CN102540291B - 一种光学扩散膜的制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及光学薄膜技术领域，尤其涉及一种光学扩散膜及其制备方法。为了解决现有光学扩散膜中大粒径和小粒径的散射粒子混杂在一起，使得光线的亮度和散射均匀度较低的缺陷，本发明提供了一种光学扩散膜及其制备方法。所述光学扩散膜，包括基材，所述基材包含有小颗粒散射粒子，所述小颗粒散射粒子粒径为1-10μm；所述基材两侧至少一侧设置有大颗粒散射粒子，所述大颗粒散射粒子粒径为40-100μm，所述大颗粒散射粒子通过粘合树脂粘结在基材表面。本发明提供的光学扩散膜具有较高的光透过率和雾度，从而具有较高的亮度和散射均匀度。其制备方法工艺简单，易于操作。

Description

一种光学扩散膜的制备方法

技术领域

本发明涉及光学薄膜技术领域，尤其涉及一种光学扩散膜及其制备方法。

背景技术

光学扩散薄膜（又称光学扩散膜、光扩散膜，简称扩散膜）广泛应用于液晶显示、广告灯箱、照明灯具等需要光源的装置中，特别是在液晶显示装置中，扩散膜是背光模块中的关键零部件。光学扩散膜的主要作用是提升光线亮度，并将导光板收到的光线柔散化，为显示器提供一个均匀的面光源，起到拓宽视角的作用。

就液晶显示器来说，在整个光学模组中需要两片光学扩散膜，分别称为上扩散膜和下扩散膜。其中下扩散膜靠近导光板，主要功能是集光、遮蔽导光板印刷网点或线光源、灯管黑影；上扩散膜具高光穿透能力，可改善视角、增加光源柔和性，兼具扩散及保护棱镜片的功能。扩散膜相比较于其它光学膜片（如棱镜片）来说所占的材料成本比重不高，但在高亮度规格要求下，显示屏的均匀度与亮度主要受扩散膜的品质影响。

扩散膜的目的是将线性光源或点状光源均匀转换成面光源，其作用原理是利用光在具有不同折射率的介质中穿过，光线产生许多折射、反射、散射的现象，造成光学扩散的效果。

目前扩散膜的制作方法多采用散射粒子型的湿法涂布方式，如图1所示，现有扩散膜结构从上至下分别包括小颗粒散射粒子3和大颗粒散射粒子5、粘合树脂2、基材1和抗粘连粒子4。其中基材1通常为透明光学级聚酯薄膜，小颗粒散射粒子3和大颗粒散射粒子5可以是无机粒子或高分子粒子（或称聚合物粒子）。有些扩散膜结构的上层和下层都是扩散层，有些扩散膜的下扩散层下面还设置有粘接层。扩散层2是通过涂布方式，将散射粒子和粘合树脂，如聚丙烯酸树脂（或称压克力树脂）的混合物涂覆于基材1表面，涂层经高温烘干去除溶剂、硬化而成。

散射粒子型涂布式扩散膜具有一定的透光率和雾度，其外观质量好，为高端背光源产品的扩散膜首选品种。该类扩散膜主要依靠涂覆层中随机散布的不同尺寸的散射粒子对进入涂层内的入射光线进行散射，使出射光线的方向随机分布，从而使入射光的非均匀光场均匀化，并对扩散膜下面的背光模组元件的瑕疵起到遮盖作用。此外，涂覆层中一些尺寸较大的散射粒子的顶部突出于涂层表面，形成对光线具有一定聚光作用的曲面，使扩散膜具有一定的聚光能力。

近年来随着液晶显示装置的快速发展及其在移动通讯显示屏、电脑显示器、大尺寸液晶电视中的广泛应用，人们对显示装置中光学扩散薄膜的性能要求日趋提高。如何有效提高扩散膜的亮度以及散射均匀度是目前液晶显示领域需要解决的一个重要课题。

发明内容

为了解决现有光学扩散膜中大粒径和小粒径的散射粒子（又称扩散微粒、扩散粒子）随机混杂在一起，使得光线的亮度和散射均匀度较低的缺陷，本发明提供一种光学扩散膜及其制备方法，该扩散膜具有较高的亮度和散射均匀度，其制备方法工艺简单，易于操作。

为了达到上述目的，本发明提供下述技术方案：

一种光学扩散膜，包括基材（又称基膜），它的特点是，所述基材包含有小颗粒散射粒子，所述小颗粒散射粒子粒径为1-10μm；所述基材两侧至少一侧设置有大颗粒散射粒子，所述大颗粒散射粒子粒径为40-100μm，所述大颗粒散射粒子通过粘合树脂粘结在基材表面。所述粘合树脂可以是断续的，也可以形成连续的一层，含有大颗粒散射粒子的粘合树脂层也可以称为扩散层。

