CN105555543B - 用于rgb和cmyk彩色显示的纳米结构阵列衍射光学元件 - Google Patents

用于rgb和cmyk彩色显示的纳米结构阵列衍射光学元件 Download PDF

Info

Publication number
CN105555543B
CN105555543B CN201480036137.0A CN201480036137A CN105555543B CN 105555543 B CN105555543 B CN 105555543B CN 201480036137 A CN201480036137 A CN 201480036137A CN 105555543 B CN105555543 B CN 105555543B
Authority
CN
China
Prior art keywords
sub
pixel
nano
optical display
optics
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201480036137.0A
Other languages
English (en)
Other versions
CN105555543A (zh
Inventor
克林顿·K·兰德洛克
巴德尔·欧姆瑞
英达尔·赵
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nanotechnology Security Group
Original Assignee
Nanotechnology Security Group
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=51866581&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=CN105555543(B) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Nanotechnology Security Group filed Critical Nanotechnology Security Group
Publication of CN105555543A publication Critical patent/CN105555543A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN105555543B publication Critical patent/CN105555543B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/30—Identification or security features, e.g. for preventing forgery
    • B42D25/328—Diffraction gratings; Holograms
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/30—Identification or security features, e.g. for preventing forgery
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/18—Diffraction gratings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/18—Diffraction gratings
    • G02B5/1809—Diffraction gratings with pitch less than or comparable to the wavelength
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/18—Diffraction gratings
    • G02B5/1842—Gratings for image generation
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/18—Diffraction gratings
    • G02B5/1847—Manufacturing methods
    • G02B5/1852—Manufacturing methods using mechanical means, e.g. ruling with diamond tool, moulding
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/18—Diffraction gratings
    • G02B5/1847—Manufacturing methods
    • G02B5/1857—Manufacturing methods using exposure or etching means, e.g. holography, photolithography, exposure to electron or ion beams
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/201—Filters in the form of arrays
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/203—Filters having holographic or diffractive elements
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/317—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
    • H01J37/3174—Particle-beam lithography, e.g. electron beam lithography

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
  • Credit Cards Or The Like (AREA)

Abstract

提供一种RGB和/或CMYK全色光学显示装置，其包括多个纳米结构阵列，所述纳米结构阵列设置为提供对应一图像的多个像素或子区域的宽范围的颜色的显示，其中所述多个纳米结构阵列可以形成在单个基体层上。一种光学显示装置，其包括一具有一表面的基体和彩色图像的一第一像素，所述第一像素包括根据叠加式和删减式颜色体系中至少一个的第一和第二子像素；其中，所述第一子像素包括形成在所述基体之上或之内的一第一光学亚波长纳米结构阵列；其中，所述第二子像素包括形成在所述基体之上或之内的一第二光学亚波长纳米结构阵列。还提供一种制造RGB和/或CMYK全色光学显示的方法，所述光学显示包括多个设置为根据一颜色体系的子像素的多个纳米结构阵列。

Description

用于RGB和CMYK彩色显示的纳米结构阵列衍射光学元件
在先申请
本申请涉及申请日为2013年5月10日的、美国临时专利申请61/822,166并请求其优先权，其内容在此整体引作参考。
技术领域
本发明整体涉及光学显示，具体来说，本发明涉及使用纳米结构阵列的全色光学安全显示以及其制造和使用方法。
背景技术
衍射光栅
根据现有技术的一方面，由周期性结构构成的衍射光栅是已知的，所述周期性结构导致入射光衍射。在这些情形，衍射可能以穿透模式(例如棱镜)或反射模式(例如CD和DVD)进行，所述衍射可能是因为包括所述周期性结构的基体的透射或反射特性。在这一情形，所述周期性结构的周节或间隔，通常被称作光栅周期，对漫射角具有逆效应。
在现有技术的这一方面中，具有可见光谱(λ)周期率和孔直径小于λ/2的纳米孔阵列也可以衍射以产生结构色。在一个这样的方面中，纳米特征的物理设置以及点阵类型和周期率可以限定衍射波长的强度，所述强度可以比利用现有的传统的微尺度光栅所获得的波长基本上高。对于任何衍射光栅，透射或反射的峰值强度随给定区域的狭缝数(N)的函数而增加，尤其随N2而增加。在一级峰值看到的颜色变得更容易区分，导致更高的色分辨率，即更鲜艳、更清晰的颜色。例如，带有间隔500nm(纳米)的衍射光栅与间隔1000nm(纳米)的光栅相比呈现四倍的强度，同时产生更清楚区分的彩条。视觉上，纳米级特征显得更亮，在光线较暗的时候尤其明显，它们特定的颜色随着视角的变化显得更纯色(即颜色较少地呈“彩虹状”)。衍射光栅将白光分成多个颜色。这些颜色的强度(I)和色分辨率取决于在给定区域的狭缝的大小和密度，如下式：
因为它们独特的明亮光学效果，这些纳米级光栅已经用于一些应用中来替代全息图，例如现有技术的一些安全应用中。
彩色显示
根据现有技术的另一方面，已知的是，使用一种或多种颜色限定体系来提供宽范围颜色的彩色光学显示。在一个这一方面，RGB颜色体系或模型使用单独的红、绿、蓝子像素在电子显示器叠加式限定每一种RGB复合像素的颜色。根据现有技术的又一方面，CMYK颜色体系或模型使用单独的蓝绿色、品红色、黄色和墨色(或黑色)墨水或子像素在电子显示中或者在背光或白色基体上印刷显示中删减式限定每一种CMYK像素的颜色或图像子区域。
发明内容
根据本发明的一个实施例，在此公开的一些特征、方面和实例涉及利用纳米结构阵列的RGB和CMYK全色显示。根据本发明的另一个实施例，一些特征、方面和实例涉及利用纳米结构阵列制造RGB和CMYK全色显示的方法。另外的特征、方面和实例在此会详细讨论。
根据本发明的第一方面，提供一种RGB和/或CMYK全色光学显示装置，其包括多个纳米结构阵列，这些纳米阵列设置为提供对应图像的多个像素或子区域的宽范围颜色的显示，其中所述多个纳米结构阵列形成在一个单个的基体层上。
根据本发明的另一方面，通过一种光学显示装置，其包括具有一表面的基体和彩色图像的一第一像素，所述第一像素包括根据叠加式和删减式颜色体系中至少一个的第一和第二子像素，其中，所述第一子像素包括形成在所述基体之上或之内的一第一光学亚波长纳米结构阵列，所述第二子像素包括形成在所述基体之上或之内的一第二光学亚波长纳米结构阵列。
在本发明又一辅助方面中，所述光学显示装置可以包括一光学安全装置，所述彩色图像包括多个光学可见特征并可以操作以验证包括所述光学安全装置的物品。在又一方面中，所述光学显示装置可以包括一第一纳米结构阵列和一第二纳米结构阵列，所述第一纳米结构阵列可以操作以衍射一入射光源以限定所述第一子像素的一第一颜色，所述第二纳米结构阵列可以操作以衍射一入射光源以限定所述第二子像素的一第二颜色。根据本发明又一方面，所述光学显示装置包括一第一纳米结构阵列和一第二纳米结构阵列，所述第一纳米结构阵列包括设置为具有纳米结构之间的一第一周期性间隔的一第一周期性点阵的多个纳米结构，所述第二纳米结构阵列包括设置为具有纳米结构之间的一第二周期性间隔的一第二周期性点阵的多个纳米结构，其中所述第一周期性间隔不同于所述第二周期性间隔。
根据本发明一辅助方面，提供一种制造RGB和/或CMYK全色光学显示装置的方法，所述装置多个纳米结构阵列，所述纳米结构阵列设置为提供对应图像的多个子像素或子区域的、宽范围颜色的显示。
在一特定方面，提供一种制造光学显示装置的方法，包括提供一包括一表面的基体，在所述基体表面上形成一第一光学亚波长纳米结构阵列以形成彩色图像的一第一像素的一第一子像素，在所述基体表面上形成一第二光学亚波长纳米结构阵列以形成彩色图像的一第一像素的一第二子像素，其中，所述第一和第二子像素根据添加式或删减式颜色体系限定所述彩色图像的所述第一像素的一颜色。
在根据本发明的一方面制造光学显示装置的辅助方法中，形成所述第一和第二纳米结构阵列包括在所述基体表面之内或之上压印、印刷、浮雕、压花、模制、刻蚀或雕刻中的一种或多种。
结合附图和详细描述，本发明的进一步的实施例和优点会显而易见。
附图说明
现在参考附图描述根据本发明的、使用纳米结构阵列的RGB和/或CMYK全色显示以及其制造方法，所述显示例如是光学显示装置，附图中：
图1示出了根据本发明一个实施例的示例性RGB彩色显示的示意图，其包括多个纳米结构阵列，所述纳米结构阵列设置为通过衍射反射的或透射的入射白光而产生一RGB子像素或图像子区域的红、绿、蓝组成色中的每一个。
图2示出了根据本发明一个实施例的示例性纳米结构阵列的示意图，所述纳米结构阵列提供对入射光的选择性衍射以形成全色RGB和/或CMYK显示的多个颜色。
图3示出了根据本发明一个实施例的、示例性全色RGB和/或CMYK纳米结构显示的示意图，其显示包括多个单独像素或图像子区域的全色图像，每一像素包括设置为一个或多个预定设置的多个纳米结构阵列，以提供每一像素的一理想颜色。
图4示出了根据本发明一个实施例的、示例性颜色像素图，其显示由在一预定设置的多个带状纳米结构阵列颜色条形成的多个RGB和/或CMYK子像素颜色，以显示理想的子像素颜色。
图5示出了根据本发明一个示例性实施例的、示例性正方形和六边形点阵纳米结构阵列的示意图，用于提供在不同波长、颜色和强度对入射光的选择性衍射。
图6示出了示例性衍射光栅61和示例性纳米孔阵列62的立体图。
具体实施方式
根据本发明的一个实施例，根据本发明一个方面的全色RGB和/或CMYK彩色显示可以包括一光学显示装置，其包括一基体，其中所述基体的一表面压印或浮雕(或者其他方式成型)有多个光学亚波长纳米阵列诸如纳米孔阵列，以利用衍射反射的和/或透射的入射光来产生高分辨率的图像。在另一实施例中，全色RGB和/或CMYK彩色显示可以应用作为光学安全装置，所述全色RGB和/或CMYK彩色显示例如是光学显示装置，其包括一基体，所述基体压印或浮雕(或者其他方式成型)有多个光学亚波长纳米阵列诸如纳米孔阵列，以产生全色高分辨率的图像，所述光学安全装置可以用来视觉验证一可能包括所述基体的、单独的物品(例如文件、货币、部件或其他安全物品)。在一个这样的特定实施例中，一光学安全装置可以应用或用于视觉验证一物件或物品，例如但不限于钞票、护照、安全文件、票据、安全徽章和通行证、品牌认证、批发和零售产品的防伪标签或证书以及这些产品的表面。
根据本发明的一个特定实施例，基于RGB或CMYK的颜色体系或模型可以由根据本发明的纳米结构显示生成，例如利用纳米结构阵列诸如纳米孔阵列，以形成根据RGB和/或CMYK颜色体系的单独颜色像素或图像子区域来显示理想颜色的图像。在另一实施例中，所述纳米孔阵列可以设置和处理为尺寸可以小于一微米的像素或图像子区域，允许产生非常高分辨率的彩色图像。在本发明的一个这样的实施例中，可以利用亚波长纳米结构阵列(例如纳米孔阵列)产生的衍射特征和高分辨率图像是独特的，因此使用其他技术来复制如果不是不可能的话也会非常困难，使得该技术非常适于安全光学元件和/或光学显示应用。在本公开中，术语像素例如可以包括一颜色图像的任何子区域或多个区域，或者在整个颜色图像只有一种颜色或视觉效果的情形包括整个颜色图像。
现在参考图1，示出了根据本发明一个实施例的示例性RGB彩色显示的示意图，所述RGB彩色显示例如是光学显示装置，其包括多个纳米结构阵列，所述纳米结构阵列设置为通过衍射反射的或透射的入射白光而产生一RGB子像素或图像子区域的红、绿、蓝组成色中的每一个。在图1所示的示例性显示像素1中，可以通过一第一纳米结构阵列诸如纳米孔阵列2来显示红色的子像素，所述纳米结构阵列具有一第一阵列设置(包括构成所述阵列的纳米结构之间的周期率或间隔、阵列点阵的形状和纳米结构的尺寸，所述阵列点阵例如是所示的示例性正方形点阵阵列，所述纳米结构例如是形成所述阵列的纳米孔)。相应地，绿色的子像素可以通过一第二纳米结构阵列显示，所述第二纳米结构阵列例如是具有一第二阵列设置的纳米孔阵列3；蓝色的子像素可以通过一第三纳米结构显示，所述第三纳米结构例如是具有一第三阵列设置的纳米孔阵列4。在一个实施例中，复合RGB显示像素1的红色、绿色和蓝色子像素之间的间隔可以理想地设置或设定，使得所述红色、绿色和蓝色子像素足够远离相邻的子像素以理想地减小和/或避免相邻子像素的纳米结构阵列2、3、4的衍射光之间的有害的光学干涉，也使得所述红色、绿色和蓝色子像素足够接近相邻子像素以理想地维持颜色混合作用(例如相长干涉和/或不干涉式颜色混合)来生成所述复合RGB像素1的理想呈现颜色。
在一个实施例中，用于形成一示例性RGB和/或CMYK彩色显示的每一颜色或子像素的所述纳米结构阵列可以包括可以用于提供对入射光的衍射效果的、任何适当的周期性纳米结构阵列，以显示理想的颜色，例如周期性亚波长纳米孔阵列或其他纳米结构的周期性阵列，例如但不限于纳米柱、纳米突块、纳米突起、纳米凹痕或者其他纳米结构，它们可以在任何适当的基体表面上形成周期性纳米结构阵列，例如通过纳米压印、浇注、浮雕(embossing)、遮蔽沉积、自组成或任何其他适当的纳米结构形成技术。适当的基体可以包括但不限于金属、聚合物、复合物、纤维素、非金属或其他适当的基体材料的薄膜、表面或薄层。在一个替代实施例中，用于在一彩色显示中形成复合RGB和/或CMYK像素单元的所述子像素纳米结构阵列可以设置成相对于相邻子像素基本上非矩形对齐，包括但不限于六边形、三角形或其他几何形状的对齐。在一个这样的替代实施例中，用于形成相邻配合子像素的、所述纳米结构阵列的所述基本上非矩形对齐可以理想地将所述RGB和/或CMYK像素的可见性限制在有限范围的视角，使得在一特定的或理想的可见范围之外的观察者基本上不能看到所述像素。
