CN105511237B - 显影液供应系统 - Google Patents

显影液供应系统 Download PDF

Info

Publication number
CN105511237B
CN105511237B CN201510891336.6A CN201510891336A CN105511237B CN 105511237 B CN105511237 B CN 105511237B CN 201510891336 A CN201510891336 A CN 201510891336A CN 105511237 B CN105511237 B CN 105511237B
Authority
CN
China
Prior art keywords
developer solution
circulating slot
machine platform
developing machine
developing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201510891336.6A
Other languages
English (en)
Other versions
CN105511237A (zh
Inventor
张岳妍
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TCL China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Original Assignee
Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority to CN201510891336.6A priority Critical patent/CN105511237B/zh
Publication of CN105511237A publication Critical patent/CN105511237A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN105511237B publication Critical patent/CN105511237B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

本发明提供一种显影液供应系统，包括一显影机台(1)、互为备用关系的第一显影液循环槽(21)和第二显影液循环槽(22)、显影液供应源(30)、及氮气供应源(40)，其中，通过将第一、第二显影液循环槽(21、22)及显影机台(1)设置成与显影液供应系统外部隔绝的密闭状态，且使氮气供应源(40)通过管道向第一、第二显影液循环槽(21、22)及显影机台(1)内充入氮气，能够使整个系统处于密封及氮气保护的状态，从而隔绝了空气对显影液中氢氧根离子的消耗，使显影液的使用周期得以延长。

