CN105597415B - 过滤元件、过滤装置和水循环清洗系统 - Google Patents

过滤元件、过滤装置和水循环清洗系统 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种过滤元件、过滤装置和水循环清洗系统,其中,该过滤元件包括:过滤网,过滤网的进水侧附着有过滤颗粒,在由过滤网的进水侧指向出水侧的方向上过滤颗粒的尺寸逐渐增大。本发明的技术方案通过在过滤网的进水侧附着一层过滤颗粒层,且过滤颗粒层中的过滤颗粒由过滤网的进水侧指向出水侧的方向上尺寸逐渐增大,以使得在过滤颗粒层内部水流速度由过滤网的进水侧指向出水侧的方向上逐渐减小,进而使得水与过滤颗粒之间的接触时间增长,杂质过滤效果更佳。

Description

过滤元件、过滤装置和水循环清洗系统
技术领域
本发明涉及清洗技术领域,特别涉及一种过滤元件、过滤装置和水循环清洗系统。
背景技术
TFT-LCD行业中对环境及产品洁净度要求普遍较高,由于衬底基板在投入产线前表面仍会残留一些污渍、胶状物质、玻璃碎屑等需要清洗,因此在TFT-LCD行业中,通常要使用各类清洗机对衬底基板的表面进行清洗,使得每日所需要的纯水使用量巨大,而清洗后的废水无法循环使用,清洗后的废水直接排放严重浪费水资源。
为此,提供一种有效的过滤设备以对废水进行过滤、再利用,是本领域亟需解决的技术问题。
发明内容
本发明提供一种过滤元件、过滤装置和水循环清洗系统,用于对各类清洗机产生的废水进行有效过滤,并进行再利用,从而可避免水资源的浪费。
为实现上述目的,本发明提供了一种过滤元件,包括:过滤网,所述过滤网的进水侧附着有过滤颗粒,在由所述过滤网的进水侧指向出水侧的方向上所述过滤颗粒的尺寸逐渐增大。
可选地,所述过滤网呈圆筒型。
可选地,所述过滤颗粒为植物纤维颗粒。
可选地,所述过滤网为弹簧滤网。
为实现上述目的,本发明还提供了一种过滤装置,包括:过滤元件,所述过滤元件采用上述的过滤元件。
可选地,还包括:处理腔室,所述处理腔室包括:回收水入口和循环水出口,所述过滤网位于所述处理腔室内且罩住所述循环水出口,所述过滤网的进水侧与所述回收水入口连通,所述过滤网的出水侧与所述循环水出口连通。
可选地,还包括:第一水泵,所述第一水泵的进水管与所述循环水出口连接;
所述第一水泵用于将所述处理腔室内的水通过所述循环水出口抽出。
可选地,还包括:水流量传感器,所述水流量传感器设置于所述第一水泵的出水管处;
所述水流量传感器用于检测所述第一水泵的出水管的实际水流量。
可选地,还包括:水压传感器,所述水压传感器设置于所述第一水泵的出水管处;
所述水压传感器用于检测所述第一水泵的出水管的实际出水水压。
可选地,还包括:第一判断单元、第二判断单元和第一调整单元,所述第一判断单元与所述水流量传感器和第二判断单元连接,所述第二判断单元与所述水压传感器和所述第一调整单元连接,所述第一调整单元与所述第一水泵连接;
所述第一判断单元用于判断所述水流量传感器检测到的所述实际水流量是否小于第一预设水流量值;
第二判断单元用于在所述第一判断单元判断出所述实际水流量小于第一预设水流量值时,判断所述水压传感器检测到的所述实际出水水压是否大于第一预设出水水压值;
所述第一调整单元用于在所述第二判断单元判断出所述水压传感器检测到的所述实际出水水压大于第一预设出水水压值时,调低所述第一水泵的出水管的实际出水水压,以使得所述第一水泵的出水管的实际水流量处于第二预设水流量值,所述第二预设水流量值大于所述第一预设水流量。
可选地,还包括:第一报警单元,所述第一报警单元与第二判断单元连接;
所述第一报警单元用于在所述第二判断单元判断出所述水压传感器检测到的所述实际出水水压小于或等于所述第一预设出水水压值时,进行报警。
