CN105788459A - 柔性显示器及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种柔性显示器,其包括薄膜电晶管和依次设置于薄膜电晶管上的显示介质层、透明导电层和保护层,其中,显示介质层通过卷对卷涂布工艺直接涂布于薄膜电晶管上。本发明柔性显示器中,显示介质层通过卷对卷涂布工艺直接涂布于薄膜电晶管上,使显示介质均匀分布于柔性基板上,可以简化制备流程,减少因柔性基板易发生胀缩导致的产品的贴合缺陷,减少因上下板工艺造成显示器变形和后续工艺不良率的上升。此外,柔性显示器的各部件之间紧密附着,避免在进行可靠度测试时产生接缝缺陷,可提高产品的合格率并降低成本。此外,本发明还公开了一种柔性显示器的制备方法。
Description
技术领域
本发明涉及一种显示器,更具体地说,本发明涉及一种柔性显示器及其制备方法。
背景技术
点阵式显示器主要包括:具有薄膜电晶管数组和拉线的基板、显示介质层和导电基板。现有显示器通常利用贴合技术,将已经形成的显示面板贴合于玻璃基板或柔性基板上。
目前,市面上的显示器主要产品,如电子标签、电子书和智能卡,大多以玻璃作为支撑基板,其制作方式为:分别制作薄膜电晶管和显示层,然后进行贴合。由于玻璃基板本身的胀缩较小,在与显示层贴合后进行可靠度测试时,不会产生贴合缺陷。
但是,显示器的未来趋势是耐用的柔性显示器,采用柔性基板的问题在于:基板和显示层贴合后进行可靠度测试时,由于柔性基板容易发生胀缩,会造成产品的贴合缺陷,导致产品的合格率下降。
如何提供一种简易的柔性显示器的制备方法,以提高产品的合格率,是业界亟待解决的一个重要问题。
发明内容
本发明的目的在于:提供一种简易的柔性显示器及其制备方法,其可减少因柔性基板易发生胀缩导致的产品贴合缺陷,提高产品的合格率。
为了实现上述发明目的,本发明提供了一种柔性显示器,其包括薄膜电晶管和依次设置于薄膜电晶管上的显示介质层、透明导电层和保护层,其中,所述显示介质层通过卷对卷涂布工艺直接涂布于所述薄膜电晶管上。
作为本发明柔性显示器的一种改进,所述薄膜电晶管为上栅极结构。
作为本发明柔性显示器的一种改进,所述薄膜电晶管为下栅极结构。
作为本发明柔性显示器的一种改进,所述显示介质层为厚度为40-200μm的电泳材料,或厚度为5-20μm的双稳态显示介质,或厚度小于5μm的OLED。
作为本发明柔性显示器的一种改进,所述显示介质层通过喷印、丝网印刷或凸版印刷直接涂布于所述薄膜电晶管上。
为了实现上述发明目的,本发明提供了一种柔性显示器的制备方法,其包括以下步骤:
提供薄膜电晶管;以及
在薄膜电晶管上依次设置显示介质层、透明导电层和保护层,其中,显示介质层通过卷对卷涂布工艺直接涂布于所述薄膜电晶管上。
作为本发明柔性显示器的制备方法的一种改进,所述薄膜电晶管为上栅极结构。
作为本发明柔性显示器的制备方法的一种改进,所述薄膜电晶管为下栅极结构。
作为本发明柔性电泳显示器的制备方法的一种改进,所述显示介质层为厚度为40-200μm的电泳材料,或厚度为5-20μm的双稳态显示介质,或厚度小于5μm的OLED。
作为本发明柔性显示器的制备方法的一种改进,所述显示介质层通过喷印、丝网印刷或凸版印刷直接涂布于所述薄膜电晶管上。
相对于现有技术,本发明柔性显示器的制备方法通过卷对卷涂布工艺将显示介质直接涂布于薄膜电晶管上,使显示介质均匀分布于柔性基板上,可以简化制备流程,减少因柔性基板容易发生胀缩导致的产品的贴合缺陷和后续工艺不良率的上升。根据本发明方法制备的柔性显示器,各部件之间紧密附着,避免在进行可靠度测试时产生接缝缺陷,可提高产品的合格率并降低成本。
附图说明
下面结合附图和具体实施方式,对本发明柔性显示器及其制备方法进行详细说明。其中:
图1A至图1I是上栅极结构的制备流程示意图。
图2A至图2I是上栅极结构的制备流程示意图。
图3是本发明柔性显示器制备方法中,在通过卷对卷涂布工艺直接涂布形成显示介质层时,卷材收放方向和涂布方向的示意图。
图4是卷对卷涂布工艺中涂布结构的放大示意图。
具体实施方式
为了使本发明的发明目的、技术方案及其有益技术效果更加清晰,以下结合附图和具体实施方式,对本发明进行进一步详细说明。应当理解的是,本说明书中描述的具体实施方式仅仅是为了解释本发明,并非为了限定本发明。
请参照图1A至图1H所示,为上栅极结构的制备流程示意图,其包括以下步骤:
S1:提供基材,通过溅镀将导电金属镀在基材上。在图示实施方式中,基材为柔性基板,可以是塑料(如PET、PEN、PI)、金属薄片,也可以是复合材料基板,此时,基板上可以根据需要涂布平坦层或阻水氧层。然后,在基材上利用黄光制程形成电极(源极和漏极),源极和漏极为导电金属;
S2:成长有机半导体层并图案化;
S3:成长并图案化绝缘层,并将导电金属溅镀在绝缘层上;
S4:利用黄光制程形成栅极,栅极材料为可导电金属;
S5:成长并图案化制作低介电材料的中间层;
S6:通过卷对卷涂布工艺直接涂布形成显示介质层,显示介质层的厚度可以根据不同的显示介质进行调整,例如,可以是40-200μm的电泳材料、5-20μm的双稳态显示介质或厚度小于5μm的OLED。在本发明的制备方法中,卷对卷涂布工艺可以是喷印、丝网印刷,也可以是凸版印刷;
请特别参阅图3所示,在通过卷对卷涂布工艺直接涂布形成显示介质层时,卷材收放方向既可以垂直于涂布方向,也可以平行于涂布方向。
请参阅图4所示,为了避免涂布误差造成接合区受到显示介质的污染,涂布方向考虑接合区拉线位置。此外,为了避免在制程中显示介质溢流造成的污染,可以制作挡墙结构,以防止液态显示介质污染到接合区。
S7:制作透明导电层,透明导电层可以是纳米银、PEDOT或ITO;
S8:在透明导电层外层成长或涂布保护层(阻水、阻氧),保护层可以是有机膜,无机膜或有机、无机交互形成的多层膜。
请参阅图1H所示,根据以上步骤获得的柔性显示器包括:薄膜电晶管(上栅极结构)和依次设置于薄膜电晶管上的显示介质层、透明导电层和保护层,其中,显示介质层通过卷对卷涂布工艺,如喷印、丝网印刷、凸版印刷,直接涂布并牢固附着在上栅极结构上。
请参照图2A至图2H所示,为下栅极结构的制备流程示意图,其包括以下步骤:
S1’:提供基材,通过溅镀将导电金属镀在基材上。在图示实施方式中,基材为柔性基板,可以是塑料(如PET、PEN、PI)、金属薄片,也可以是复合材料基板,此时,基板上可以根据需要涂布平坦层或阻水氧层;通过图案化形成栅极,栅极材料为可导电金属;
S2’:成长并图案化制作绝缘层,并通过溅镀将导电金属镀在绝缘层上;
S3’:在绝缘层上图案化形成电极(源极和漏极),源极和漏极为导电金属;
S4’:成长有机半导体层并图案化;
S5’:成长并图案化制作低介电材料的中间层;
S6’:通过卷对卷涂布工艺直接涂布形成显示介质层,显示介质层的厚度可以根据不同的显示介质进行调整,例如,可以是40-200μm的电泳材料、5-20μm的双稳态显示介质或厚度小于5μm的OLED。在本发明的制备方法中,卷对卷涂布工艺可以是喷印、丝网印刷,也可以是凸版印刷。在本发明的制备方法中,对卷对卷涂布工艺可以是喷印、丝网印刷,也可以是版印刷;
