CN105483608A - 纯水压元件的qpq盐浴处理工艺 - Google Patents

纯水压元件的qpq盐浴处理工艺 Download PDF

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Abstract

本发明提供了一种纯水压元件的QPQ盐浴处理工艺。工艺步骤如下:1)清洗,在水基清洗剂的作用下,超声波清洗将工件表面的污垢剥离脱落;2)预热,在350-400℃的温度下,在空气炉中对工件加热10-20min;3)盐浴氮化,温度520~580℃,时间10~180min,氮化盐按质量计,配方组成为:尿素30-50%、Na2CO34-8%、K2CO36-10%、Li2CO35-10%、KCNO12-25%、NaCNO8-15%、NaCl5-8%、Na2S4-8%、K2S6-10%、LiOH2-5%;4)盐浴氧化,氧化盐按质量计,配方组成为:Na2CO330-40%、Na2NO320-30%、NaSO420-30%、NaNO220-30%;5)冷却,在空气下冷却,机械抛光;6)采用步骤3)的氧化盐,氧化完成后,浸油。

Description

纯水压元件的QPQ盐浴处理工艺
技术领域
本发明属于金属元件制造加工业技术领域,具体涉及一种纯水压元件的QPQ盐浴处理工艺。
背景技术
水压传动具有无污染、安全、清洁卫生、结构简单、效率高等突出优越性,符合清洁生产及可持续发展的要求。但是,水压技术需要解决诸如密封与润滑、磨损与腐蚀等关键问题。磨损、腐蚀和断裂是机械零件材料失效的三种主要形式,其中磨损失效是材料失效的主要原因。在水压元件中,磨损与腐蚀并存,且相互促进。
为了解决水压元件的磨损与腐蚀问题,目前,大多用耐蚀合金、工程陶瓷、高分子及其复合材料、以及表面工程材料等作为水压元件材料,为水压元件的生产与使用奠定了基础。但是,随着水压传动技术的不断发展,其应用范围越来越广泛,对水压元件材料提出了新的要求。例如,在水压冲击器中,冲击机构的工作条件比较复杂,不仅要求材料具有较好的耐磨性、抗蚀性,而且要求有较高的强度和韧性。
发明内容
为了解决纯水压元件的强度和韧性问题,本发明提供了一种纯水压元件的QPQ盐浴处理工艺。加工工艺简单,经复合处理的水压元件的耐磨性和防腐蚀性能均大幅度提高。
为了实现上述发明目的,本发明采用如下的技术方案:
纯水压元件的QPQ盐浴处理工艺,其特征在于:工艺步骤如下:
1)清洗
在水基清洗剂的作用下,超声波清洗将工件表面的污垢剥离脱落;
2)预热
在350-400℃的温度下,在空气炉中对工件加热10-20min;
3)盐浴氮化
温度400-450℃,时间120~180min,目的是形成氮化层和扩散层;
所述的氮化盐按质量计,配方组成为:尿素30-50%、Na2CO34-8%、K2CO36-10%、Li2CO35-10%、KCNO12-25%、NaCNO8-15%、NaCl5-8%、Na2S4-8%、K2S6-10%、LiOH2-5%;
优选地,所述的氮化盐按质量计,配方组成为:尿素30-40%、Na2CO34-5%、K2CO36-7%、Li2CO38-10%、KCNO15-20%、NaCNO8-10%、NaCl5-6%、Na2S4-5%、K2S6-8%、LiOH2-3%。
4)盐浴氧化
所述的氧化盐按质量计,配方组成为:Na2CO330-40%、Na2NO320-30%、NaSO420-30%、NaNO220-30%;
目的是形成氧化层。
优选地,所述的氧化盐按质量计,配方组成为:Na2CO330-35%、Na2NO325-30%、NaSO422-25%、NaNO220-23%。
5)冷却
在空气下冷却,机械抛光;
冷却使渗层均匀致密并增加扩散层深度;同时分解粘附在工件上的CN。
6)再氧化
采用步骤3)的氧化盐,氧化完成后浸油。
浸油的目的是密封渗层孔隙,以获得更佳的抗蚀能力。
在两个阶段中间增加一道抛光工序,去除表层较软的多孔性疏松层并使其表面光滑。
本发明所述的盐浴需要连续通入压缩空气,通气量为400~450L/h,使盐浴适度翻腾。
优选地,所述的盐要缓慢分批加入,一次性加入量过多会因反应剧烈而溢盐。
本发明所述的氧化是指在温度380-400℃下,于氧化盐的作用下氧化15-20min,彻底分解工件从渗氮炉带出来的氰根,消除公害;同时在工件表面形成黑色氧化膜,增加防腐能力,对提高耐磨性也有一定好处。
本发明所述的超声波清洗的振动频率范围在60~120kHz,功率密度设定在0.6-1W/C。
本发明的有益效果在于:
1、本发明采用新型氮化盐,不仅能在400-450℃的较低温度状态下保持一定的氮势,在较高的温度下稳定,还可有效提高处理层的厚度,提高工件的抗腐蚀性能。
2、纯水压工件经本发明的QPQ盐浴复合处理后在金属表面形成一层铁氮化合物和致密的铁氧化膜,经抛光并再次氧化后,使化合层更致密,氧渗入到化合物厚度的一半以上,并且延伸到更深的孔隙处,吸氧的化合物层进一步钝化,从而使金属表面有更高的耐蚀性和耐磨性。
3、本发明的氧化盐具有很强的氧化性,能彻底地清除氮化盐浴中带出来的氰根,环保无毒,同时在工件表面形成一层至密的四氧化三铁氧化膜,进一步增加了工作的耐蚀性和耐磨性。
具体实施方式
下面结合具体实施方式对本发明的实质性内容作进一步详细的描述。
实施例1
纯水压元件的QPQ盐浴处理工艺,工艺步骤如下:
1)清洗
在水基清洗剂的作用下,超声波清洗将工件表面的污垢剥离脱落;
2)预热
在350℃的温度下,在空气炉中对工件加热20min;
3)盐浴氮化
温度400℃,时间180min;
所述的氮化盐按质量计,配方组成为:尿素30%、Na2CO34%、K2CO36%、Li2CO35%、KCNO12%、NaCNO8%、NaCl5%、Na2S4%、K2S6%、LiOH2%。
4)盐浴氧化
所述的氧化盐按质量计,配方组成为:Na2CO330%、Na2NO320%、NaSO425%、NaNO225%;
5)冷却
在空气下冷却,机械抛光;
6)再氧化
采用步骤3)的氧化盐,氧化完成后,浸油。
实施例2
纯水压元件的QPQ盐浴处理工艺,工艺步骤如下:
1)清洗
在水基清洗剂的作用下,超声波清洗将工件表面的污垢剥离脱落;
2)预热
在400℃的温度下,在空气炉中对工件加热10min;
3)盐浴氮化
温度450℃,时间120min;
所述的氮化盐按质量计,配方组成为:尿素30%、Na2CO34%、K2CO36%、Li2CO38%、KCNO15%、NaCNO8%、NaCl5%、Na2S4%、K2S6%、LiOH2%;
4)盐浴氧化
所述的氧化盐按质量计,配方组成为:Na2CO330%、Na2NO330%、NaSO420%、NaNO220%;
5)冷却
在空气下冷却,机械抛光;
6)再氧化
采用步骤3)的氧化盐,氧化完成后,浸油。
实施例3
纯水压元件的QPQ盐浴处理工艺,工艺步骤如下:
1)清洗
在水基清洗剂的作用下,超声波清洗将工件表面的污垢剥离脱落;
2)预热
在360℃的温度下,在空气炉中对工件加热12min;
3)盐浴氮化
温度420℃,时间160min;
所述的氮化盐按质量计,配方组成为:尿素50%、Na2CO38%、K2CO310%、Li2CO310%、KCNO25%、NaCNO15%、NaCl8%、Na2S8%、K2S10%、LiOH5%。
4)盐浴氧化
所述的氧化盐按质量计,配方组成为:Na2CO335%、Na2NO320%、NaSO423%、NaNO222%。
5)冷却
在空气下冷却,机械抛光;
6)再氧化
采用步骤3)的氧化盐,氧化完成后,浸油。
实施例4
纯水压元件的QPQ盐浴处理工艺,工艺步骤如下:
1)清洗
在水基清洗剂的作用下,超声波清洗将工件表面的污垢剥离脱落;
2)预热
在380℃的温度下,在空气炉中对工件加热15min;
3)盐浴氮化
温度430℃,时间150min;
所述的氮化盐按质量计,配方组成为:素35%、Na2CO34.5%、K2CO36.5%、Li2CO39%、KCNO16%、NaCNO9%、NaCl5.5%、Na2S4.5%、K2S7%、LiOH2.5%;
4)盐浴氧化
所述的氧化盐按质量计,配方组成为:Na2CO333%、Na2NO328%、NaSO422%、NaNO220%。
5)冷却
在空气下冷却,机械抛光;
6)再氧化
采用步骤3)的氧化盐,氧化完成后,浸油。
实施例5
纯水压元件的QPQ盐浴处理工艺,工艺步骤如下:
1)清洗
在水基清洗剂的作用下,超声波清洗将工件表面的污垢剥离脱落;
2)预热
在380℃的温度下,在空气炉中对工件加热15min;
3)盐浴氮化
温度440℃,时间130min;
所述的氮化盐按质量计,配方组成为:尿素32%、Na2CO34.5%、K2CO36.5%、Li2CO39%、KCNO16%、NaCNO8%、NaCl5.5%、Na2S4%、K2S6%、LiOH2%。
4)盐浴氧化
所述的氧化盐按质量计,配方组成为:Na2CO330%、Na2NO325%、NaSO430%、NaNO223%。
5)冷却
在空气下冷却,机械抛光;
6)再氧化
采用步骤3)的氧化盐,氧化完成后,浸油。
实施例6
本实施例与实施例1基本相同,在此基础上:
所述的盐浴需要连续通入压缩空气,通气量为400L/h。
实施例7
本实施例与实施例2基本相同,在此基础上:
所述的盐浴需要连续通入压缩空气,通气量为410L/h。
所述的盐要缓慢分批加入。
所述的氧化是指在385℃,于氧化盐的作用下氧化18min。
实施例8
本实施例与实施例3基本相同,在此基础上:
所述的盐浴需要连续通入压缩空气,通气量为420L/h。
所述的盐要缓慢分批加入。
所述的氧化是指在390℃,于氧化盐的作用下氧化16min。
所述的超声波清洗的振动频率范围在80kHz,功率密度设定在0.6W/C。
实施例9
本实施例与实施例4基本相同,在此基础上:
所述的盐浴需要连续通入压缩空气,通气量为440L/h。
所述的盐要缓慢分批加入。
所述的氧化是指在400℃,于氧化盐的作用下氧化15min。
所述的超声波清洗的振动频率范围在120kHz,功率密度设定在0.5W/C。
实施例10
本实施例与实施例5基本相同,在此基础上:
所述的盐浴需要连续通入压缩空气,通气量为435L/h。
所述的盐要缓慢分批加入。
所述的氧化是指在380℃,于氧化盐的作用下氧化20min。
所述的超声波清洗的振动频率范围在60kHz,功率密度设定在1W/C。

Claims (7)

1.纯水压元件的QPQ盐浴处理工艺,其特征在于:工艺步骤如下:
1)清洗
在水基清洗剂的作用下,超声波清洗将工件表面的污垢剥离脱落;
2)预热
在350-400℃的温度下,在空气炉中对工件加热10-20min;
3)盐浴氮化
温度400-450℃,时间120~180min;
所述的氮化盐按质量计,配方组成为:尿素30-50%、Na2CO34-8%、K2CO36-10%、Li2CO35-10%、KCNO12-25%、NaCNO8-15%、NaCl5-8%、Na2S4-8%、K2S6-10%、LiOH2-5%;
4)盐浴氧化
所述的氧化盐按质量计,配方组成为:Na2CO330-40%、Na2NO320-30%、NaSO420-30%、NaNO220-30%;
5)冷却
在空气下冷却,机械抛光;
6)再氧化
采用步骤3)的氧化盐,氧化完成后,浸油。
2.根据权利要求1所述的纯水压元件的QPQ盐浴处理工艺,其特征在于:所述的氮化盐按质量计,配方组成为:尿素30-40%、Na2CO34-5%、K2CO36-7%、Li2CO38-10%、KCNO15-20%、NaCNO8-10%、NaCl5-6%、Na2S4-5%、K2S6-8%、LiOH2-3%。
3.根据权利要求1所述的纯水压元件的QPQ盐浴处理工艺,其特征在于:所述的氧化盐按质量计,配方组成为:Na2CO330-35%、Na2NO325-30%、NaSO422-25%、NaNO220-23%。
4.根据权利要求1所述的纯水压元件的QPQ盐浴处理工艺,其特征在于:所述的盐浴需要连续通入压缩空气,通气量为400~450L/h。
5.根据权利要求1所述的纯水压元件的QPQ盐浴处理工艺,其特征在于:所述的盐要缓慢分批加入。
6.根据权利要求1所述的纯水压元件的QPQ盐浴处理工艺,其特征在于:所述的氧化是指在380-400℃,于氧化盐的作用下氧化15-20min。
7.根据权利要求1所述的纯水压元件的QPQ盐浴处理工艺,其特征在于:所述的超声波清洗的振动频率范围在60~120kHz,功率密度设定在0.6-1W/C。
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