可选地,所述处理腔室还包括:逆洗入口和逆洗出口,所述逆洗入口与洁净储水槽连接,所述逆洗出口与第二水泵的进水管连接;
所述过滤网罩住所述逆洗入口,所述过滤网的进水侧与逆洗出口连通,所述过滤网的出水侧与所述逆洗入口连通;
所述洁净储水槽内预先存储有洁净水;
所述第二水泵用于将所述处理腔室内的水通过所述逆洗出口抽出。
可选地,所述处理腔室还包括:镀膜入口和镀膜出口,所述镀膜入口与混合储水槽连接,所述镀膜出口与第三水泵的进水管连接,所述第三水泵的出水管与所述混合储水槽连接;
所述过滤网罩住所述镀膜出口,所述过滤网的进水侧与所述镀膜入口连通,所述过滤网的出水侧与所述镀膜出口连通;
所述混合储水槽内预先存储有洁净水和过滤颗粒的混合液;
所述第三水泵用于将所述处理腔室内的水通过所述镀膜出口抽出。
为实现上述目的,本发明还提供了一种水循环清洗系统,包括:过滤装置,所述过滤装置采用上述的过滤装置。
可选地,还包括:废液回收储水槽、清洗供给储水槽和若干个清洗设备,所述废液回收储水槽与各所述清洗设备和所述回收水入口均通过相应的管路连接,所述清洗供给储水槽与各所述清洗设备和所述循环水出口均通过相应的管路连接;
所述废液回收储水槽用于回收各所述清洗设备产生的废水,并将收集的废水提供给所述过滤装置;
所述清洗供给储水槽用于回收经过过滤装置的过滤处理后的循环水,并向各所述清洗设备提供用于进行清洗的水源。
可选地,所述清洗供给储水槽与各所述清洗设备之间的管路上设置有第四水泵,所述第四水泵的进水管与清洗供给储水槽连通,所述第四水泵的出水管与所述清洗设备连通;
所述第四水泵用于将所述清洗供给储水槽中的循环水抽送至对应的清洗设备。
可选地,还包括:直水供应管路,所述直水供应管路与所述清洗供给储水槽连接;
所述直水供应管路用于在所述清洗供给储水槽的储水量小于预设储水量时,向所述清洗供给储水槽供应水。
本发明具有以下有益效果:
本发明提供了一种过滤元件、过滤装置和水循环清洗系统,其中,该过滤元件包括:过滤网,过滤网的进水侧附着有过滤颗粒,在由过滤网的进水侧指向出水侧的方向上过滤颗粒的尺寸逐渐增大。本发明的技术方案通过在过滤网的进水侧附着一层过滤颗粒层,且过滤颗粒层中的过滤颗粒由过滤网的进水侧指向出水侧的方向上尺寸逐渐增大,以使得在过滤颗粒层内部水流速度由过滤网的进水侧指向出水侧的方向上逐渐减小,进而使得水与过滤颗粒之间的接触时间增长,杂质过滤效果更佳。
此外,在对该过滤元件进行清洗时,无需将过滤元件从处理腔室中取出,从而可有效降低过滤元件的清洗时间,进而可提升产线的效率。更重要是的,该清洗过程无需人工干预,从而可有效的降低人力成本。
附图说明
图1为本发明实施例一提供的一种过滤元件的示意图;
图2为本发明实施例二提供的一种过滤装置的结构示意图;
图3为图2所示的过滤装置进行过滤时的示意图;
图4为图2所示的过滤装置进行逆洗过程时的示意图;
图5为图2所示的过滤装置进行镀膜过程时的示意图;
图6为本发明实施例三提供的一种水循环清洗系统的结构示意图。
具体实施方式
为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案,下面结合附图对本发明提供的过滤元件、过滤装置和水循环清洗系统进行详细描述。
实施例一
图1为本发明实施例一提供的一种过滤元件的示意图,如图1所示,该过滤元件包括:过滤网1,过滤网1的进水侧附着有过滤颗粒2,在由过滤网1的进水侧指向出水侧的方向上过滤颗粒2的尺寸逐渐增大。
在本实施例中,废水由过滤网1的进水侧向出水侧运动时,绝大部分的杂质会被过滤网1表面尺寸较小的过滤颗粒2过滤掉,极少部分的杂质进入过滤颗粒2层的内部。与此同时,在过滤网1的进水侧指向出水侧的方向上,由于过滤颗粒2的尺寸逐渐增大,因而水流速会逐渐减小,此时废水与过滤颗粒2之间的接触时间增长,杂质过滤效果更佳。
可选地,过滤网1为弹簧滤网,从而可使得过滤网1能够承受由于进水侧与出水侧之间的压力差所产生的作用力。
在本实施例中,为使得过滤网1能够较好的承受由于压力差(进水侧与出水侧之间的压力差)而产生的力作用,优选地,过滤网1呈圆筒型,此时由于压力差产生的力被分成很多分量分布在过滤网1的整个外表面上,这些作用力的分量可彼此抵消,过滤网1整体受力较小。
在本实施例中,当该过滤元件工作一段时间后,需要对过滤网1上的过滤颗粒2进行更换,以保证过滤效果。为避免废弃的过滤颗粒2污染环境,优选地,本实施例中的过滤颗粒2采用植物纤维颗粒,由于植物纤维是天然物质,因而不会对环境造成污染。
本发明实施例一提供了一种过滤元件,该过滤元件具备较佳的过滤效果。
实施例二
图2为本发明实施例二提供的一种过滤装置的结构示意图,如图2所示,该过滤装置包括:过滤元件,该过滤元件采用上述实施例一中提供的过滤元件,具体结构和原理可参见上述实施例一中的描述。
需要说明的是,本实施例中将以过滤网1为圆筒型的情况为例进行示例性说明,本领域技术人员应该知晓的是,这并不会对本发明的技术方案产生限制。
该过滤装置还包括:处理腔室3,处理腔室包括:回收水入口5和循环水出口4,过滤网1位于处理腔室3内且罩住循环水出口4,过滤网1的进水侧与回收水入口连通,过滤网1的出水侧与循环水出口4连通。
图3为图2所示的过滤装置进行过滤时的示意图,如图3所示,在过滤过程中,废水可通过回收水入口5进入处理腔室3内,且由过滤网1的进水侧向出水侧流动,并最终通过循环水出口4流出。在废水经过过滤网1时,过滤网1上的过滤颗粒2可对废水中的杂质进行过滤,此时出水侧的水为可被重新利用的循环水。
可选地,在循环水出口4处设置有第一水泵18,第一水泵18的进水管与循环水出口4连接,用于将处理腔室3内的水通过循环水出口4抽出,此时位于回收水入口5处的废水在外部气压作用下被吸入至处理腔室3内,并进行过滤。
进一步可选地,第一水泵18的出水管处还设置有水流量传感器10和水压传感器11,水流量传感器10用于检测第一水泵18的出水管的实际水流量,水压传感器11用于检测第一水泵18的出水管的实际出水水压。本实施例中,通过设置水流量传感器10和水压传感器11可便于工作人员对过滤装置的工作状态进行相应的监控。
更进一步地,该过滤装置还包括:第一判断单元12、第二判断单元13和第一调整单元14,第一判断单元12与水流量传感器10和第二判断单元13连接,第二判断单元13与水压传感器11和第一调整单元14连接,第一调整单元14与第一水泵18连接;第一判断单元12用于判断水流量传感器10检测到的实际水流量是否小于第一预设水流量值;第二判断单元13用于在第一判断单元12判断出实际水流量小于第一预设水流量值时,判断水压传感器11检测到的实际出水水压是否大于第一预设出水水压值;第一调整单元14用于在第二判断单元13判断出水压传感器11检测到的实际出水水压大于第一预设出水水压值时,调低第一水泵18的出水管的实际出水水压(又称为水泵压力,可通过第一水泵18来进行调整),以使得第一水泵18的出水管的实际水流量处于第二预设水流量值,其中,第二预设水流量值大于第一预设水流量。
在利用该过滤装置对废水进行过滤的过程中,随着过滤流程的进行,过滤颗粒2之间附着的杂质越来越多,相应的第一水泵18的出水管处的水流量会减小,从而会出现下游循环水供给量不足的问题。为避免该问题,可将第一水泵18的水泵压力(出水管处的实际出水水压)调小,第一水泵18输出功率增大,相应的第一水泵18的出水管的水流量增大。
在逐步将第一水泵18的水泵压力调小的过程中,当第一水泵18的实际出水水压小于或等于第一预设出水水压值(可根据第一水泵的性能来设定)时,第一水泵18的电机会出现过载的问题,容易导致电机烧坏。
为防止第一水泵18的电机烧坏,可选地,该过滤装置还包括:第一报警单元15,第一报警单元15与第二判断单元13连接;第一报警单元15用于在第二判断单元13判断出水压传感器11检测到的实际出水水压小于或等于第一预设出水水压值时,进行报警。
在实际应用中,第一预设水流量值可设置为50LPM,第二预设水流量值可设置为55LPM~60LPM之间的值,第一预设出水水压值可设置为0.1MPa。
需要说明是,本领域技术人员应该知晓的是,上述对第一预设水流量、第二预设水流量值以及第一预设出水水压值的设定仅起到示例性作用,并不会对本发明的技术方案产生限制,本发明中可以根据产线需要、第一水泵18的性能等因素来对该三个参数进行适应性调整。
当出现报警单元15进行报警时,则说明第一水泵18的水泵压力无法继续调小,相应地过滤颗粒2之间附着的杂质已经达到一定限度,此时需要对过滤颗粒2进行更换。其中,过滤颗粒2的更换包含两个过程:其一、将过滤网1上的过滤颗粒2除去;其二、将新的过滤颗粒2镀在过滤网1上。
为实现将过滤网1上的过滤颗粒2除去的过程(本实施例中称为“逆洗过程”),本实施例中,可选地,该处理腔室3还包括:逆洗入口6和逆洗出口7,逆洗入口6与洁净储水槽16连接,洁净储水槽16内预先存储有洁净水,逆洗出口7与第二水泵19的进水管连接;过滤网1罩住逆洗入口6,过滤网1的进水侧与逆洗出口7连通,过滤网1的出水侧与逆洗入口6连通;第二水泵19用于将处理腔室3内的水通过逆洗出口7抽出。
图4为图2所示的过滤装置进行逆洗过程时的示意图,如图4所示,由于过滤颗粒2位于过滤网1的进水侧,且过滤网1的进水侧与逆洗出口7连通,因此当第二水泵19进行工作以处理腔室3内的水会通过逆洗出口7抽出时,则附着在过滤网1上的过滤颗粒2在水流的作用下与过滤网1脱离,并随着水流从逆洗出口7抽出。随着逆洗过程的进行,过滤网1上的过滤颗粒2会被逐步去除。
为实现将新的过滤颗粒2镀在过滤网1上的过程(本实施例中称为“镀膜过程”),本实施例中,可选地,处理腔室3还包括:镀膜入口9和镀膜出口8,镀膜入口9与混合储水槽17连接,混合储水槽17内预先存储有洁净水和过滤颗粒2的混合液,镀膜出口8与第三水泵20的进水管连接,第三水泵20的出水管与混合储水槽17连接;过滤网1罩住镀膜出口8,过滤网1的进水侧与镀膜入口9连通,过滤网1的出水侧与镀膜出口8;第三水泵20用于将处理腔室3内的水通过镀膜出口8抽出。
图5为图2所示的过滤装置进行镀膜过程时的示意图,如图5所示,由于过滤网1的进水侧与镀膜入口9连通,过滤网1的出水侧与镀膜出口8连通,当第三水泵20进行工作以将处理腔室3内的水通过镀膜出口8抽出时,混合储水槽17内洁净水和过滤颗粒2的混合液会被吸入至处理腔室3内,且由过滤网1的进水侧向出水侧流动,在过滤网1的作用下,大尺寸的过滤颗粒2会先被镀在过滤网1上的进水侧,部分直径较小的过滤颗粒2通过滤网1,并重新进入混合储水槽17内;混合储水槽17内的混合液在第三水泵20的作用下不断的经过过滤网1,过滤网1能够通过的过滤颗粒2的直径随之减小,最终在过滤网1的进水侧形成一层过滤颗粒2层。在该过滤颗粒2层中,沿进水侧指向出水侧的方向上过滤颗粒2的尺寸逐渐增大。
需要说明的是,本实施例中,由于将第三水泵20的出水管是与混合储水槽17连通的,第三水泵20的抽出的水会再次进入混合储水槽17内,即混合储水槽17内的洁净水可被重复利用,从而可有效节约水资源。
在实际应用中,混合储水槽17内洁净水可为75L,过滤颗粒2的质量约为15g,进行镀膜前可利用搅拌设备对混合储水槽17内的纯净水进行搅拌(大约15s),以使得洁净水与过滤颗粒2混合均匀;然后开启第三水泵20,以进行循环镀膜,整个镀膜时间可控制在180s左右。经过实际测验,通过上述镀膜过程形成的过滤元件,其过滤能力可达到1μm。