现在参考图2，示出了根据本发明一个实施例的示例性纳米结构阵列的示意图，所述纳米结构阵列提供对入射光的选择性衍射以形成全色RGB和/或CMYK显示的多个颜色，例如在一光学显示装置上。一示例性的第一纳米结构阵列诸如纳米孔阵列22可以衍射一漫射的入射光源23，以形成反射的和/或透射的光24的衍射，所述衍射可以被一观看者或观察者21看到。在一个实施例中，所述观看者看到的、由所述纳米孔阵列22衍射的反射的和/或透射的光24可以根据所述纳米孔阵列22的周期率和纳米孔尺寸确定。类似地，在一多颜色子像素颜色体系中，例如RGB和/或CMYK颜色体系，一个或多个纳米结构阵列诸如纳米孔阵列25可以设置为使得漫射的入射光被衍射以形成一个或多个单独颜色，以产生用于代表在一纳米结构显示中的理想彩色图像的单独像素或图像子区域的单个的、叠加式和/或删减式颜色,所述纳米结构显示例如是一光学安全显示。
现在参考图3，示出了根据本发明一个实施例的、示例性全色RGB和/或CMYK纳米结构显示的示意图，其显示包括多个单独像素或图像子区域的全色图像，每一像素或子区域包括设置为一个或多个预定设置的纳米结构阵列以提供每一像素的一理想颜色。在图3所示的示例性实施例中，整个示例性图像31理想地在一纳米结构显示示出，所述纳米结构显示例如是一光学显示装置(一位女士面部的示例性图像)。在一个这样的实施例中，理想的图像可以被处理，例如通过使用计算机辅助设计软件，以赋值所述图像32的每一像素或子区域为一个或多个具有预定周期率和纳米结构大小的纳米结构阵列，所述纳米结构例如是纳米孔。在一个实施例中，每一颜色像素可以赋值为使用RGB和/或CMYK颜色体系的一个或多个纳米结构阵列33。每一纳米结构阵列的周期率可以基于所述纳米结构产生的理想的一级衍射色选定。在一个使用RGB体系的特定实施例中，纳米结构的周期率约580nm-600nm，尤其是600nm，赋值给红色；纳米结构的周期率约480nm-580nm，尤其是500nm，赋值给绿色；纳米结构的周期率约380nm-480nm，尤其是450nm，赋值给蓝色。在另一特定实施例中，可以通过选择密集排列的纳米结构阵列来产生黑色像素，其理想地吸收可见光谱的大多数(例如纳米结构周期率小于或等于约350nm的纳米结构阵列)。或者，如果基体要被压印成暗色或黑色，黑色像素或区域可以留作空白空间。在又一个特定实施例中，可以使用较小的RGB阵列的组合来生成白色像素或区域，或者如果图像要生成在白色、浅色或镜像基体上，白色像素或区域可以留作空白空间。纳米结构阵列的尺寸可以调节以匹配要呈现的图像的理想分辨率，例如使用任何理想尺寸的像素或图像子区域。在一个特定实施例中，像素尺寸可以例如在1至5μm之间。
现在参考图4，示出了根据本发明一个实施例的、示例性颜色像素图，其显示由在一预定设置的多个带状纳米结构阵列颜色条形成的多个RGB和/或CMYK子像素颜色，以显示理想的子像素颜色。在一个实施例中，单独的像素或子像素的颜色可以利用不同周期率(或其他阵列设置因素)带状的纳米结构阵列产生间隔较小的相邻颜色带来形成，所述相邻颜色带代表在一理想颜色体系中理想的像素或子像素的颜色，所述理想颜色体系例如是RGB和/或CMYK颜色体系。在本发明的一个特定实施例中，颜色条可以理想地间隔较小，例如宽度1-5μm(微米)间隔2-4μm的颜色条。在一个特定实施例中，CMYK颜色体系的颜色像素在全色纳米结构阵列中可以表征为：蓝绿色像素41具有设置在相邻带的、周期率为约520nm和440nm的纳米结构阵列；品红色像素42具有设置在相邻带的、周期率为约600nm和440nm的纳米结构阵列；黄色像素43具有设置在相邻带的、周期率为约600nm和500nm的纳米结构阵列；墨色像素47具有周期率为约300nm的纳米结构阵列。类似地，在一个特定实施例中，示例性CMYK颜色体系的辅助颜色像素在全色纳米结构阵列中可以表征为：CMYK绿色像素46具有设置在相邻带的、周期率为约500nm、440nm和600nm的纳米结构阵列；CMYK红色像素45具有设置在相邻带的、周期率为约600nm、500nm和440nm的纳米结构阵列；CMYK蓝色像素48具有设置在相邻带的、周期率为约500nm、440nm和600nm的纳米结构阵列；白色像素44具有设置在相邻带的、周期率为约600nm、500nm和440nm的纳米结构阵列。在又一个实施例中，RGB和/或CMYK像素可以利用多个纳米结构阵列(例如纳米孔阵列)的基本上相邻的带或其他配合设置来形成，所述多个纳米结构阵列具有适于产生一理想像素颜色或光学效果的其他周期率。
现在参考图5，示出了根据本发明一个示例性实施例的、示例性正方形和六边形点阵纳米结构阵列的示意图，用于提供在不同波长或颜色对入射光的选择性衍射。在一个实施例中，根据本发明的一个全色RGB和/或CMYK纳米结构阵列显示，例如一光学显示装置，可以包括一个或多个示例性的纳米结构阵列设置，例如示例性的正方形点阵纳米孔阵列51、52、53和54和示例性的六边形点阵纳米孔阵列55。在一个特定实施例中，阵列51可以包括一通常平均间隔和尺寸的、具有特定理想周期率的正方形点阵纳米孔阵列；阵列52可以包括一较宽间隔的、具有特定理想周期率的正方形点阵纳米孔阵列；阵列53可以包括一较窄隔间隔的或密集排列的、具有特定理想周期率的正方形点阵纳米孔阵列，例如可以用于提供黑色像素；阵列54可以包括一平均间隔的和较小尺寸的纳米孔的、具有特定理想周期率的正方形点阵纳米孔阵列；阵列55可以包括一通常平均间隔的和尺寸的纳米孔的、具有特定理想周期率的六边形点阵纳米孔阵列。在一个实施例中，纳米孔阵列的间隔或周期率可以选择以确定可以被所述纳米孔阵列优选反射和/或透射的光的主波长。在另一个实施例中，纳米孔阵列的尺寸可以选择以确定可以被所述纳米孔阵列优选反射和/或透射的光的相对亮度，和/或被所述纳米孔阵列优选反射和/或透射的光的带宽或波长范围。在又一个实施例中，纳米孔阵列的形状或点阵几何形状(例如矩形或六边形)可以选择以确定可以被所述纳米孔阵列优选反射和/或透射的理想视角或视觉范围。