在基膜表面引入小颗粒散射粒子，替代传统的抗粘连粒子（一般为二氧化硅粒子），然后采用涂布方式在基膜表面涂覆大颗粒散射粒子。基膜表面的小颗粒散射粒子不仅起到抗粘连作用，而且比传统的抗粘连粒子具有更高的光学性能，使得基膜的光透过性能更好；另外，散射粒子的排列相对有序，不像传统涂布法那样大小粒径的散射粒子随机混杂一起，因此可以尽可能地改善光线的亮度和散射均匀度。

进一步的，所述扩散膜的厚度为125-450μm，所述基材的厚度为75-250μm。扩散膜的透光率为86-94%，雾度为60-95%。一般来说，薄膜的透光率越高，光利用率和亮度就越高；雾度越高，则膜的扩散效果越好，散射均匀度越高；同时，可以通过调整散射粒子的种类、粒径以及添加量来调整雾度数值。

进一步的，所述小颗粒散射粒子粒径为2-6μm；所述大颗粒散射粒子粒径为60-80μm。

进一步的，所述扩散膜的厚度为125-350μm。

进一步的，所述扩散膜的厚度为150-300μm。

进一步的，所述扩散膜的厚度为150-300μm，所述基材的厚度为75-200μm。

进一步的，所述基材可以为单层结构，也可以是三层共挤结构。

进一步的，所述基材为三层共挤结构，中间层材料为纯聚酯材料，厚度为所述基材厚度的76%-88%，两外层添加有小颗粒散射粒子，厚度分别为所述基材厚度的6%-12%。所述小颗粒散射粒子的粒径为1-10μm，优选为2-6μm。

进一步的，所述基材原料包括聚对苯二甲酸乙二醇酯（PET）、聚对苯二甲酸丁二醇酯（PBT）、聚萘二甲酸乙二醇酯（PEN）或其共聚改性聚酯；所述散射粒子为无机粒子或聚合物粒子。

所述基材采用有光聚酯切片，聚酯切片的特性粘度值为0.55-0.70dl/g，优选为0.64-0.68dl/g，熔点大于255℃，优选为260℃以上；所述散射粒子优选为合成聚合物粒子，特别是透明性且具备一定光折射率的树脂材料。

进一步的，所述散射粒子为聚合物粒子，所述聚合物粒子材料的光折射率为1.4-1.75；所述聚合物粒子包括聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）粒子、聚酯（PET）粒子、聚碳酸酯（PC）粒子或聚苯乙烯（PS）粒子中的一种或至少两种的组合。

一种上述的光学扩散膜的制备方法，它的特点是，所述制备方法包括如下步骤：

步骤1、散射母料（又称扩散母料）的制备

将计算量的小颗粒散射粒子与聚酯切片混和均匀，使得散射粒子在母料中的重量含量为4g-8g/kg，优选为6g/kg（6000ppm），然后熔融、挤出、切粒，制得散射母料；

步骤2、基材的制备

将步骤1所得散射母料与聚酯切片混合，其中所述散射母料与聚酯切片的重量比为30-50:70-50，制成混合料A，所得混合料A与基材原料B（聚酯切片）分别进行熔融塑化，所得的熔体通过分配器进入三层共挤出机的模头，两外层为混和料A，中间层为基材原料B，共挤出后通过冷却、铸片、双向拉伸工艺，制得ABA结构的聚酯基材；

步骤3、扩散涂料及涂布液的制备

将大颗粒散射粒子与粘合树脂混和均匀形成扩散涂料，所得扩散涂料与稀释剂混和均匀制成涂布液；其中，所述大颗粒散射粒子用量为扩散涂料总重量的10%-40%；所述稀释剂的用量为涂布液总重量的30%-70%；

步骤4、扩散膜的制备

采用湿法涂布方式，将步骤3所得的涂布液涂布在步骤2所得的聚酯基材上，干燥，制备成扩散膜。

涂布的厚度依据大颗粒散射粒子粒径而定，一般与粒子最大直径相当；所述粘合树脂为丙烯酸酯类、聚氨酯类、有机硅类或有机多元醇类中的一种；所述稀释剂为乙酸乙酯、乙酸丁酯、丙酮、甲苯、丁酮、环已酮、乙醇、异丙醇或丁醇中的一种或至少两种的混合物。