由上述内容可见,本实施例中在对过滤元件进行清洗(包括:逆洗过程和镀膜过程)时,无需将过滤元件从处理腔室3中取出,从而可有效降低过滤元件的清洗时间,进而可提升产线的效率。更重要是的,上述清洗过程无需人工干预,从而可有效的降低人力成本。
需要补充说明的是,在利用本实施例提供的过滤装置进行过滤处理时,可将逆洗入口6、逆洗出口7、镀膜入口9和镀膜出口8关闭;在将过滤网1上的过滤颗粒2除去时,可将回收水入口5、循环水出口4、镀膜入口9和镀膜出口8关闭;在进行将新的过滤颗粒2镀在过滤网1上时,可将回收水入口5、循环水出口4、逆洗入口6和逆洗出口7关闭。
实施例三
图6为本发明实施例三提供的一种水循环清洗系统的结构示意图,如图6所示,该水循环清洗系统包括:过滤装置26,该过滤装置26采用上实施例二中提供的过滤装置,具体结构和原理可参见上述实施例二中的描述。在该水循环清洗系统中,从过滤装置26的循环水出口抽出的循环水可被其他清洗设备利用。
可选地,该水循环清洗系统还包括:废液回收储水槽24、清洗供给储水槽25和若干个清洗设备21,废液回收储水槽25与各清洗设备21和回收水入口均通过相应的管路连接,清洗供给储水槽25与各清洗设备21和循环水出口均通过相应的管路连接;废液回收储水槽25用于回收各清洗设备21产生的废水,并将收集的废水提供给过滤装置26;清洗供给储水槽25用于存储经过过滤装置26的过滤处理后的循环水,并向各清洗设备21提供用于进行清洗的水源。
在该水循环清洗系统中,各清洗设备产生的废水可被废液回收储水槽24回收,废液回收储水槽24中的废水经过过滤装置26处理后转为循环水并存储在清洗供给储水槽25内,清洗供给储水槽25内的循环水可供给至各清洗设备21进行清洗,从而实现了清洗水的循环使用,进而可有效避免水资源的浪费。
可选地,清洗供给储水槽与各清洗设备之间的管路上设置有第四水泵22,第四水泵22的进水管与清洗供给储水槽连通,第四水泵22的出水管与清洗设备连通,第四水泵22用于将清洗供给储水槽中的循环水抽送至对应的清洗设备。
作为本实施例中的一种控制机制,在各清洗设备21上均检测不到产品(或均检测不到产品5s后)时,第四水泵22停止工作。
需要说明的是,本实施例中清洗设备可以为毛刷清洗设备、研磨清洗设备、研磨后清洗设备、二流体清洗设备等设备。
本领域技术人员应该知晓的是,在产线中一般还设置有直水供应管路27,该直水供应管路27可向直水清洗设备23供应清洗水。可选地,本实施例中的清洗供给储水槽25与直水供应管路27连接,该不仅可向产线中对清洗水的洁净度要求较高的直水清洗设备23提供清洗水,还可在清洗供给储水槽25的储水量小于预设储水量时,向清洗供给储水槽25供应水,以保证整个水循环清洗系统的正常进行。
可以理解的是,以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式,然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言,在不脱离本发明的精神和实质的情况下,可以做出各种变型和改进,这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (9)

1.一种过滤装置,其特征在于,包括:过滤元件,所述过滤元件包括:过滤网,所述过滤网的进水侧附着有过滤颗粒,在由所述过滤网的进水侧指向出水侧的方向上所述过滤颗粒的尺寸逐渐增大;还包括:处理腔室,所述处理腔室包括:回收水入口和循环水出口,所述过滤网位于所述处理腔室内且罩住所述循环水出口,所述过滤网的进水侧与所述回收水入口连通,所述过滤网的出水侧与所述循环水出口连通;还包括:第一水泵,所述第一水泵的进水管与所述循环水出口连接;