现在参考图6，示出了根据本发明一个实施例的示例性衍射光栅61和示例性纳米孔阵列62的立体图。在一个这样的实施例中，衍射光栅61可以包括任何适当微米级或纳米级基本上线性的特征，所述特征可以与带有适当周期性间隔(优选亚波长周期)的相邻的这种特征对齐，以形成光学衍射光栅。而且，在另一个这样的实施例中，纳米孔阵列62可以包括基本上矩形的(或者上面和下面描述的其他点阵几何形状或设置)周期性点阵的纳米孔，所述纳米孔在一基体表面内延伸和/或延伸穿过一基体表面，以提供适于引起在至少一理想的光波长的光学衍射的纳米孔阵列。
在本发明的一个实施例中，全色RGB和/或CMYK纳米结构阵列显示，例如一光学显示装置，可以包括多个具有点阵设置的纳米结构阵列，所述点阵设置包括以下至少一个：正方形、六边形、八边形、五边形、同心的或彭罗斯平铺的(penrose-tiled)(非周期性的)点阵几何形状。在另一个实施例中，所述纳米结构阵列可以设置为一种或多种适当的点阵几何形状。
在本发明的又一个实施例中，全色RGB和/或CMYK纳米结构阵列显示，例如一光学显示装置，可以包括多个包含纳米孔的纳米结构阵列，其中，所述纳米孔的几何形状选自以下一个或多个：圆形、基本上圆形、椭圆形、矩形、三角形或正方形孔几何形状。在另一个实施例中，所述纳米结构阵列的所述纳米孔可以成型为一种或多种其他适当的孔几何形状。
在本发明的又一个实施例中，提供一种光学安全装置，其包括一单层基体，所述基体压印或浮雕有多个亚波长纳米结构(例如纳米孔)阵列，以通过反射的或透射的入射光的衍射来产生RGB和CMYK颜色范围中至少一个的高分辨率颜色图像，其可以用于视觉验证分别的、包含所述基体的物件或物品。在又一个这样的实施例中，光学安全装置还可以包括至少两组纳米结构阵列，例如纳米孔阵列，每一组纳米结构阵列具有在所述阵列的纳米结构(例如孔)之间的至少一预定周期性间隔(周期率)。在又一个这样的实施例中，光学安全装置还可以包括彩色图像的多个像素或子区域，其中每一像素包括至少两组纳米结构阵列，例如纳米孔阵列，每一组纳米结构阵列呈现至少两种不同周期率，以产生至少两种相应的一级衍射色。在又一个这样的实施例中，光学安全装置还可以包括多个纳米结构阵列，例如纳米孔阵列，所述纳米结构阵列呈现选自下组的至少一种周期性阵列点阵：正方形、六边形、八边形、同心的和潘罗斯平铺点阵。在又一个这样的实施例中，光学安全装置还可以包括多个纳米结构阵列，例如纳米孔阵列，所述纳米结构阵列带有选自下组的特定纳米结构或孔几何形状的至少一种：圆形、椭圆形、矩形、正方形和三角形。
在根据本发明的又一实施例中，提供一种产生光学显示装置的方法，所述光学显示装置例如是光学安全装置，其中所述方法包括：在一垫片或主基体表面写入、控制或产生多个亚波长纳米结构阵列，例如纳米孔阵列，所述亚波长纳米结构阵列包括至少两个纳米结构阵列，例如纳米孔阵列，所述纳米结构阵列设置在像素或图像子区域并具有不同的阵列周期率和/或纳米结构(例如纳米孔)尺寸，以提供单独的像素或图像子区域作为高分辨率彩色显示的一部分。在一个实施例中，所述纳米结构阵列可以使用电子束蚀刻、或其他适当的纳米级写入技术和/或装置产生。在另一个实施例中，所述方法还包括通过印刷、压印、浮雕、压花、模制或其他成型方式将至少两个形成图像帧的纳米孔阵列(例如纳米孔阵列)成型到适当的单层基体上，以形成所述光学显示装置(例如光学安全装置)。
在此描述了本发明的示例性实施例(包括在摘要中所描述)并不意在穷举或限制本发明的精确形式。它们选来解释本发明的原理、使用和实际应用，以帮助本领域技术人员理解本发明的教导。
根据上面公开的内容，本领域技术人员显然可以理解，可以进行多种等同的变动和变化实施本发明而不背离本发明范围。
在本说明书中，参考“一实施例”、“一个实施例”或类似用语是指结合该实施例描述的特定特征、结构或特点包括在本公开的至少一个实施例中。因此，在整个说明书中，术语“在一实施例中”、“在一个实施例中”或类似用语可以是指同一实施例，也可以不是。而且，本说明书中描述的特征、结构或特点可以以任何适当的方式结合在一个或多个实施例中。在具体实施例中，提供了多个特定细节以完全理解本公开的实施例。但是，本领域技术人员可以理解，本公开的实施例可以实施而无须所述特定细节中某一个或多个，或者可以利用其他方法、部件、材料等实施。在其他情形，公知的结构、材料或操作未描述或示出，以免使得本公开不分明。
因此，本发明的范围涵盖其他实施例并由所附的权利要求的限定，其中，参考一个元件时意指“一个或多个”而不是“一个且仅有一个”，除非另有说明。上述描述的优选实施例和额外的实施例中的元件的结构性和功能性的等同物在此明确地并入并意在包含在权利要求书的范围内。而且，不要求一个装置或方法解决本公开的每一个问题，因为这在权利要求书中涵盖。另外，本公开中的元件、部件或方法步骤中没有一个意在是现有的，无论所述元件、部件或方法步骤是否在权利要求书中明确记载。但是，可以对形式、材料、工件、制造材料细节进行多种变化和变动而不背离本发明主旨和范围，这些变化和变动也被本发明所涵盖，本发明的范围由后附的权利要求限定。

Claims (25)

1.一种光学显示装置，其包括：
具有一表面的一基体；和
彩色图像的一第一像素，所述第一像素包括根据叠加式和删减式颜色体系中至少一个的第一和第二子像素；
其中，所述第一子像素包括形成在所述基体之上或之内的一第一光学亚波长纳米结构阵列，所述第一光学亚波长纳米结构阵列包括设置为一第一二维周期性点阵的多个纳米结构；
其中，所述第二子像素包括形成在所述基体之上或之内的一第二光学亚波长纳米结构阵列，所述第二光学亚波长纳米结构阵列包括设置为一第二二维周期性点阵的多个纳米结构。
2.根据权利要求1的光学显示装置，其特征在于，所述光学显示装置包括一光学安全装置，所述彩色图像包括多个光学可见特征并可以操作以视觉验证包括所述光学安全装置的物品。
3.根据权利要求1的光学显示装置，其特征在于，所述第一光学亚波长纳米结构阵列可以操作以衍射一入射光源以限定所述第一子像素的一第一颜色，所述第二光学亚波长纳米结构阵列可以操作以衍射一入射光源以限定所述第二子像素的一第二颜色。
4.根据权利要求1的光学显示装置，其特征在于，所述第一光学亚波长纳米结构阵列的所述第一二维周期性点阵具有所述纳米结构之间的一第一周期性间隔，所述第二光学亚波长纳米结构阵列的所述第二二维周期性点阵具有所述纳米结构之间的一第二周期性间隔，其中所述第一周期性间隔不同于所述第二周期性间隔。
5.根据权利要求1-4之一的光学显示装置，其特征在于，所述彩色图像的所述第一像素的所述第一和第二子像素在所述基体上彼此交叠或互织。
6.根据权利要求1-4之一的光学显示装置，其特征在于，所述彩色图像的所述第一像素的所述第一和第二子像素在所述基体上彼此位置接近。
7.根据权利要求1-4之一的光学显示装置，其特征在于，所述第一和第二光学亚波长纳米结构阵列中的每一个包括多个纳米结构，所述纳米结构包括在所述基体的所述表面之上或之内形成的纳米孔、纳米柱、纳米突起、纳米凹痕中的一个或多个。
8.根据权利要求1-4之一的光学显示装置，其特征在于，所述第一和第二光学亚波长纳米结构阵列中的每一个包括多个浮雕在所述基体的所述表面之上或者压印在所述基体的上述表面之内的多个光学亚波长纳米结构。
9.根据权利要求1-4之一的光学显示装置，其特征在于，所述基体包括金属、聚合物、复合物、纤维素基体材料或它们的组合中至少一个的薄膜、表面或薄层。
10.根据权利要求4的光学显示装置，其特征在于，所述第一二维周期性点阵和所述第二二维周期性点阵中的每一个包括正方形、六边形、八边形或潘罗斯点阵几何形状中的一种或多种。
11.根据权利要求1-4之一的光学显示装置，其特征在于，所述颜色体系包括一叠加式RGB颜色体系。
12.根据权利要求1-4之一的光学显示装置，其特征在于，所述颜色体系包括一删减式CMYK颜色体系。
13.根据权利要求11的光学显示装置，其特征在于，所述第一光学亚波长纳米结构阵列包括周期间隔580nm至680nm的多个纳米结构，所述第一子像素包括一红色RGB子像素。
14.根据权利要求11的光学显示装置，其特征在于，所述第一光学亚波长纳米结构阵列包括周期间隔480nm至580nm的多个纳米结构，所述第一子像素包括一绿色RGB子像素。
15.根据权利要求11的光学显示装置，其特征在于，所述第一光学亚波长纳米结构阵列包括周期间隔380nm至480nm的多个纳米结构，所述第一子像素包括一蓝色RGB子像素。
16.根据权利要求12的光学显示装置，其特征在于，所述第一子像素还包括一第二光学亚波长纳米结构阵列，其中所述第一子像素的所述第一和第二光学亚波长纳米结构阵列设置为相邻的带状颜色条，所述第一子像素限定一第一CMYK子像素颜色。
17.根据权利要求16光学显示装置，其特征在于，所述第一子像素包括一蓝绿色CMYK子像素，其中所述第一子像素的所述第一和第二光学亚波长纳米结构阵列包括周期性间隔520nm和440nm、相邻的多个带状纳米结构阵列。
18.根据权利要求16的光学显示装置，其特征在于，所述第一子像素包括一品红色CMYK子像素，其中所述第一子像素的所述第一和第二光学亚波长纳米结构阵列包括周期性间隔600nm和440nm、相邻的多个带状纳米结构阵列。
19.根据权利要求16的光学显示装置，其特征在于，所述第一子像素包括一黄色CMYK子像素，其中所述第一子像素的所述第一和第二光学亚波长纳米结构阵列包括周期性间隔600nm和500nm、相邻的多个带状纳米结构阵列。
20.根据权利要求16的光学显示装置，其特征在于，所述第一子像素包括一黑色CMYK子像素，其中所述第一子像素的所述第一和第二光学亚波长纳米结构阵列包括周期性间隔小于或等于350nm、相邻的多个带状纳米结构阵列。
21.根据权利要求1-4、10、13-20之一的光学显示装置，其特征在于，所述第一和第二光学亚波长纳米结构阵列中的每一个包括形成在所述基体内的多个纳米孔，所述纳米孔包括圆形、基本上圆形、椭圆形、矩形、三角形或正方形几何形状中的一个或多个。
22.一种制造光学显示装置的方法，其包括：
提供一包括一表面的基体；
在所述基体表面上形成一第一光学亚波长纳米结构阵列，所述第一光学亚波长纳米结构阵列包括设置为一第一二维周期性点阵的多个纳米结构，以形成彩色图像的一第一像素的一第一子像素；
在所述基体表面上形成一第二光学亚波长纳米结构阵列，所述第二光学亚波长纳米结构阵列包括设置为一第二二维周期性点阵的多个纳米结构，以形成彩色图像的一第一像素的一第二子像素；
其中，所述第一和第二子像素根据添加式或删减式颜色体系限定所述彩色图像的所述第一像素的一颜色。
23.根据权利要求22的制造光学显示装置的方法，其特征在于，形成所述第一和第二光学亚波长纳米结构阵列包括在所述基体表面之内或之上压印、印刷、浮雕、压花、模制、刻蚀或雕刻中的一种或多种。
24.根据权利要求22或23的制造光学显示装置的方法，其特征在于，形成所述第一和第二光学亚波长纳米结构阵列包括通过电子束蚀刻写入所述光学亚波长纳米结构阵列。
25.根据权利要求22或23的制造光学显示装置的方法，其特征在于，还包括接合所述基体到一安全物品作为光学安全验证装置。
CN201480036137.0A 2013-05-10 2014-05-12 用于rgb和cmyk彩色显示的纳米结构阵列衍射光学元件 Active CN105555543B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201361822166P 2013-05-10 2013-05-10
US61/822,166 2013-05-10
PCT/CA2014/050444 WO2014179892A1 (en) 2013-05-10 2014-05-12 Nanostructure array diffractive optics for rgb and cmyk color displays