进一步的，所述大颗粒散射粒子用量为扩散涂料总重量的20%-30%；所述稀释剂的用量为涂布液总重量的40%-60%。

一种背光模组，包括光学扩散膜，它的特点是，所述光学扩散膜为上述的光学扩散膜，或是上述方法制得。

一种液晶显示装置，包括背光模组，它的特点是，所述背光模组包括上述的光学扩散膜，或包括以上述方法制得的光学扩散膜。

与现有技术相比，本发明提供的光学扩散膜，基膜部分采用小颗粒散射粒子替代无机抗粘连粒子，避免了抗粘连粒子对基膜光学性能造成的影响，从而尽可能的提高了基膜的光透过率，有助于改善扩散膜的亮度；在基膜表面涂覆大颗粒散射粒子，能够很好地控制散射粒子的分布，使小颗粒分布于内层而大颗粒分布于外层。通过这种有序排列，有助于改善扩散膜的光亮度及散射均匀性，此外，使大颗粒散射粒子全部分布于外表面，可以形成更多的聚光曲面，从而有效地提高扩散膜的聚光能力。本发明提供的光学扩散膜具有较高的光透过率和雾度，从而使得通过该光学扩散膜的光线具有较高的亮度和散射均匀度。本发明提供的光学扩散膜的制备方法包括双向拉伸工艺和涂布工艺，该制备方法工艺简单，易于操作。

附图说明

图1为现有散射粒子型涂布法制得的扩散膜的结构示意图；

图2为本发明提供的单面涂布法制得的扩散膜的结构示意图；

图3为本发明提供的双面涂布法制得的扩散膜的结构示意图。

图中：1为基材，2为粘合树脂，3为小颗粒散射粒子，4为抗粘连粒子；5为大颗粒散射粒子。

具体实施方式

如图2所示，本发明提供的光学扩散膜为单面涂布法制得的扩散膜，包括基材1，所述基材1包含有小颗粒散射粒子3，所述小颗粒散射粒子3粒径为1-10μm；所述基材1两侧至少一侧设置有大颗粒散射粒子5，所述大颗粒散射粒子5粒径为40-100μm，所述大颗粒散射粒子5通过粘合树脂2粘结在所述基材1的表面。

如图3所示，本发明提供的光学扩散膜为双面涂布法制得的扩散膜，包括基材1，所述基材1包含有小颗粒散射粒子3，所述基材1的两侧都设有大颗粒散射粒子5，所述大颗粒散射粒子5通过粘合树脂2粘结在所述基材1的表面。

本发明所用的材料和设备均为现有材料和设备，例如：聚酯薄膜制备原料采用市场上销售的膜级聚酯切片，一般为聚对苯二甲酸乙二醇酯（PET）、聚对苯二甲酸丁二醇酯（PBT）、聚萘二甲酸乙二醇酯（PEN）或其共聚改性聚酯；散射粒子采用市场上销售的聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）、聚酯（PET）、聚碳酸酯（PC）、聚苯乙烯（PS）；粘合树脂和稀释剂均为市售产品。

本发明制备所得扩散薄膜的光学性能通过光透过率和雾度的测定来评价，并且采用下述常用检测方法和设备测试所制备的光学扩散膜的光透过率和雾度。

光透过率和雾度：用来评定扩散薄膜的光学性能，薄膜的光透过率越高则光学性能越好，雾度越高膜的散射效果越好。光透过率和雾度的测定依据GB/T2410-2008标准，在英国Diffusion公司的EEL57D雾度仪上进行。

双向拉伸工艺所用的设备：日本三菱重工生产的聚酯薄膜拉伸生产线。

本发明提供的光学扩散膜的制备方法，包括如下步骤：

步骤1、散射母料的制备

将计算量的小颗粒散射粒子与聚酯切片混和均匀，使得散射粒子在母料中的重量含量为4g-8g/kg，优选为6g/kg（6000ppm），然后熔融、挤出、切粒，制得散射母料；

步骤2、基材的制备

将步骤1所得散射母料与聚酯切片混合，其中所述散射母料与聚酯切片的重量比为30-50:70-50，制成混合料A，所得混合料A与基材原料B分别进行熔融塑化，所得的熔体通过分配器进入三层共挤出机的模头，两外层为混和料A，中间层为基材原料B，共挤出后通过冷却、铸片、双向拉伸工艺，制得ABA结构的聚酯基材；