所述第一水泵用于将所述处理腔室内的水通过所述循环水出口抽出;
还包括:水流量传感器,所述水流量传感器设置于所述第一水泵的出水管处;
所述水流量传感器用于检测所述第一水泵的出水管的实际水流量;
还包括:水压传感器,所述水压传感器设置于所述第一水泵的出水管处;
所述水压传感器用于检测所述第一水泵的出水管的实际出水水压;
还包括:第一判断单元、第二判断单元和第一调整单元,所述第一判断单元与所述水流量传感器和第二判断单元连接,所述第二判断单元与所述水压传感器和所述第一调整单元连接,所述第一调整单元与所述第一水泵连接;
所述第一判断单元用于判断所述水流量传感器检测到的所述实际水流量是否小于第一预设水流量值;
第二判断单元用于在所述第一判断单元判断出所述实际水流量小于第一预设水流量值时,判断所述水压传感器检测到的所述实际出水水压是否大于第一预设出水水压值;
所述第一调整单元用于在所述第二判断单元判断出所述水压传感器检测到的所述实际出水水压大于第一预设出水水压值时,调低所述第一水泵的出水管的实际出水水压,以使得所述第一水泵的出水管的实际水流量处于第二预设水流量值,所述第二预设水流量值大于所述第一预设水流量;
所述过滤网呈圆筒型,所述过滤网为弹簧滤网。
2.根据权利要求1所述的过滤装置,其特征在于,所述过滤颗粒为植物纤维颗粒。
3.根据权利要求1所述的过滤装置,其特征在于,还包括:第一报警单元,所述第一报警单元与第二判断单元连接;
所述第一报警单元用于在所述第二判断单元判断出所述水压传感器检测到的所述实际出水水压小于或等于所述第一预设出水水压值时,进行报警。
4.根据权利要求1所述的过滤装置,其特征在于,所述处理腔室还包括:逆洗入口和逆洗出口,所述逆洗入口与洁净储水槽连接,所述逆洗出口与第二水泵的进水管连接;
所述过滤网罩住所述逆洗入口,所述过滤网的进水侧与逆洗出口连通,所述过滤网的出水侧与所述逆洗入口连通;
所述洁净储水槽内预先存储有洁净水;
所述第二水泵用于将所述处理腔室内的水通过所述逆洗出口抽出。
5.根据权利要求1所述的过滤装置,其特征在于,所述处理腔室还包括:镀膜入口和镀膜出口,所述镀膜入口与混合储水槽连接,所述镀膜出口与第三水泵的进水管连接,所述第三水泵的出水管与所述混合储水槽连接;
所述过滤网罩住所述镀膜出口,所述过滤网的进水侧与所述镀膜入口连通,所述过滤网的出水侧与所述镀膜出口连通;
所述混合储水槽内预先存储有洁净水和过滤颗粒的混合液;
所述第三水泵用于将所述处理腔室内的水通过所述镀膜出口抽出。
6.一种水循环清洗系统,其特征在于,包括:如上述权利要求1-5中任一所述的过滤装置。
7.根据权利要求6所述的水循环清洗系统,其特征在于,还包括:废液回收储水槽、清洗供给储水槽和若干个清洗设备,所述废液回收储水槽与各所述清洗设备和所述回收水入口均通过相应的管路连接,所述清洗供给储水槽与各所述清洗设备和所述循环水出口均通过相应的管路连接;
所述废液回收储水槽用于回收各所述清洗设备产生的废水,并将收集的废水提供给所述过滤装置;
所述清洗供给储水槽用于回收经过过滤装置的过滤处理后的循环水,并向各所述清洗设备提供用于进行清洗的水源。
8.根据权利要求7所述的水循环清洗系统,其特征在于,所述清洗供给储水槽与各所述清洗设备之间的管路上设置有第四水泵,所述第四水泵的进水管与清洗供给储水槽连通,所述第四水泵的出水管与所述清洗设备连通;
所述第四水泵用于将所述清洗供给储水槽中的循环水抽送至对应的清洗设备。
9.根据权利要求7所述的水循环清洗系统,其特征在于,还包括:直水供应管路,所述直水供应管路与所述清洗供给储水槽连接;
所述直水供应管路用于在所述清洗供给储水槽的储水量小于预设储水量时,向所述清洗供给储水槽供应水。