Description

显影液供应系统
技术领域
本发明涉及显示面板的生产领域，尤其涉及一种显影液供应系统。
背景技术
薄膜晶体管液晶显示器（Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，TFT-LCD）由于色彩度高、体积小、功耗低等优势，在目前平板显示领域占主流地位。作为液晶显示器重要组件之一的彩色滤光片（Color filter），主要通过RGB彩色层的滤光实现显色。彩色滤光片的传统的制作工艺，主要包括涂布、预烘烤、曝光、显影、烘烤等制程。其中显影制程对形成图形的宽度及形态特别重要。彩色滤光片一般使用负型光刻胶，显影制程一般为使用显影液将未被光照射到的光刻胶溶解，然后用水将基板冲洗干净。其中，显影液主要包括氢氧化钾（KOH）和表面活性剂，光刻胶内的树脂羧酸基团和显影液中的的氢氧根离子（OH-）发生反应，形成羧基，从而使光刻胶溶于水而溶解。因此，显影液中的OH-的浓度是影响显影液使用周期（lift time）的重要因素。
目前，显影液在显影制程中的运转方式为：如图1所示，显影液供应源300将显影液输入互为备用关系的第一显影液循环槽210、第二显影液循环槽220内，当待显影的基板500到达显影机台100的显影室110内后，其内的喷淋头120将显影液喷到待显影的基板500上，其内的显影液再通过管路回流到第一或第二显影液循环槽210/220内，显影液在第一或第二显影液循环槽210/220和显影机台100内循环流动。然而，第一、第二显影液循环槽210、220和显影机台100并不是完全密闭的，均与外界的空气接触。显影液循环槽210、220的液位上方还有大量的空间，而显影机台100内喷淋显影液时也与空气完全接触，显影液的主要成分OH- 与空气中二氧化碳（CO2）发生反应，生成碳酸根离子（CO3 2-），使其内的使OH- 被大量消耗，从而导致显影液的使用周期缩短。
发明内容
本发明的目的在于提供一种显影液供应系统，通过将系统设置为密封状态，并通过氮气供应源向该系统内充入氮气，以对显影液进行氮气保护，隔绝空气与显影液的反应，使显影液的使用周期得以延长。
为实现上述目的，本发明提供了一种显影液供应系统，包括：
一显影机台，包括显影室、设于显影室内的数个喷淋头，所述显影室具有入口、及出口，所述显影室的入口、及出口上均设有密封门，通过关闭密封门可使得所述显影机台变成与显影液供应系统外部不相通的密闭状态，待显影的基板、及已显影的基板通过显影室的入口、及出口输入、输出；
互为备用关系的第一显影液循环槽、第二显影液循环槽，所述第一、第二显影液循环槽通过管道连接所述显影机台的数个喷淋头，用于向显影机台提供显影液，所述第一、第二显影液循环槽为与该显影液的供应系统外部不相通的密闭状态；
显影液供应源，通过管道向第一、第二显影液循环槽提供显影液；
氮气供应源，通过管道向第一显影液循环槽、第二显影液循环槽、及显影机台内充入氮气，从而对所述第一、第二显影液循环槽、及显影机台内的显影液进行氮气保护。
所述显影液的组分包括碳酸钾、表面活性剂、及溶剂。
所述显影液的组分还包括氢氧化钾。
显影液通过管路在第一显影液循环槽、第二显影液循环槽和显影机台内循环流动，当显影液在第一或第二显影液循环槽和显影机台内循环流动时，相应的第二或第一显影液循环槽处于备用状态，与显影机台之间的循环通路被截止。
所述第一、第二显影液循环槽和显影机台之间的连接管路上设有感应器件，当所述感应器件感测到连接管路中的显影液的电导率低于一定值时，切换显影液的循环通路，并相应的将第一、或第二显影液循环槽内的显影液排空，由显影液供应源向其输入新的显影液。
所述第一、第二显影液循环槽上设有废液排放管，所述废液排放管上设有废液控制阀，通过打开所述废液控制阀将第一、第二显影液循环槽内的显影液进行排空。
还包括传送装置，所述传送装置将待显影的基板传送至所述显影室内，将已显影的基板传出所述显影室外。
所述传送装置将待显影的基板传送至显影室后，氮气供应源通过管道向第一显影液循环槽、第二显影液循环槽、及显影机台内充入氮气，关闭密封门，使整个显影液的供应系统内充满氮气，开始对待显影的基板进行显影，显影完成后，打开密封门，所述传送装置将已显影的基板传出所述显影室外。
本发明的有益效果：本发明提供了一种显影液供应系统，包括一显影机台、互为备用关系的第一显影液循环槽和第二显影液循环槽、显影液供应源、及氮气供应源，其中，通过将第一、第二显影液循环槽及显影机台设置为与显影液供应系统外部隔绝的密闭状态，且使氮气供应源通过管道向第一、第二显影液循环槽及显影机台内充入氮气，能够使整个系统处于密封及氮气保护的状态，从而隔绝了空气对显影液中氢氧根离子的消耗，使显影液的使用周期得以延长。
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。
附图说明
下面结合附图，通过对本发明的具体实施方式详细描述，将使本发明的技术方案及其它有益效果显而易见。
附图中，
图1为现有的显影液供应系统的结构示意图；
图2为本发明的显影液供应系统的结构示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
请参阅图2，本发明首先提供一种显影液供应系统，包括：
一显影机台1，包括显影室11、设于显影室内11的数个喷淋头12，所述显影室11具有入口、及出口，所述显影室11的入口、及出口上均设有密封门13，通过关闭密封门13可使得所述显影机台1变成与显影液供应系统外部不相通的密闭状态，待显影的基板70、及已显影的基板通过显影室11的入口、及出口输入、输出；
互为备用关系的第一显影液循环槽21、第二显影液循环槽22，所述第一、第二显影液循环槽21、22通过管道连接所述显影机台1的数个喷淋头12，用于向显影机台1提供显影液，所述第一、第二显影液循环槽21、22为与显影液供应系统外部不相通的密闭状态；
显影液供应源30，通过管道向第一、第二显影液循环槽21、22提供显影液；
氮气供应源40，通过管道分别向第一显影液循环槽21、第二显影液循环槽22、及显影机台1内充入氮气，从而对所述第一、第二显影液循环槽21、22、及显影机台1内的显影液进行保护。
具体的，所述显影液的组分包括碳酸钾、表面活性剂、及溶剂，或者还包括氢氧化钾，即将现有显影液的主成分KOH变更成碳酸钾（K2CO3），或是KOH和K2CO3 的混合，那么显影液内的CO3 2-可以抑制空气中CO2 与显影液中的OH- 反应，从而从根本上减少显影液中OH- 的消耗。
具体的，第一显影液循环槽21、第二显影液循环槽22通过管道将其内显影液输入到显影机台1内的喷淋头12内，待显影的基板70到达显影室11时，喷淋头12将显影液喷到待显影的基板70上，其内的显影液再通过管路回流到第一显影液循环槽21、第二显影液循环槽22内，即显影液通过管路在第一显影液循环槽21、第二显影液循环槽22和显影机台1内循环流动，当显影液在第一或第二显影液循环槽21/22和显影机台1内循环流动时，相应的第二或第一显影液循环槽22/21处于备用状态，与显影机台1之间的循环通路被截止；互为备用关系的第一、第二显影液循环槽21、22提高了显影液使用率。
具体的，所述第一、第二显影液循环槽21、22和显影机台1之间的连接管路上设有感应器件，当所述感应器件感测到连接管路中的显影液的电导率低于一定值时，切换显影液的循环通路，并相应的将第一、或第二显影液循环槽21/22内的显影液排空，由显影液供应源30向其输入新的显影液。具体的，所述第一、第二显影液循环槽21、22上设有废液排放管，所述废液排放管上设有废液控制阀，通过打开所述废液控制阀将第一、第二显影液循环槽21、22内的显影液进行排空。
具体的，还包括传送装置50，所述传送装置50将待显影的基板70传送至所述显影室11内，将已显影的基板传出所述显影室11外。所述传送装置50将待显影的基板70传送至显影室11后，氮气供应源40通过管道向第一显影液循环槽21、第二显影液循环槽22、及显影机台1内充入氮气，关闭密封门13，使整个显影液的供应系统内充满氮气，开始对待显影的基板70进行显影，显影完成后，打开密封门13，所述传送装置50将已显影的基板传出所述显影室11外。
综上所述，本发明的显影液供应系统，包括一显影机台、互为备用关系的第一显影液循环槽和第二显影液循环槽、显影液供应源、及氮气供应源，其中，通过将第一、第二显影液循环槽及显影机台设置为与显影液供应系统外部隔绝的状态，且使氮气供应源通过管道向第一、第二显影液循环槽及显影机台内充入氮气，能够使整个系统处于密封及氮气保护的状态，从而隔绝了空气对显影液中氢氧根离子的消耗，使显影液的使用周期得以延长。
以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。