步骤3、扩散涂料及涂布液的制备

将大颗粒散射粒子与粘合树脂混和均匀形成扩散涂料，所得扩散涂料与稀释剂混和均匀制成涂布液；其中，所述大颗粒散射粒子用量为扩散涂料总重量的10%-40%；所述稀释剂的用量为涂布液总重量的30%-70%；

步骤4、扩散膜的制备

采用湿法涂布方式，将步骤3所得的涂布液涂布在步骤2所得的聚酯基材上，干燥，制备成扩散膜。

按上述方法制备光学扩散膜，只是所用材料及材料含量有所不同；其中，下述实施例1-8中，所述扩散膜原料包括有光切片（又称有光料，产品型号为FG600），为中国仪征化纤有限公司生产的膜级聚酯切片。其中，基材的中间层B的厚度为整个基材厚度的80%，含有小颗粒扩散粒子的外层A的厚度为整个基材厚度的10%。

散射粒子（包括大颗粒散射粒子和小颗粒散射粒子）采用聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）粒子，由日本积水化成工业公司制备并提供，所述小颗粒聚甲基丙烯酸甲酯粒子的粒径为2-6μm，以母料形式使用，所述PMMA在母料中的重量含量为4g-8g/kg，光折射率为1.4-1.75。粘合树脂和稀释剂均为市售产品。

实施例中所述的百分含量为重量百分含量。

实施例1

按前述方法制备扩散膜，基膜厚度为75μm；基膜为ABA三层共挤结构，A层中扩散母料与有光切片的配比为42:58。单面涂布大颗粒散射粒子，扩散涂料中大颗粒散射粒子粒径为40μm-60μm，大颗粒散射粒子占整个扩散涂料的18%，所述稀释剂的用量为涂布液总重量的35%。最终扩散膜厚度为135μm。所得薄膜光学性能（透光率、雾度）测定结果见表1。

实施例2

按前述方法制备扩散膜，基膜厚度为150μm；基膜为ABA三层共挤结构，A层中扩散母料与有光切片的配比为40:60。单面涂布大颗粒散射粒子，扩散涂料中的大颗粒散射粒子粒径为60μm-80μm，所述大颗粒散射粒子占整个扩散涂料的26%，所述稀释剂的用量为涂布液总重量的50%。最终扩散膜厚度为230μm。所得薄膜光学性能（透光率、雾度）测定结果见表1。

实施例3

按前述方法制备扩散膜，基膜厚度为188μm；基膜为ABA三层共挤结构，A层中扩散母料与有光切片的配比为36:64。单面涂布大颗粒散射粒子，扩散涂料中的大颗粒散射粒子粒径为80μm-100μm，所述大颗粒散射粒子占整个扩散涂料的34%，所述稀释剂的用量为涂布液总重量的60%。最终扩散膜厚度为288μm。所得薄膜光学性能（透光率、雾度）测定结果见表1。

实施例4

按前述方法制备扩散膜，基膜厚度为225μm；基膜为ABA三层共挤结构，A层中扩散母料与有光切片的配比为34:66。单面涂布大颗粒散射粒子，扩散涂料中的大颗粒散射粒子粒径为40μm-100μm，所述大颗粒散射粒子占整个扩散涂料的30%，所述稀释剂的用量为涂布液总重量的45%。最终扩散膜厚度为325μm。所得薄膜光学性能（透光率、雾度）测定结果见表1。

表1

实施例5

按前述方法制备扩散膜，基膜厚度为75μm；基膜为ABA三层共挤结构，A层中扩散母料与有光切片的配比为42:58。双面涂布大颗粒散射粒子，扩散涂料中大颗粒散射粒子粒径为40μm-60μm，所述大颗粒散射粒子占整个扩散涂料的15%，所述稀释剂的用量为涂布液总重量的37%。最终扩散膜厚度为195μm。所得薄膜光学性能（透光率、雾度）测定结果见表2。

实施例6

按前述方法制备扩散膜，基膜厚度为150μm；基膜为ABA三层共挤结构，A层中扩散母料与有光切片的配比为40:60。双面涂布大颗粒散射粒子，扩散涂料中的大颗粒散射粒子粒径为60μm-80μm，所述大颗粒散射粒子占整个扩散涂料的24%，所述稀释剂的用量为涂布液总重量的30%。最终扩散膜厚度为310μm。所得薄膜光学性能（透光率、雾度）测定结果见表2。

实施例7

按前述方法制备扩散膜，基膜厚度为188μm；基膜为ABA三层共挤结构，A层中扩散母料与有光切片的配比为36:64。双面涂布大颗粒散射粒子，扩散涂料中的大颗粒散射粒子粒径为80μm-100μm，所述大颗粒散射粒子占整个扩散涂料的30%，所述稀释剂的用量为涂布液总重量的65%。最终扩散膜厚度为388μm。所得薄膜光学性能（透光率、雾度）测定结果见表2。