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN105555543A CN105555543A (zh) 2016-05-04
CN105555543B true CN105555543B (zh) 2017-09-01

Family

ID=51866581

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201480036137.0A Active CN105555543B (zh) 2013-05-10 2014-05-12 用于rgb和cmyk彩色显示的纳米结构阵列衍射光学元件

Country Status (7)

Country Link
US (1) US11198314B2 (zh)
EP (1) EP2994317B1 (zh)
CN (1) CN105555543B (zh)
AU (1) AU2014262358B2 (zh)
CA (1) CA2911760C (zh)
ES (1) ES2773494T3 (zh)
WO (1) WO2014179892A1 (zh)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9696468B2 (en) * 2014-11-25 2017-07-04 NanoMedia Solutions Inc. Methods for fabricating color image display devices comprising structural color pixels from a generic stamp
CA2987417A1 (en) * 2015-06-02 2016-12-08 The University Of Melbourne Method and apparatus for representing an image with plasmonic pixels
WO2017015748A1 (en) * 2015-07-25 2017-02-02 NanoMedia Solutions Inc. Color image display devices comprising structural color pixels that are selectively activated and/or deactivated by material deposition
DE102016015335A1 (de) 2016-12-21 2018-06-21 Giesecke+Devrient Currency Technology Gmbh Holographisches Sicherheitselement und Verfahren zu dessen Herstellung
CN112346156B (zh) * 2019-12-30 2022-12-27 广东聚华印刷显示技术有限公司 结构色基板、光学元件及其制作方法、显示装置
CN111045122B (zh) * 2020-01-08 2024-06-04 中国人民解放军国防科技大学 基于圆形孔阵列的表面等离子体显示像素结构
CN111427107B (zh) * 2020-04-07 2022-02-15 上海冠众光学科技有限公司 一种衍射光学元件取值模型、衍射光学元件及其制作方法
US12083813B2 (en) 2021-10-21 2024-09-10 Viavi Solutions Inc. Printing machine and fixed patterned plate
WO2023086333A1 (en) * 2021-11-12 2023-05-19 Viavi Solutions Inc. An article including an image including two or more types of pixels
AU2022413830A1 (en) * 2021-12-13 2024-09-12 Authentix, Inc. Diffractive displays

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101100156A (zh) * 2007-07-20 2008-01-09 苏州苏大维格数码光学有限公司 一种用于卡证的防伪结构及其识别方法
CN101161482A (zh) * 2007-11-13 2008-04-16 公安部交通管理科学研究所 用于驾驶证的防伪结构及其识别方法
CN101306615A (zh) * 2008-07-11 2008-11-19 公安部交通管理科学研究所 用于行驶证的防伪结构及其识别方法
EP2228672A1 (de) * 2009-03-11 2010-09-15 Giesecke & Devrient GmbH Sicherheitselement mit mehrfarbigem Bild
EP2447744A1 (en) * 2010-11-01 2012-05-02 CSEM Centre Suisse d'Electronique et de Microtechnique SA - Recherche et Développement Pixelated optical filter and method for the manufacturing thereof
CN103080816A (zh) * 2010-08-11 2013-05-01 证券票据国际私人有限公司 光可变装置

Family Cites Families (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH659433A5 (de) 1982-10-04 1987-01-30 Landis & Gyr Ag Dokument mit einem beugungsoptischen sicherheitselement.
US5784200A (en) * 1993-05-27 1998-07-21 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Difraction grating recording medium, and method and apparatus for preparing the same
FI116086B (fi) * 2000-06-08 2005-09-15 Avantone Oy Varmistusmerkitty paperi- tai kartonkituote ja varmistusmerkitty pakkaus
AU2001270833A1 (en) * 2000-07-18 2002-01-30 Optaglio Limited Diffractive device
US7625632B2 (en) 2002-07-15 2009-12-01 Jds Uniphase Corporation Alignable diffractive pigment flakes and method and apparatus for alignment and images formed therefrom
DE10308327A1 (de) 2003-02-26 2004-09-09 Giesecke & Devrient Gmbh Sicherheitselement
EP2311647B1 (en) 2003-11-21 2018-01-10 Visual Physics, LLC Micro-optic security and image presentation system
EP1797584A4 (en) 2004-06-08 2014-08-13 Sandisk Corp METHODS AND DEVICES FOR FORMING NANOSTRUCTURE MONOLAYERS AND DEVICES COMPRISING SUCH SINGLES
DE102004044458B4 (de) 2004-09-15 2010-01-07 Ovd Kinegram Ag Sicherheitsdokument
WO2008018923A2 (en) 2006-03-22 2008-02-14 President And Fellows Of Harvard College Fabrication of isolated nanostructures and/or arrays of nanostructures
WO2007119773A1 (ja) 2006-04-12 2007-10-25 Toyo Seikan Kaisha, Ltd. 構造体、構造体の形成方法、構造体形成装置、構造色及び／又は回折光読み取り方法、及び、真贋判定方法
JP4961944B2 (ja) 2006-10-24 2012-06-27 凸版印刷株式会社 表示体及び印刷物
DE102007039591A1 (de) 2007-08-22 2009-02-26 Giesecke & Devrient Gmbh Gitterbild
BRPI0721635A2 (pt) 2007-09-28 2014-02-25 Toppan Printing Co Ltd Representação e artigo rotulado.
US20090091644A1 (en) * 2007-10-05 2009-04-09 Mackey Jeffrey L Metallic nanostructure color filter array and method of making the same
DE102008005019B4 (de) 2008-01-17 2010-08-05 Ovd Kinegram Ag Folienelement sowie die Verwendung dieses Folienelements
DE102008009296A1 (de) * 2008-02-15 2009-08-20 Giesecke & Devrient Gmbh Sicherheitselement und Verfahren zu seiner Herstellung
AU2009201481A1 (en) 2008-07-29 2010-02-18 Visy R & D Pty Ltd Box lid and blank therefor
CN102472848B (zh) 2009-08-13 2014-08-27 凸版印刷株式会社 图像显示体及带标签的物品
KR101640814B1 (ko) * 2009-10-30 2016-07-20 엘지디스플레이 주식회사 표면 플라즈몬을 이용한 컬러필터 및 액정표시장치
KR101272052B1 (ko) 2009-12-18 2013-06-05 엘지디스플레이 주식회사 표면 플라즈몬을 이용한 컬러필터 및 액정표시장치의 제조방법
EP2336810A1 (de) 2009-12-18 2011-06-22 Boegli-Gravures S.A. Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung von Farbmustern mittels Beugungsgitter
EP2564247A2 (en) 2010-04-27 2013-03-06 The Regents Of The University Of Michigan Display device having plasmonic color filters and photovoltaic capabilities
EP2447743B1 (en) 2010-11-01 2016-10-26 CSEM Centre Suisse d'Electronique et de Microtechnique SA - Recherche et Développement Isotropic optical filter and method of manufacturing thereof
JP2012123102A (ja) 2010-12-07 2012-06-28 Toppan Printing Co Ltd 表示体及びラベル付き物品
JP2012159589A (ja) 2011-01-31 2012-08-23 Toppan Printing Co Ltd 表示体及びラベル付き物品
DE102011101635A1 (de) 2011-05-16 2012-11-22 Giesecke & Devrient Gmbh Zweidimensional periodisches, farbfilterndes Gitter
WO2013039454A1 (en) 2011-09-12 2013-03-21 Agency For Science, Technology And Research An optical arrangement and a method of forming the same
DE102011115589A1 (de) 2011-10-11 2013-04-11 Giesecke & Devrient Gmbh Sicherheitselement
DE102012015900A1 (de) 2012-08-10 2014-03-06 Giesecke & Devrient Gmbh Sicherheitselement mit farbeffekterzeugendem Gitter
FR2994602B1 (fr) * 2012-08-16 2014-09-12 Commissariat Energie Atomique Dispositif de filtrage spectral dans les domaines visible et infrarouge
SG2013073085A (en) * 2012-09-28 2014-04-28 Agency Science Tech & Res Method of writing to an optical data storage medium, method of reading from an optical data storage medium, and optical data storage medium
US8976359B2 (en) * 2012-12-15 2015-03-10 Board Of Trustees Of The University Of Alabama, For And On Behalf Of The University Of Alabama In Huntsville Nanostructure diffraction gratings for integrated spectroscopy and sensing

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101100156A (zh) * 2007-07-20 2008-01-09 苏州苏大维格数码光学有限公司 一种用于卡证的防伪结构及其识别方法
CN101161482A (zh) * 2007-11-13 2008-04-16 公安部交通管理科学研究所 用于驾驶证的防伪结构及其识别方法
CN101306615A (zh) * 2008-07-11 2008-11-19 公安部交通管理科学研究所 用于行驶证的防伪结构及其识别方法
EP2228672A1 (de) * 2009-03-11 2010-09-15 Giesecke & Devrient GmbH Sicherheitselement mit mehrfarbigem Bild
CN103080816A (zh) * 2010-08-11 2013-05-01 证券票据国际私人有限公司 光可变装置
EP2447744A1 (en) * 2010-11-01 2012-05-02 CSEM Centre Suisse d'Electronique et de Microtechnique SA - Recherche et Développement Pixelated optical filter and method for the manufacturing thereof

Also Published As

Publication number Publication date
ES2773494T3 (es) 2020-07-13
CN105555543A (zh) 2016-05-04
EP2994317B1 (en) 2019-11-13
US11198314B2 (en) 2021-12-14
EP2994317A4 (en) 2017-05-10
US20160107471A1 (en) 2016-04-21
EP2994317A1 (en) 2016-03-16
CA2911760C (en) 2021-04-20
CA2911760A1 (en) 2014-11-13
AU2014262358A1 (en) 2015-12-24
WO2014179892A1 (en) 2014-11-13
AU2014262358B2 (en) 2018-08-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105555543B (zh) 用于rgb和cmyk彩色显示的纳米结构阵列衍射光学元件
CA2667100C (en) Multilayer element comprising microlenses
CN104884265B (zh) 多层体和用于生产防伪元件的方法
CN104903117B (zh) 装饰元件和具有装饰元件的安全文件
US20120162771A1 (en) Pixelated optical filter and method for manufacturing thereof
JP7178377B2 (ja) 反射により視認可能な光セキュリティ部品、そのような部品の製造方法、およびそのような部品を与えられた安全な文書
JP2016505161A5 (zh)
JP2011164180A (ja) 表示体及び表示体付き物品及び原版の製造方法及びスタンパの製造方法及び表示体の製造方法
CN105555542B (zh) 用于运动和动画显示的纳米结构阵列衍射光学元件
CN107743446B (zh) 具有滤色光栅的安全元件
JP2008225322A (ja) 微細な凹凸部を有する光回折構造
CN101306615B (zh) 用于行驶证的防伪结构及其识别方法
RU2736433C1 (ru) Продукт или продуктовая упаковка со структурным элементом
JP3033404B2 (ja) 回折格子パターンを有するディスプレイ
JP4352741B2 (ja) 回折格子パターンを有する画像表示体
CN103189764B (zh) 具有彼此邻接的光栅区域的光栅图像
AU2022413830A1 (en) Diffractive displays
JP6003450B2 (ja) 表示体及びラベル付き物品
JP2012198481A (ja) 画像表現体

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
TA01 Transfer of patent application right
TA01 Transfer of patent application right

Effective date of registration: 20170801

Address after: Burnaby Canada British Columbia

Applicant after: Nanotechnology security group

Address before: Burnaby Canada British Columbia

Applicant before: Idit Technology Corp.

GR01 Patent grant
GR01 Patent grant