CN105586578A - 用于化学气相沉积设备的载片盘转运装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种用于化学气相沉积设备的载片盘转运的装置，主要包括托盘、托盘导轨、中段导轨、缓冲腔导轨、限位块。本发明以3段导轨结构的方式实现托盘点对点准确和快速地在手套箱、缓冲腔及外界之间的转运，降低操作人员隔着手套箱使用手套装载晶圆片的操作难度，同时也可以提高设备工作效率。

Description

用于化学气相沉积设备的载片盘转运装置

技术领域

本发明涉及半导体材料制造装置领域，尤其是涉及一种用于化学气相沉积设备的载片盘转运装置。

背景技术

化学气相沉积（CVD）技术集精密机械、半导体材料、真空电子、流体力学、光学、化学、计算机多学科为一体，是一种自动化程度高、价格昂贵、技术集成度高的高端半导体材料、光电子器件制造专用设备。化学气相沉积设备作为化合物半导体材料外延生长的理想方法，具有质量高、稳定性好、重复性好、工艺灵活、能规模化量产等特点，已经成为业界生产半导体光电器件和微波器件的关键核心设备，具有广阔的应用前景和产业化价值。

在现有的化学气相沉积设备操作中，一般是由CVD工艺人员利用手套箱的手套进行晶圆片的装卸，再通过缓冲腔将晶圆盒转入或转出，操作有诸多不便，对人员操作熟练程度依赖性较大，效率低下。

发明内容

本发明的目的在于避免现有技术的不足之处，提出一种用于化学气相沉积设备的载片盘转运的装置，以实现载片盘整体点对点准确和快速地在手套箱、缓冲腔及外界之间转运的目的。

为达到上述目的，本发明采用的技术方案如下：一种用于化学气相沉积设备的载片盘转运的装置，其特点在于主要包括托盘、3段导轨（托盘导轨、中段导轨和缓冲腔导轨）、限位块；缓冲腔导轨固定安装在化学气相沉积设备的缓冲腔，中段导轨叠加安装在缓冲腔导轨上面，托盘导轨叠加安装在中段导轨上面，托盘叠加安装在托盘导轨上用于放置载片盘；每段导轨两端分别设置有限位块，用于限制轨道上滑行端点位置；中段导轨及以上叠加连接物体可以沿缓冲腔导轨滑行，滑行区间为缓冲腔导轨两端设置的限位块之间；托盘导轨及其以上叠加连接物体可以沿中段导轨滑行，滑行区间为中段导轨两端的限位块之间；托盘及其以上安装的载片盘可以沿托盘导轨滑行，滑行区间为托盘导轨两端的限位块之间；各滑行区间和导轨长度根据需要设置使托盘能在手套箱、缓冲腔和外界之间实现转运工作。本发明采用设置3段导轨结构的方式可实现载片盘在手套箱、缓冲腔及外界之间的转运。

优选地，在手套箱固定安装托盘导轨支架，托盘导轨支架包括安装底座、摆臂、支架导轨，摆臂通过摆臂转轴和底座连接，支架导轨通过导轨转轴和摆臂连接，托盘导轨在手套箱相应位置时可以沿支架导轨滑动并支撑在支架导轨上，托盘导轨支架可以起到加强支撑托盘导轨的作用，防止导轨悬臂过长而导致托盘不平、不稳。

进一步地，摆臂、支架导轨上还可以设置安装加强杆，以使提升摆臂和支架导轨的强度，提高支撑稳定性和承受能力。

进一步地，支架导轨可以绕导轨转轴旋转，摆臂可以绕摆臂转轴旋转，可以将托盘导轨支架折叠后平置在手套箱内，以节省手套箱空间和妨碍其他操作。

本发明的有益效果是：该装置可以在化学气相沉积设备中实现载片盘整体点对点准确和快速地在手套箱、缓冲腔及外界之间的转运，降低操作人员隔着手套箱使用手套装载晶圆片的操作难度，同时也可以提高设备工作效率。

附图说明

图1为本发明用于化学气相沉积设备的载片盘转运装置将托盘运至手套箱位置的工作示意图；

图2为本发明用于化学气相沉积设备的载片盘转运装置将托盘运至缓冲腔位置的工作示意图；

图3为本发明用于化学气相沉积设备的载片盘转运装置将托盘运至外界位置的工作示意图；

图4为在图1基础上增加设置托盘导轨支架装置的示意图；

图5为托盘导轨支架装置的示意图；

图6为托盘导轨支架折叠平放后的示意图。

具体实施方式

下面结合附图进一步说明本发明的实施例，图1至图6是根据本发明的实施方式装置的工作示意性图示。应理解，本发明公开的图1至图6重点示意了根据本发明实施方式装置的元部件，也就是说，这些附图并不意在示意出本发明装置中的每一个单独的元部件。