实施例8

按前述方法制备扩散膜，基膜厚度为225μm；基膜为ABA三层共挤结构，A层中扩散母料与有光切片的配比为34:66。大颗粒散射粒子双面涂布，扩散涂料中的大颗粒散射粒子粒径为40μm-100μm，所述大颗粒散射粒子占整个扩散涂料的28%，所述稀释剂的用量为涂布液总重量的70%。最终扩散膜厚度为425μm。所得薄膜光学性能（透光率、雾度）测定结果见表2。

表2

下述实施例9-16中，所述散射粒子（包括大颗粒散射粒子和小颗粒散射粒子）为市售的聚碳酸酯（PC）粒子、聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）粒子或聚苯乙烯（PS）粒子或其组合，小颗粒散射粒子粒径为1-10μm，所述小颗粒散射粒子以散射母料形式使用，在母料中的重量含量为4g-8g/kg；聚酯切片（或称有光切片）为PET、PBT或PEN膜级聚酯切片，或改性聚酯，基材的中间层B的厚度为整个基材厚度的76-88%，含有小颗粒扩散粒子的外层A的厚度为整个基材厚度的6-12%。

所述粘合树脂为丙烯酸酯、聚氨酯、有机硅或有机多元醇；所述稀释剂为乙酸乙酯、乙酸丁酯、丙酮、甲苯、丁酮、环已酮、乙醇、异丙醇或丁醇，均为市场上常见的产品。

实施例9

本实施例中聚酯切片（有光切片）为PET膜级聚酯切片，散射粒子采用聚碳酸酯（PC）粒子和聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）粒子的混合物（重量比为1:1），粘合树脂为有机多元醇。

按前述方法制备扩散膜，基膜厚度为75μm；基膜为ABA三层共挤结构，A层中扩散母料与有光切片的配比为30:70。单面涂布大颗粒散射粒子，扩散涂料中大颗粒散射粒子粒径为40-50μm，所述大颗粒散射粒子占整个扩散涂料的20%，所述稀释剂异丙醇的用量为涂布液总重量的40%。最终扩散膜厚度为125μm。所得薄膜光学性能（透光率、雾度）测定结果见表3。

实施例10

本实施例中聚酯切片为PBT膜级聚酯切片，散射粒子采用聚碳酸酯（PC）粒子，粘合树脂为丙烯酸酯。

按前述方法制备扩散膜，基膜厚度为250μm；基膜为ABA三层共挤结构，A层中扩散母料与有光切片的配比为50:50。单面涂布大颗粒散射粒子，扩散涂料中的大颗粒散射粒子粒径为60-100μm，所述大颗粒散射粒子占整个扩散涂料的23%，所述稀释剂乙酸乙酯的用量为涂布液总重量的35%。最终扩散膜厚度为350μm。所得薄膜光学性能（透光率、雾度）测定结果见表3。

实施例11

本实施例中聚酯切片为PBT改性聚酯切片，散射粒子采用聚苯乙烯（PS）粒子，粘合树脂为聚氨酯。

按前述方法制备扩散膜，基膜厚度为160μm；基膜为ABA三层共挤结构，A层中扩散母料与有光切片的配比为40:60。单面涂布大颗粒散射粒子，扩散涂料中的大颗粒散射粒子粒径为40-60μm，所述大颗粒散射粒子占整个扩散涂料的40%，所述稀释剂丁酮的用量为涂布液总重量的65%。最终扩散膜厚度为220μm。所得薄膜光学性能（透光率、雾度）测定结果见表3。

实施例12

本实施例中聚酯切片为PBT膜级聚酯切片，散射粒子采用聚碳酸酯（PC）粒子和聚苯乙烯（PS）的混合物（重量比1:1），粘合树脂为有机硅。

按前述方法制备扩散膜，基膜厚度为100μm；基膜为ABA三层共挤结构，A层中扩散母料与有光切片的配比为38:62。单面涂布大颗粒散射粒子，扩散涂料中的大颗粒散射粒子粒径为40-80μm，所述大颗粒散射粒子占整个扩散涂料的25%，所述稀释剂环已酮的用量为涂布液总重量的70%。最终扩散膜厚度为180μm。所得薄膜光学性能（透光率、雾度）测定结果见表3。

表3

实施例13

本实施例中聚酯切片为PET膜级聚酯切片，散射粒子采用聚碳酸酯（PC）粒子和聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）粒子的混合物（重量比为1:1），粘合树脂为有机多元醇。

按前述方法制备扩散膜，基膜厚度为75μm；基膜为ABA三层共挤结构，A层中扩散母料与有光切片的配比为30:70。双面涂布大颗粒散射粒子，扩散涂料中大颗粒散射粒子粒径为40-50μm，所述大颗粒散射粒子占整个扩散涂料的25%，所述稀释剂异丙醇的用量为涂布液总重量的40%。最终扩散膜厚度为175μm。所得薄膜光学性能（透光率、雾度）测定结果见表4。

实施例14

本实施例中聚酯切片为PBT膜级聚酯切片，散射粒子采用聚碳酸酯（PC）粒子，粘合树脂为丙烯酸酯。

按前述方法制备扩散膜，基膜厚度为250μm；基膜为ABA三层共挤结构，A层中扩散母料与有光切片的配比为50:50。双面涂布大颗粒散射粒子，扩散涂料中的大颗粒散射粒子粒径为60-100μm，所述大颗粒散射粒子占整个扩散涂料的28%，所述稀释剂乙酸乙酯的用量为涂布液总重量的40%。最终扩散膜厚度为450μm。所得薄膜光学性能（透光率、雾度）测定结果见表4。

实施例15

本实施例中聚酯切片为PBT改性聚酯切片，散射粒子采用聚苯乙烯（PS）粒子，粘合树脂为聚氨酯。

按前述方法制备扩散膜，基膜厚度为160μm；基膜为ABA三层共挤结构，A层中扩散母料与有光切片的配比为40:60。大颗粒散射粒子双面涂布，扩散涂料中的大颗粒散射粒子粒径为40-60μm，所述大颗粒散射粒子占整个扩散涂料的34%，所述稀释剂丁酮的用量为涂布液总重量的60%，最终扩散膜厚度为280μm。所得薄膜光学性能（透光率、雾度）测定结果见表4。

实施例16

本实施例中聚酯切片为PBT膜级聚酯切片，散射粒子采用聚碳酸酯（PC）粒子和聚苯乙烯（PS）的混合物（重量比1:1），粘合树脂为有机硅。

按前述方法制备扩散膜，基膜厚度为100μm；基膜为ABA三层共挤结构，A层中扩散母料与有光切片的配比为38:62。双面涂布大颗粒散射粒子，扩散涂料中的大颗粒散射粒子粒径为40-80μm，所述大颗粒散射粒子占整个扩散涂料的30%，所述稀释剂环已酮的用量为涂布液总重量的65%。最终扩散膜厚度为260μm。所得薄膜光学性能（透光率、雾度）测定结果见表4。

表4

实施例17

本实施例中所述散射粒子为聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）粒子和聚苯乙烯（PS）粒子的混合物，其中二者的重量比为1：1；小颗粒散射粒子粒径为1-10μm，所述有光切片为改性PET，基材的中间层B的厚度为整个基材厚度的76%，含有小颗粒扩散粒子的外层A的厚度为整个基材厚度的12%，所述粘合树脂为丙烯酸酯，所述稀释剂为异丙醇和丁醇的混合物（体积比1:1）。

按前述方法制备扩散膜，基膜厚度为200μm；基膜为ABA三层共挤结构，A层中扩散母料与有光切片的配比为35:65。单面涂布大颗粒散射粒子，扩散涂料中大颗粒散射粒子粒径为40μm-60μm，大颗粒散射粒子占整个扩散涂料的15%，所述稀释剂的用量为涂布液总重量的36%。最终扩散膜厚度为260μm。所得薄膜光学性能（透光率、雾度）测定结果见表5。

实施例18

本实施例中所述散射粒子为聚碳酸酯（PC）粒子；小颗粒散射粒子粒径为1-10μm，所述有光切片为PEN膜级聚酯切片，基材的中间层B的厚度为整个基材厚度的82%，含有小颗粒扩散粒子的外层A的厚度为整个基材厚度的9%，所述粘合树脂为聚氨酯，所述稀释剂为甲苯和丁酮的混合物（体积比1:1）。

按前述方法制备扩散膜，基膜厚度为75μm；基膜为ABA三层共挤结构，A层中扩散母料与有光切片的配比为42:58。单面涂布大颗粒散射粒子，扩散涂料中的大颗粒散射粒子粒径为40-50μm，所述大颗粒散射粒子占整个扩散涂料的10%，所述稀释剂的用量为涂布液总重量的60%。最终扩散膜厚度为125μm。所得薄膜光学性能（透光率、雾度）测定结果见表5。

实施例19

本实施例中所述散射粒子为聚酯（PET）粒子；小颗粒散射粒子粒径为1-10μm，所述有光切片为PEN改性聚酯膜级切片，基材的中间层B的厚度为整个基材厚度的84%，含有小颗粒扩散粒子的外层A的厚度为整个基材厚度的8%，所述粘合树脂为有机硅，所述稀释剂为丙酮和甲苯的混合物（体积比1:1）。

按前述方法制备扩散膜，基膜厚度为120μm；基膜为ABA三层共挤结构，A层中扩散母料与有光切片的配比为44:56。单面涂布大颗粒散射粒子，扩散涂料中的大颗粒散射粒子粒径为60-100μm，所述大颗粒散射粒子占整个扩散涂料的30%，所述稀释剂的用量为涂布液总重量的60%。最终扩散膜厚度为220μm。所得薄膜光学性能（透光率、雾度）测定结果见表5。

实施例20

本实施例中所述散射粒子为聚苯乙烯（PS）粒子；小颗粒散射粒子粒径为1-10μm，所述有光切片为PET改性聚酯膜级切片，基材的中间层B的厚度为整个基材厚度的88%，含有小颗粒扩散粒子的外层A的厚度为整个基材厚度的6%，所述粘合树脂为有机多元醇，所述稀释剂为环已酮和乙醇的混合物（体积比1:1）。

按前述方法制备扩散膜，基膜厚度为100μm；基膜为ABA三层共挤结构，A层中扩散母料与有光切片的配比为46:54。单面涂布大颗粒散射粒子，扩散涂料中的大颗粒散射粒子粒径为40-50μm，所述大颗粒散射粒子占整个扩散涂料的18%，所述稀释剂的用量为涂布液总重量的45%。最终扩散膜厚度为150μm。所得薄膜光学性能（透光率、雾度）测定结果见表5。

表5

实施例21

本实施例中所述散射粒子为聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）粒子和聚苯乙烯（PS）粒子的混合物，其中二者的重量比为1:1；小颗粒散射粒子粒径为1-10μm，所述有光切片为改性PET，基材的中间层B的厚度为整个基材厚度的76%，含有小颗粒扩散粒子的外层A的厚度为整个基材厚度的12%，所述粘合树脂为丙烯酸酯，所述稀释剂为异丙醇和丁醇的混合物（体积比1:1）。

按前述方法制备扩散膜，基膜厚度为200μm；基膜为ABA三层共挤结构，A层中扩散母料与有光切片的配比为35:65。双面涂布大颗粒散射粒子，扩散涂料中大颗粒散射粒子粒径为40-60μm，所述大颗粒散射粒子占整个扩散涂料的15%，所述稀释剂的用量为涂布液总重量的36%。最终扩散膜厚度为320μm。所得薄膜光学性能（透光率、雾度）测定结果见表6。

实施例22

本实施例中所述散射粒子为聚碳酸酯（PC）粒子；小颗粒散射粒子粒径为1-10μm，所述有光切片为PEN膜级聚酯切片，基材的中间层B的厚度为整个基材厚度的82%，含有小颗粒扩散粒子的外层A的厚度为整个基材厚度的9%，所述粘合树脂为聚氨酯，所述稀释剂为甲苯和丁酮的混合物（体积比1:1）。

按前述方法制备扩散膜，基膜厚度为150μm；基膜为ABA三层共挤结构，A层中扩散母料与有光切片的配比为42:58。双面涂布大颗粒散射粒子，扩散涂料中的大颗粒散射粒子粒径为40-60μm，所述大颗粒散射粒子占整个扩散涂料的12%，所述稀释剂的用量为涂布液总重量的60%。最终扩散膜厚度为270μm。所得薄膜光学性能（透光率、雾度）测定结果见表6。

实施例23

本实施例中所述散射粒子为聚酯（PET）粒子；小颗粒散射粒子粒径为1-10μm，所述有光切片为PEN改性聚酯膜级切片，基材的中间层B的厚度为整个基材厚度的84%，含有小颗粒扩散粒子的外层A的厚度为整个基材厚度的8%，所述粘合树脂为有机硅，所述稀释剂为丙酮和甲苯的混合物（体积比1:1）。

按前述方法制备扩散膜，基膜厚度为120μm；基膜为ABA三层共挤结构，A层中扩散母料与有光切片的配比为44:56。双面涂布大颗粒散射粒子，扩散涂料中的大颗粒散射粒子粒径为60-100μm，所述大颗粒散射粒子占整个扩散涂料的30%，所述稀释剂的用量为涂布液总重量的55%。最终扩散膜厚度为320μm。所得薄膜光学性能（透光率、雾度）测定结果见表6。

实施例24

本实施例中所述散射粒子为聚苯乙烯（PS）粒子；小颗粒散射粒子粒径为1-10μm，所述有光切片为PET改性聚酯膜级切片，基材的中间层B的厚度为整个基材厚度的88%，含有小颗粒扩散粒子的外层A的厚度为整个基材厚度的6%，所述粘合树脂为有机多元醇，所述稀释剂为环已酮和乙醇的混合物（体积比1:1）。

按前述方法制备扩散膜，基膜厚度为180μm；基膜为ABA三层共挤结构，A层中扩散母料与有光切片的配比为46:54。双面涂布大颗粒散射粒子，扩散涂料中的大颗粒散射粒子粒径为40-50μm，所述大颗粒散射粒子占整个扩散涂料的20%，所述稀释剂的用量为涂布液总重量的45%。最终扩散膜厚度为280μm。所得薄膜光学性能（透光率、雾度）测定结果见表6。

表6

上述表1-6表明，本发明提供的光学扩散膜具有较好的光透过率和雾度，光学性能良好。

以上所述，仅为本发明的较佳实施例而已，并非用于限定本发明的保护范围。凡是根据本发明内容所做的均等变化与修饰，均涵盖在本发明的专利范围内。

Claims (6)

1.一种光学扩散膜的制备方法，所述光学扩散膜包括基材，其特征在于，所述基材包含有小颗粒散射粒子，所述小颗粒散射粒子粒径为1-10μm；所述基材两侧至少一侧设置有大颗粒散射粒子，所述大颗粒散射粒子粒径为40-100μm，所述大颗粒散射粒子通过粘合树脂粘结在基材表面；

所述扩散膜的厚度为125-450μm，所述基材的厚度为75-250μm；

所述基材为三层共挤结构，中间层材料为纯聚酯材料，厚度为所述基材厚度的76%-88%，两外层添加有小颗粒的散射粒子，厚度分别为所述基材厚度的6%-12%；

所述的光学扩散膜的制备方法，包括如下步骤：

步骤1、散射母料的制备

将计算量的小颗粒散射粒子与聚酯切片混和均匀，使得散射粒子在母料中的重量含量为4g-8g/kg，然后熔融、挤出、切粒，制得散射母料；

步骤2、基材的制备

将步骤1所得散射母料与聚酯切片混合，其中所述散射母料与聚酯切片的重量比为30-50:70-50，制成混合料A，所得混合料A与基材原料B分别进行熔融塑化，所得的熔体通过分配器进入三层共挤出机的模头，两外层为混和料A，中间层为基材原料B，共挤出后通过冷却、铸片、双向拉伸工艺，制得聚酯基材；

步骤3、扩散涂料及涂布液的制备

将大颗粒散射粒子与粘合树脂混和均匀形成扩散涂料，所得扩散涂料与稀释剂混和均匀制成涂布液；其中，所述大颗粒散射粒子用量为扩散涂料总重量的10%-40%；所述稀释剂的用量为涂布液总重量的30%-70%；

步骤4、扩散膜的制备

采用湿法涂布方式，将步骤3所得的涂布液涂布在步骤2所得的聚酯基材上，干燥，制备成扩散膜。

2.一种如权利要求1所述的光学扩散膜的制备方法，其特征在于，所述小颗粒散射粒子粒径为2-6μm；所述大颗粒散射粒子粒径为60-80μm。

3.一种如权利要求1所述的光学扩散膜的制备方法，其特征在于，所述基材原料包括聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯或其共聚改性聚酯；所述散射粒子为无机粒子或聚合物粒子。

4.一种如权利要求3所述的光学扩散膜的制备方法，其特征在于，所述散射粒子为聚合物粒子，所述聚合物粒子材料的光折射率为1.4-1.75；所述聚合物粒子包括聚甲基丙烯酸甲酯粒子、聚酯粒子、聚碳酸酯粒子或聚苯乙烯粒子中的一种或至少两种的组合。

5.一种如权利要求1所述的光学扩散膜的制备方法，其特征在于，所述大颗粒散射粒子用量为扩散涂料总重量的20%-30%；所述稀释剂的用量为涂布液总重量的40%-60%。

6.一种背光模组，包括光学扩散膜，其特征在于，所述光学扩散膜利用权利要求1-5之一所述的光学扩散膜的制备方法制得。

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