Claims (5)

1.一种显影液供应系统，其特征在于，包括：
一显影机台(1)，包括显影室(11)、设于显影室内(11)的数个喷淋头(12)，所述显影室(11)具有入口、及出口，所述显影室(11)的入口、及出口上均设有密封门(13)，通过关闭密封门(13)可使得所述显影机台(1)变成与显影液供应系统外部不相通的密闭状态，待显影的基板(70)、及已显影的基板通过显影室(11)的入口、及出口输入、输出；
互为备用关系的第一显影液循环槽(21)、第二显影液循环槽(22)，所述第一、第二显影液循环槽(21、22)通过管道连接所述显影机台(1)的数个喷淋头(12)，用于向显影机台(1)提供显影液，所述第一、第二显影液循环槽(21、22)为与显影液供应系统外部不相通的密闭状态；
显影液供应源(30)，通过管道向第一、第二显影液循环槽(21、22)提供显影液；
氮气供应源(40)，通过管道向第一显影液循环槽(21)、第二显影液循环槽(22)、及显影机台(1)内充入氮气，从而对所述第一、第二显影液循环槽(21、22)、及显影机台(1)内的显影液进行氮气保护；
显影液通过管路在第一显影液循环槽(21)、第二显影液循环槽(22)和显影机台(1)内循环流动，当显影液在第一或第二显影液循环槽(21、22)和显影机台(1)内循环流动时，相应的第二或第一显影液循环槽(22、21)处于备用状态，与显影机台(1)之间的循环通路被截止；
所述第一、第二显影液循环槽(21、22)和显影机台(1)之间的连接管路上设有感应器件，当所述感应器件感测到连接管路中的显影液的电导率低于一定值时，切换显影液的循环通路，并相应的将第一、或第二显影液循环槽(21/22)内的显影液排空，由显影液供应源(30)向其输入新的显影液；
所述显影液的组分包括碳酸钾、表面活性剂、及溶剂。
2.如权利要求1所述的显影液供应系统，其特征在于，所述显影液的组分还包括氢氧化钾。
3.如权利要求1所述的显影液供应系统，其特征在于，所述第一、第二显影液循环槽(21、22)上设有废液排放管，所述废液排放管上设有废液控制阀，通过打开所述废液控制阀将第一、第二显影液循环槽(21、22)内的显影液进行排空。
4.如权利要求1所述的显影液供应系统，其特征在于，还包括传送装置(50)，所述传送装置(50)将待显影的基板(70)传送至所述显影室(11)内，将已显影的基板传出所述显影室(11)外。
5.如权利要求4所述的显影液供应系统，其特征在于，所述传送装置(50)将待显影的基板(70)传送至显影室(11)后，氮气供应源(40)通过管道向第一显影液循环槽(21)、第二显影液循环槽(22)、及显影机台(1)内充入氮气，关闭密封门(13)，使整个显影液的供应系统内充满氮气，开始对待显影的基板(70)进行显影，显影完成后，打开密封门(13)，所述传送装置(50)将已显影的基板传出所述显影室(11)外。
CN201510891336.6A 2015-12-04 2015-12-04 显影液供应系统 Active CN105511237B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201510891336.6A CN105511237B (zh) 2015-12-04 2015-12-04 显影液供应系统

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201510891336.6A CN105511237B (zh) 2015-12-04 2015-12-04 显影液供应系统

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN105511237A CN105511237A (zh) 2016-04-20
CN105511237B true CN105511237B (zh) 2019-09-24

Family

ID=55719316

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201510891336.6A Active CN105511237B (zh) 2015-12-04 2015-12-04 显影液供应系统

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN105511237B (zh)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106802501B (zh) * 2017-03-20 2020-07-21 信利（惠州）智能显示有限公司 显影液循环管理方法
CN108732873B (zh) * 2017-04-14 2021-07-30 台湾积体电路制造股份有限公司 显影液供应系统及显影液填充方法
CN108037646A (zh) * 2017-12-28 2018-05-15 信利（惠州）智能显示有限公司 显影单元及刻蚀设备

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101329518A (zh) * 2008-07-11 2008-12-24 昆山维信诺显示技术有限公司 一种显影装置及其显影方法
CN101576720A (zh) * 2009-03-02 2009-11-11 南京华显高科有限公司 等离子平板显示器显影液中银的回收装置及其方法
CN101873765A (zh) * 2010-06-01 2010-10-27 深南电路有限公司 一种溶液自动添加系统
CN101907834A (zh) * 2009-06-03 2010-12-08 沈阳芯源微电子设备有限公司 真空显影机构

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7348300B2 (en) * 1999-05-04 2008-03-25 Air Products And Chemicals, Inc. Acetylenic diol ethylene oxide/propylene oxide adducts and processes for their manufacture
TWI310488B (en) * 2005-10-25 2009-06-01 Au Optronics Corp Developer constituent modifying method and developing system thereof

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101329518A (zh) * 2008-07-11 2008-12-24 昆山维信诺显示技术有限公司 一种显影装置及其显影方法
CN101576720A (zh) * 2009-03-02 2009-11-11 南京华显高科有限公司 等离子平板显示器显影液中银的回收装置及其方法
CN101907834A (zh) * 2009-06-03 2010-12-08 沈阳芯源微电子设备有限公司 真空显影机构
CN101873765A (zh) * 2010-06-01 2010-10-27 深南电路有限公司 一种溶液自动添加系统

Also Published As

Publication number Publication date
CN105511237A (zh) 2016-04-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105511237B (zh) 显影液供应系统
CN101594743B (zh) 用掩盖法制作电子线路板外层图形的方法
CN100462848C (zh) 浸没式光刻系统中的液体供给及回收的密封控制装置
CN104020902A (zh) 一种触摸屏及显示装置
CN108762820A (zh) 一种放映设备的控制系统和开关机管理系统
CN102497738B (zh) 一种应用外层半自动曝光机制作内层芯板的方法
CN103741161B (zh) 一种保持电解臭氧发生器性能及延长使用寿命的方法
CN102221768B (zh) 投影机对比度增强系统及其增强方法
CN110296255A (zh) 一种适用于全封电动阀的优先级控制装置及控制方法
US20060003238A1 (en) Photo development apparatus and method for fabricating a color filter substrate using the same
US12078937B1 (en) Near-field lithography immersion system, immersion unit and interface module thereof
CN106247623B (zh) 热水机及其控制方法
CN209265178U (zh) 显影装置
CN102636962A (zh) 一种空间成像套刻检验方法及阵列基板
CN207601491U (zh) 一种自动调整亮度的节能型智能投影机
CN208545159U (zh) 一种海洋核动力平台凝水精处理系统
TWI229785B (en) Developer and developer nozzle
US20240219841A1 (en) Immersion liquid supply system and immersion liquid flow field removal method therefor
CN207338326U (zh) 一种晶圆机台温控系统
CN201974630U (zh) 一种印制线路板的内层曝光用胶片
TWI576466B (zh) A method of maintaining the performance of the electrolytic ozone generator and prolonging the service life
US2178896A (en) Process of making photographs
CN207281466U (zh) 一种光刻机光源漏光监测系统
CN221917600U (zh) 一种发电机定子冷却水自动补水装置
CN110161811A (zh) 一种可循环再生的彩色显影液

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant