CN105522730A - 一种光扩散膜的制备方法 - Google Patents
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Abstract
一种光扩散膜的制备方法,属于薄膜制备领域。其特征在于将PET和光扩散剂置于烘箱中干燥,充分混合后加入双螺杆挤出机造粒,粒料在烘箱中干燥,然后经单螺杆挤出机流延成膜,再经薄膜静态双向拉伸试验机拉伸,成型完成制备。通过对制备工艺的改进,所制备的PET光扩散膜的透光率、雾度都得到提高,延长使用寿命,本发明所述的光扩散膜的制备方法工艺简单,易于操作,适合工业化应用,具有较大的市场空间。
Description
技术领域
本发明属于薄膜制备领域,尤其涉及一种光扩散膜的制备方法。
背景技术
近年来,随着电子技术的快速发展,使得各种智能化设备的应用越来越多,现在多数智能设备又是基于显示器材的应用,作为其背光源模组重要组成部分的光扩散膜的需求也越来越大。光扩散膜的作用是将点光源、线光源转化为面光源,具有高透光率和高雾度等特点。光扩散材料根据作用机理不同,可分为面扩散和体扩散两种。面扩散主要通过打磨、涂层、喷砂或刻痕等手段,利用粗糙表面产生光扩散。目前LCD中应用的PET光扩散膜都是用涂覆工艺制备,制备方法比较单一,不利于光扩散膜在相关行业的应用。
发明内容
本发明旨在解决上述问题,提供一种光扩散膜的制备方法。
一种光扩散膜的制备方法,其特征在于将PET和光扩散剂置于烘箱中干燥,充分混合后加入双螺杆挤出机造粒,粒料在烘箱中干燥,然后经单螺杆挤出机流延成膜,再经薄膜静态双向拉伸试验机拉伸,成型完成制备。
本发明所述的一种光扩散膜的制备方法,其特征在于所述烘箱干燥的温度为160℃,干燥时间为5h。
本发明所述的一种光扩散膜的制备方法,其特征在于所述双螺杆挤出机各段温度依次设定为265℃,275℃,280℃,280℃,280℃,280℃,275℃,270℃。
本发明所述的一种光扩散膜的制备方法,其特征在于所述粒料的干燥温度为160℃,干燥时间为5h。
本发明所述的一种光扩散膜的制备方法,其特征在于所述PET为FG720。
本发明所述的一种光扩散膜的制备方法,其特征在于所述光扩散剂包括球形有机硅光扩散剂和球形二氧化硅光扩散剂。
本发明所述的一种光扩散膜的制备方法,通过对制备工艺的改进,所制备的PET光扩散膜的透光率、雾度都得到提高,延长使用寿命,本发明所述的光扩散膜的制备方法工艺简单,易于操作,适合工业化应用,具有较大的市场空间。
具体实施方式
一种光扩散膜的制备方法,其特征在于将PET和光扩散剂置于烘箱中干燥,充分混合后加入双螺杆挤出机造粒,粒料在烘箱中干燥,然后经单螺杆挤出机流延成膜,再经薄膜静态双向拉伸试验机拉伸,成型完成制备。
本发明所述的一种光扩散膜的制备方法,所述烘箱干燥的温度为160℃,干燥时间为5h。所述双螺杆挤出机各段温度依次设定为265℃,275℃,280℃,280℃,280℃,280℃,275℃,270℃。所述粒料的干燥温度为160℃,干燥时间为5h。所述PET为FG720。所述光扩散剂包括球形有机硅光扩散剂和球形二氧化硅光扩散剂。透光参数、雾度参数和扩散效率都随折射率的变化发生幅度较小的波动性变化,这说明颗粒折射率对光扩散效果的影响较小。当光扩散剂颗粒折射率与基体PET折射率相等时复合材料为透明材料。当颗粒粒径较小时有大量后向散射,并且散射光在各角度上的光强分布比较均匀,此时雾度参数始终接近100%,扩散效率与透光参数重合;当颗粒粒径较大时,散射光多为前向散射,使透光参数始终接近100%,扩散效率与雾度参数重合。当颗粒粒径在0.22~1.86μm时,扩散效率大于90%。相对于折射率对扩散效率的影响,粒径对扩散效率的影响较大。当光扩散剂添加量相对较低时,光线通过光扩散膜受到光扩散剂颗粒散射的概率随光扩散剂含量的增加而增大,雾度也随之提高;当光扩散剂的添加量增大到一定值以后,光线通过时会被光扩散剂颗粒多次散射,光线已被均匀分布到各个角度,雾度达到极值不再增加。随着光扩散剂颗粒浓度增加,越来越多的光线经多次散射后方向发生改变的角度增大而成为反射光,同时光扩散剂本身对光有一定的吸收,在这两方面的作用下透光率逐渐降低。当扩散剂A1的质量分数为3%时,制备得到的光扩散膜具有最优的性能,其透光率为85.3%、雾度为90.86%。
Claims (6)
1.一种光扩散膜的制备方法,其特征在于将PET和光扩散剂置于烘箱中干燥,充分混合后加入双螺杆挤出机造粒,粒料在烘箱中干燥,然后经单螺杆挤出机流延成膜,再经薄膜静态双向拉伸试验机拉伸,成型完成制备。
2.如权利要求1所述的一种光扩散膜的制备方法,其特征在于所述烘箱干燥的温度为160℃,干燥时间为5h。
3.如权利要求1所述的一种光扩散膜的制备方法,其特征在于所述双螺杆挤出机各段温度依次设定为265℃,275℃,280℃,280℃,280℃,280℃,275℃,270℃。
4.如权利要求1所述的一种光扩散膜的制备方法,其特征在于所述粒料的干燥温度为160℃,干燥时间为5h。
5.如权利要求1所述的一种光扩散膜的制备方法,其特征在于所述PET为FG720。
6.如权利要求1所述的一种光扩散膜的制备方法,其特征在于所述光扩散剂包括球形有机硅光扩散剂和球形二氧化硅光扩散剂。
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2015
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