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2184096A1 (en) * 2007-08-30 2010-05-12 Kyushu University, National University Corporation Filter and method of filtration
CN102574031A (zh) * 2009-10-26 2012-07-11 米拉可沃特公司 具有多孔过滤介质的高速过滤装置及其反冲洗方法
CN202583698U (zh) * 2012-04-16 2012-12-05 成都新图新材料股份有限公司 一种平版印刷版材的显影处理装置
CN205649934U (zh) * 2016-03-18 2016-10-19 京东方科技集团股份有限公司 过滤元件、过滤装置和水循环清洗系统

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58112015A (ja) * 1981-12-25 1983-07-04 Hitachi Ltd フイルタのプリコ−ト装置
DE19721427A1 (de) * 1997-05-22 1998-11-26 Mann & Hummel Filter Siebelement
US20040112846A1 (en) * 2001-01-18 2004-06-17 Nicholas Jackson Filter
US20030168389A1 (en) * 2002-02-15 2003-09-11 Astle Robert E. System for monitoring the performance of fluid treatment cartridges
WO2004002605A1 (en) * 2002-06-26 2004-01-08 Den Kongelige Veterinær-Og Landbohøjskole Dual porosity filter
JPWO2006041079A1 (ja) * 2004-10-13 2008-05-15 株式会社アイ・ピー・ビー 液体中生物の電気殺滅方法および電気殺滅装置、液体中生物の電気殺滅用助剤
EP2213629B1 (de) * 2009-01-30 2011-06-15 BAUER Umwelt GmbH Anlage und Verfahren zur Aufbereitung und Entsorgung von salz- und ölhaltigem Abwasser

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2184096A1 (en) * 2007-08-30 2010-05-12 Kyushu University, National University Corporation Filter and method of filtration
CN102574031A (zh) * 2009-10-26 2012-07-11 米拉可沃特公司 具有多孔过滤介质的高速过滤装置及其反冲洗方法
CN202583698U (zh) * 2012-04-16 2012-12-05 成都新图新材料股份有限公司 一种平版印刷版材的显影处理装置
CN205649934U (zh) * 2016-03-18 2016-10-19 京东方科技集团股份有限公司 过滤元件、过滤装置和水循环清洗系统

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