如图1、图2和图3所示，一种用于化学气相沉积设备的载片盘转运的装置，其特点在于主要包括托盘1、托盘导轨2、中段导轨3、缓冲腔导轨4、限位块5；缓冲腔导轨4固定安装在化学气相沉积设备的缓冲腔7，中段导轨3叠加安装在缓冲腔导轨4上面，托盘导轨2叠加安装在中段导轨3上面，托盘1叠加安装在托盘导轨2上用于放置载片盘；每段导轨两端分别设置有限位块5，用于限制轨道上滑行端点位置；中段导轨3及以上叠加连接物体可以沿缓冲腔导轨4滑行，滑行区间为缓冲腔导轨4两端设置的限位块5之间；托盘导轨2及其以上叠加连接物体可以沿中段导轨3滑行，滑行区间为中段导轨3两端的设置的限位块5之间；托盘1及其以上安装的载片盘可以沿托盘导轨2滑行，滑行区间为托盘导轨2两端的限位块5之间；各滑行区间和导轨长度根据需要设置使托盘1能在手套箱6、缓冲腔7和外界之间实现转运工作。本发明采用设置3段导轨结构的方式可实现载片盘在手套箱6、缓冲腔7及外界之间的转运。图1即为将托盘1运至手套箱6内的工作位置示意图，图2为将托盘1运至缓冲腔7内的工作位置示意图，图3为将托盘1运至外界的工作位置示意图。

如图4和图5所示，在手套箱6固定安装托盘导轨支架8，托盘导轨支架8包括安装底座9、摆臂10、支架导轨11，摆臂10通过摆臂转轴13和底座9连接，支架导轨11通过导轨转轴14和摆臂10连接，托盘导轨2在手套箱6相应位置时可以沿支架导轨11滑动并支撑在支架导轨11上，托盘导轨支架8可以起到加强支撑托盘导轨2的作用，防止导轨悬臂过长而导致托盘2不平、不稳。

进一步地，摆臂10、支架导轨11上还可以设置安装加强杆12，以使提升摆臂10和支架导轨11的强度，提高支撑稳定性和承受能力。

如图6所示，支架导轨11可以绕导轨转轴14旋转，摆臂10可以绕摆臂转轴13旋转，可以将托盘导轨支架8折叠后平置在手套箱6内，以节省手套箱6空间和妨碍其他操作。

以上说明对本发明而言只是说明性的，而非限制性的，本领域普通技术人员的理解，在不脱离权利要求所限定的精神和范围的情况下，可根据上述揭示内容做出变更、修饰或等效，但都将落入本发明的保护范围内。

Claims (4)

1.一种用于化学气相沉积设备的载片盘的转运装置，其特点在于主要包括托盘（1）、托盘导轨（2）、中段导轨（3）、缓冲腔导轨（4）、限位块（5）；缓冲腔导轨（4）固定安装在化学气相沉积设备的缓冲腔（7），中段导轨（3）叠加安装在缓冲腔导轨（4）上面，托盘导轨（2）叠加安装在中段导轨（3）上面，托盘（1）叠加安装在托盘导轨（2）上用于放置载片盘；每段导轨两端分别设置有限位块（5），用于限制轨道上滑行端点位置；中段导轨（3）及以上叠加连接物体可以沿缓冲腔导轨（4）滑行，滑行区间为缓冲腔导轨（4）两端设置的限位块（5）之间；托盘导轨（2）及其以上叠加连接物体可以沿中段导轨（3）滑行，滑行区间为中段导轨（3）两端的设置的限位块（5）之间；托盘（1）及其以上安装的载片盘可以沿托盘导轨（2）滑行，滑行区间为托盘导轨（2）两端的限位块（5）之间；各滑行区间和导轨长度根据需要设置使托盘（1）能在手套箱（6）、缓冲腔（7）和外界之间实现转运工作。

2.根据权利要求1所述的用于化学气相沉积设备的载片盘的转运装置，其特征在于在手套箱（6）内固定安装托盘导轨支架（8），托盘导轨支架（8）包括安装底座（9）、摆臂（10）、支架导轨（11），摆臂（10）通过摆臂转轴（13）和底座（9）连接，支架导轨（11）通过导轨转轴（14）和摆臂（10）连接，托盘导轨（2）在手套箱（6）相应位置时可以沿支架导轨（11）滑动并支撑在支架导轨（11）上。

3.根据权利要求2所述的托盘导轨支架（8），其特征在于所述摆臂（10）、支架导轨（11）上设置安装提升摆臂（10）和支架导轨（11）的强度的加强杆（12）。

4.根据权利要求2所述的托盘支架导轨（8），其特征在于所述支架导轨（11）可以绕导轨转轴（14）旋转，摆臂（10）可以绕摆臂转轴（13）旋转，托盘导轨支架（8）可以折叠后平置在手套箱（6）内。