请特别参阅图3和图4所示,在通过卷对卷涂布工艺直接涂布形成显示介质层时,卷材收放方向既可以垂直于涂布方向,也可以平行于涂布方向。
为了避免涂布误差造成接合区受到显示介质的污染,涂布方向考虑接合区拉线位置。此外,为了避免在制程中显示介质溢流造成的污染,可以制作挡墙结构,以防止液态显示介质污染到接合区。
S7’:制作透明导电层,透明导电层可以是纳米银,PEDOT或ITO;
S8’:在透明导电层外层成长或涂布保护层,保护层可以是有机膜,无机膜或有机、无机交互形成的多层膜。
根据以上步骤获得的柔性显示器包括:薄膜电晶管(下栅极结构)和依次设置于薄膜电晶管上的显示介质层、透明导电层和保护层,其中,显示介质层通过卷对卷涂布工艺,如喷印、丝网印刷、凸版印刷,直接涂布并牢固附着在下栅极结构上。
通过以上对本发明的详细描述可以看出,相对于现有技术,本发明柔性显示器的制备方法具有以下优点:通过卷对卷涂布工艺将显示介质直接涂布于薄膜电晶管上,可以使显示介质均匀分布于柔性基板上,因此可以简化制备流程,减少因柔性基板容易发生胀缩导致的产品的贴合缺陷和后续工艺不良率的上升。根据本发明方法制备的柔性显示器,各部件之间紧密附着,避免在进行可靠度测试时产生接缝缺陷,可提高产品的合格率并降低成本。
根据上述说明书的揭示和教导,本发明所属领域的技术人员还可以对上述实施方式进行适当的变更和修改。因此,本发明并不局限于上面揭示和描述的具体实施方式,对本发明的一些修改和变更也应当落入本发明的权利要求的保护范围内。此外,尽管本说明书中使用了一些特定的术语,但这些术语只是为了方便说明,并不对本发明构成任何限制。
Claims (10)
1.一种柔性显示器,其包括薄膜电晶管和依次设置于薄膜电晶管上的显示介质层、透明导电层和保护层,其特征在于,所述显示介质层通过卷对卷涂布工艺直接涂布于所述薄膜电晶管上。
2.根据权利要求1所述的柔性显示器,其特征在于,所述薄膜电晶管为上栅极结构。
3.根据权利要求1所述的柔性显示器,其特征在于,所述薄膜电晶管为下栅极结构。
4.根据权利要求1所述的柔性显示器,其特征在于,所述显示介质层为厚度为40-200μm的电泳材料,或厚度为5-20μm的双稳态显示介质,或厚度小于5μm的OLED。
5.根据权利要求1所述的柔性显示器,其特征在于:所述显示介质层通过喷印、丝网印刷或凸版印刷直接涂布于所述薄膜电晶管上。
6.一种柔性显示器的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
提供薄膜电晶管;以及
在薄膜电晶管上依次设置显示介质层、透明导电层和保护层,其中,显示介质层通过卷对卷涂布工艺直接涂布于所述薄膜电晶管上。
7.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,所述薄膜电晶管为上栅极结构。
8.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,所述薄膜电晶管为下栅极结构。
9.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于:所述显示介质层为厚度为40-200μm的电泳材料,或厚度为5-20μm的双稳态显示介质,或厚度小于5μm的OLED。
10.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于:所述显示介质层通过喷印、丝网印刷或凸版印刷直接涂布于所述薄膜电晶管上。
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