく4次元多平面広帯域結像システム
Amos et al. Re‐evaluation of differential phase contrast (DPC) in a scanning laser microscope using a split detector as an alternative to differential interference contrast (DIC) optics
CN111505817B (zh) 基于偏振编码的相衬显微系统及其成像方法
CN105807413A (zh) 一种基于光调制技术的落射金相显微镜
CN103529542A (zh) 偏振光调制相衬显微镜
CN205691849U (zh) 一种基于光调制技术的落射金相显微镜
Bennett et al. Phase microscopy
Samson et al. Dynamic contrast enhancement in widefield microscopy using projector-generated illumination patterns
CN107300762A (zh) 一种相衬显微成像装置及方法
CN203561790U (zh) 一种偏振光调制相衬显微镜
CN203502664U (zh) 一种透射光学显微镜的样品梯度照明装置
Ernst Keller et al. Contrast enhancement in light microscopy
CN108663735B (zh) 基于扭曲达曼光栅的消色差实时3d成像显微装置

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant