CN105445995B - 液晶显示面板及其制造方法 - Google Patents
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Abstract
液晶显示面板包括第一基板、像素阵列、拟像素阵列、第二基板、遮光层、框胶及液晶层。第一基板具有显示区、周边区及框胶区。像素阵列位于显示区中。拟像素阵列配置于框胶区与显示区之间且具有多个拟像素结构，每一拟像素结构包括第一及第二配向区域，且第一配向区域与第二配向区域具有不相同的配向方向。第二基板与第一基板相对设置。遮光层位于第一与第二基板间且具有多个开口。开口分别暴露出第一配向区域，而遮光层遮蔽第二配向区域。框胶位于第一与第二基板间且位于框胶区中。液晶层位于第一基板、第二基板与框胶间。
Description
技术领域
本发明是有关于一种显示面板及其制造方法，且特别是有关于一种液晶显示面板及其制造方法。
背景技术
随着液晶显示器不断地朝向大尺寸的显示规格发展，为了克服大尺寸显示下的视角问题，液晶显示面板的广视角技术也必须不停地进步与突破。目前，多域垂直配向式(Multi-domain Vertical Alignment，MVA)液晶显示面板以及聚合物稳定配向(Polymerstabilized alignment，PSA)液晶显示面板为现行常见的广视角技术，其中聚合物稳定配向液晶显示面板借由形成多种配向领域的配向方式，以改善多域垂直配向型液晶显示面板显示对比不佳的问题。然而，根据目前的技术无法直接量测到聚合物稳定配向液晶显示面板中液晶的预倾角，故为了确认最佳的固化条件，仍需要进行一系列繁复的实验及数据分析，不符合时间效益以及经济效益。
发明内容
本发明提供一种液晶显示面板及其制造方法，以解决无法直接量测液晶的预倾角的问题。
本发明的液晶显示面板包括第一基板、像素阵列、第一拟像素阵列、第二基板、遮光层、框胶以及液晶层。第一基板具有显示区、周边区以及位于显示区与周边区之间的框胶区。像素阵列配置于显示区中。第一拟像素阵列配置于框胶区与显示区之间，其中第一拟像素阵列具有多个第一拟像素结构，每一第一拟像素结构包括第一配向区域及第二配向区域，且第一配向区域的配向方向与第二配向区域的配向方向不相同，第一配向区域位于第二配向区域的一侧。第二基板与第一基板相对设置。遮光层配置于第一基板与第二基板之间，其中遮光层具有多个第一开口，第一开口分别暴露出第一拟像素结构中的第一配向区域，且遮光层遮蔽第一拟像素结构中的第二配向区域。框胶配置于第一基板与第二基板之间且位于框胶区中。液晶层配置于第一基板、第二基板与框胶之间。
其中，更包括一第二拟像素阵列，配置于该框胶区与该显示区之间，其中该第二拟像素阵列具有多个第二拟像素结构，每一拟像素结构包括一第三配向区域及一第四配向区域，该第三配向区域的配向方向与该第四配向区域的配向方向不相同，该第三配向区域位于该第四配向区域的一侧，且该第四配向区域的配向方向与该第一配向区域的配向方向不相同，以及该遮光层具有多个第二开口，该些第二开口分别对应该第二拟像素阵列中的该些第二拟像素结构中的该些第四配向区域。
其中，该第一拟像素阵列与该第二拟像素阵列所占区域的面积分别为2mm2至6mm2。
其中，更包括至少一聚合物层，配置于该第一基板与该第二基板之间，其中该聚合物层接触该液晶层，以使该液晶层的液晶分子在该第一配向区域与在该第二配向区域呈现不同的预倾角。
本发明的液晶显示面板的制造方法包括以下步骤。首先，提供如上所述的液晶显示面板，其中液晶层包括液晶分子及可聚合单体。接着，对液晶显示面板进行聚合物配向工艺，以使可聚合单体聚合而形成至少一聚合物层，其中聚合物层配置于第一基板与第二基板之间，且聚合物层接触液晶层，以使液晶分子在第一配向区域与在第二配向区域呈现不同的预倾角。之后，进行第一光学量测步骤，以通过第一开口量测在第一配向区域中的液晶分子的预倾角。
其中，对该液晶显示面板进行该聚合物配向工艺的方法包括：
对该像素阵列及该第一拟像素阵列提供一驱动信号；以及
在该驱动信号下，对该液晶显示面板进行一光照工艺或一加热工艺。
其中，该第一光学量测步骤包括：
提供一光束照射在该第一拟像素阵列上；以及
量测穿通过该些第一开口的该光束的光学特性。
其中，该液晶显示面板更包括一第二拟像素阵列，配置于该框胶区与该显示区之间，其中该第二拟像素阵列具有多个第二拟像素结构，每一拟像素结构包括一第三配向区域及一第四配向区域，该第三配向区域的配向方向与该第四配向区域的配向方向不相同，该第三配向区域位于该第四配向区域的一侧，且该第四配向区域的配向方向与该第一配向区域的配向方向不相同。
其中，该遮光层具有多个第二开口，该些第二开口分别对应该第二拟像素阵列中的该些第二拟像素结构中的该些第四配向区域。
其中，更包括进行第二光学量测步骤，以通过该些第二开口量测在该些第四配向区域中的该液晶分子的预倾角。
基于上述，在本发明的液晶显示装置中，在基板的框胶区与显示区之间配置有包括多个第一拟像素结构的第一拟像素阵列，且遮光层中具有第一开口，其中每一第一拟像素结构包括配向方向不相同的第一配向区域及第二配向区域，而第一开口暴露出第一配向区域，且遮光层遮蔽第二配向区域。如此一来，在对液晶显示面板进行聚合物配向工艺后，借由进行光学量测步骤即可量测出第一配向区域中的液晶分子的预倾角。
以下结合附图和具体实施例对本发明进行详细描述，但不作为对本发明的限定。
附图说明
图1是依照本发明一实施方式的液晶显示装置的制造流程图。
图2是依照本发明一实施方式的液晶显示装置的剖面示意图。
图3是图2的液晶显示装置的上视示意图。
图4是图2的遮光层的上视示意图。
图5是图2的拟像素结构与遮光层的上视示意图。
图6是图2的液晶显示装置进行聚合物配项工艺的剖面示意图。
图7是依照本发明另一实施方式的液晶显示装置的上视示意图。
图8是图7的遮光层的上视示意图。
图9是图7的拟像素结构与遮光层的上视示意图。
其中，附图标记：
100、200：液晶显示装置
110、120：基板
112：像素阵列
114、214：拟像素阵列
116、128：配向层
122：遮光层
123：外框遮光部
124：彩色滤光图案
125：格子状遮光
126：对向电极
130：框胶
140：液晶层
142：液晶分子
144：可聚合单体
150a、150b、150c、150d：配向区域
160、162：聚合物层
180：紫外光
A：显示区
B：周边区
C：框胶区
DL：数据线
DP、DP2：拟像素结构
DPE、DPE2：拟像素电极
DR1：数据线驱动电路
DR2：扫描线驱动电路
DT、DT2：拟主动元件
O、O2：开口
P：像素结构
PA：电压输入电路
PE：像素电极
SL：扫描线
S1、S2、S3、S4：配向狭缝
S10、S20、S30：步骤
T：主动元件
Vdc：驱动信号
Vs：固化电压信号
具体实施方式
图1是依照本发明一实施方式的液晶显示装置的制造流程图。图2是依照本发明一实施方式的液晶显示装置的剖面示意图。图3是图2的液晶显示装置的上视示意图。图4是图2的遮光层的上视示意图。图5是图2的拟像素结构与遮光层的上视示意图。图6是图2的液晶显示装置进行聚合物配向工艺的剖面示意图。其中，图1的剖面位置对应于图2的剖线I-I’的位置。以下，将参照图1至图6来详细描述本发明的液晶显示装置的制造方法。
请同时参照图1、图2及图3，进行步骤S10，提供液晶显示面板100。液晶显示面板100包括基板110、多条扫描线SL、多条数据线DL、像素阵列112、拟像素阵列114、配向层116、基板120、遮光层122、多个彩色滤光图案124、对向电极126、配向层128、框胶130、液晶层140、数据线驱动电路DR1、扫描线驱动电路DR2以及电压输入电路PA。在本实施方式中，液晶显示面板100属于聚合物稳定配向液晶显示面板。
基板110具有显示区A、周边区B以及位于显示区A与周边区B之间的框胶区C。详细而言，请参照图3，周边区B是环绕在显示区A的四周，而框胶区C是位于显示区A以及周边区B之间且同样环绕显示区A的四周。基板120与基板110相对设置。基板110与基板120的材质可为玻璃、石英或有机聚合物。
请参照图3，扫描线SL的延伸方向与数据线DL的延伸方向不平行，例如是扫描线SL的延伸方向与数据线DL的延伸方向垂直。基于导电性的考虑，扫描线SL与数据线DL一般是使用金属材料。然而，本发明不限于此。根据其它实施方式，扫描线SL与数据线DL也可以使用其它导电材料，例如合金、金属材料的氮化物、金属材料的氧化物、金属材料的氮氧化物、或是金属材料与其它导材料的堆栈层。
请同时参照图2及图3，像素阵列112配置于显示区A中。详细而言，像素阵列112包括多个像素结构P，且每一像素结构P包括主动元件T以及像素电极PE。主动元件T可以是底部栅极型薄膜晶体管或是顶部栅极型薄膜晶体管。主动元件T与对应的一条扫描线SL及对应的一条数据线DL电性连接。像素电极PE与主动元件T电性连接，且像素电极PE的材质包括透明导电物质，例如是铟锡氧化物(Indium Tin Oxide，ITO)、铟锌氧化物(Indium ZincOxide，IZO)、镉锡氧化物、铝锌氧化物、铝锡氧化物或氧化鋡。另外，在本实施方式中，像素结构P可以是所属领域中具有通常知识者所周知的任一适用于聚合物稳定配向液晶显示面板中的像素结构。
虽然图3中绘示了21个像素结构P，但本发明并不限于此。在其它实施方式中，应用本实施方式者也可依其设计需求而调整像素阵列中的像素结构的数目。
请同时参照图2及图3，拟像素阵列114配置于框胶区C与显示区A之间。在本实施方式中，拟像素阵列114所占区域的面积为2至6mm2，较佳为4mm2。详细而言，拟像素阵列114具有多个拟像素结构DP，且每一拟像素结构DP包括拟主动元件DT以及拟像素电极DPE。拟主动元件DT可以是底部栅极型薄膜晶体管或是顶部栅极型薄膜晶体管。拟主动元件DT与对应的一条扫描线SL及对应的一条数据线DL电性连接。拟像素电极DPE与拟主动元件DT电性连接，且拟像素电极DPE的材质包括透明导电物质，例如是铟锡氧化物、铟锌氧化物、镉锡氧化物、铝锌氧化物、铝锡氧化物或氧化鋡。进一步而言，在本实施方式中，拟主动元件DT与主动元件T具有相同的构型，以及拟像素电极DPE与像素电极PE具有相同的构型。换言的，拟像素结构DP可具有所属领域中具有通常知识者所周知的任一适用于聚合物稳定配向液晶显示面板中的像素结构的构型。以下，将同时参照图5详细描述拟像素结构DP。另外，虽然未详细绘示，但在本实施方式中，像素结构P同样具有如图5所示的构型。然而，像素结构P及拟像素结构DP并不以图5中所绘者为限，如上所述，像素结构P及拟像素结构DP可具有所属领域中具有通常知识者所周知的任一适用于聚合物稳定配向液晶显示面板中的像素结构的构型。
拟像素电极DPE区分为四个配向区域150a～150d。详细而言，在配向区域150a～150d内，拟像素电极DPE分别具有一组彼此配向方向相同的配向狭缝S1～S4。而从另一观点而言，配向狭缝S1～S4的配向方向彼此之间都不相同。也就是说，在本实施方式中，配向区域150a的配向方向、配向区域150b的配向方向、配向区域150c的配向方向与配向区域150d的配向方向都不相同。
另外，虽然图3中绘示了三个拟像素结构DP，但本发明并不限于此。在其它实施方式中，应用本实施方式者亦可依其设计需求而调整拟像素阵列中的拟像素结构的数目。
请同时参照图2、图3及图4，遮光层122配置于基板120上。详细而言，遮光层122包括外框遮光部123以及格子状遮光部125，其中在空间上，外框遮光部123与基板110的显示区A以外的区域相重迭，而格子状遮光部125与扫描线SL及数据线DL相重迭。更详细而言，请同时参照图3、图4及图5，遮光层122的外框遮光部123具有多个开口O，其中开口O分别暴露出拟像素结构DP中的配向区域150a。如此一来，在本实施方式中，每一拟像素结构DP中仅有配向区域150a会借由开口O而暴露出，配向区域150b～150d都会被遮光层122的外框遮光部123所遮蔽。
此外，遮光层122的材质例如是黑色树脂或是遮光金属，且较佳是由低反射的材料构成。在本实施方式，遮光层122的材质为具有绝缘特性的黑色树脂。然而，本发明并不限于此。倘若遮光层122的材质为遮光金属，则遮光层122与对向电极126之间更包括形成有一绝缘层。另外，在本实施方式中，虽遮光层122配置于基板120上，但本发明并不限于此，在其它实施方式中，遮光层122也可以配置于基板110上。
多个彩色滤光图案124配置于基板120上且对应像素结构P设置。彩色滤光图案124包括红色滤光图案、绿色滤光图案及蓝色滤光图案。另外，在本实施方式中，通过设置彩色滤光图案124，使得液晶显示面板100能够呈现多彩化的显示效果。然而，本发明并不限于此。在其它实施方式中，本发明也可依据实际状况选择不设置彩色滤光图案124，或彩色滤光图案124配置在基板110上。
对向电极126配置于基板120上。对向电极126的材质包括透明导电物质，例如是铟锡氧化物、铟锌氧化物、镉锡氧化物、铝锌氧化物、铝锡氧化物或氧化鋡。
配向层116及配向层128分别地配置于基板110与基板120上。配向层116及配向层128分别可以是所属领域中具有通常知识者所周知的任一适用于聚合物稳定配向液晶显示面板中的配向层。另外，在本实施方式中，通过基板110与基板120上分别配置了配向层116及配向层128，使得进一步提高了液晶显示面板100的配向效果。然而，本发明并不限于此。在其它实施方式中，本发明也可依据实际状况选择不设置配向层，或是仅在基板110与基板120中的一者上设置配向层。
请同时参照图2及图3，框胶130配置于基板110与基板120之间且位于该框胶区C中。详细而言，基板110与基板120通过框胶130接合。在本实施方式中，框胶130例如是导电框胶，其是由绝缘胶材与导电粒子(如金粒子)所构成，其中绝缘胶材例如是由紫外光硬化胶材所组成。
液晶层140配置于基板110、基板120与框胶130之间。详细而言，液晶层140包括液晶分子142及可聚合单体144，其中可聚合单体144例如是光可聚合单体或热可聚合单体。另外，如上所述，由于像素结构P以及拟像素结构DP分别包括具有配向方向彼此不相同的四组配向狭缝S1～S4的像素电极PE以及拟像素电极DPE，故当液晶分子142被驱动时，位于像素结构P以及拟像素结构DP所在区域中的液晶分子142实质上会沿着配向狭缝S1～S4的配向方向排列。也就是说，在本实施方式中，位于像素结构P以及拟像素结构DP所在区域中的液晶分子142的排列方向会呈现出四个不同方向，借此达到广视角的显示效果。
数据线驱动电路DR1位于周边区B内，并且与数据线DL、像素阵列112及拟像素阵列114电性连接。详细而言，数据线驱动电路DR1通过数据线DL提供像素结构P及拟像素结构DP对应的数据线信号。也就是说，在本实施方式中，像素结构P及拟像素结构DP能够接受到相同的数据线信号。另外，数据线驱动电路DR1可选择性地压合于或者是整合于周边区B。
扫描线驱动电路DR2位于周边区B内，并且与扫描线SL、像素阵列112及拟像素阵列114电性连接。详细而言，扫描线驱动电路DR2通过扫描线SL提供像素结构P及拟像素结构DP对应的扫描线信号。也就是说，在本实施方式中，像素结构P及拟像素结构DP能够接受到相同的扫描线信号。另外，扫描线驱动电路DR2可选择性地压合于或者是整合于周边区B。
电压输入电路PA位于周边区B内且与数据线驱动电路DR1以及扫描线驱动电路DR2电性连接。如此一来，当于电压输入电路PA输入电压信号之后，所述电压信号可通过数据线驱动电路DR1而传递到数据线DL，以及通过扫描线驱动电路DR2而传递到扫描线SL。
接着，请同时参照图1及图6，进行步骤S20，对液晶显示面板100进行聚合物配向工艺。以下，将同时参照图3、图5及图6，详细说明聚合物配向工艺的操作方法。
首先，通过电压输入电路PA、数据线驱动电路DR1以及扫描线驱动电路DR2对像素阵列112及拟像素阵列114提供驱动信号Vdc。详细而言，在本实施方式中，对电压输入电路PA施予直流电压后，所述直流电压会通过数据线驱动电路DR1以及扫描线驱动电路DR2而传递至数据线DL以及扫描线SL，借此使得像素阵列112及拟像素阵列114能够接收到相同的驱动信号Vdc。从另一观点而言，在本实施方式中，驱动信号Vdc包括数据线信号及扫瞄线信号。然而，本发明并不限于此。在其它实施方式中，驱动信号Vdc也可更包括共通电压信号。
更详细而言，在对电压输入电路PA施予直流电压的同时，于对向电极126上施予固化电压(curing voltage)信号Vs，其中固化电压信号Vs例如是阶梯波峰信号。此时，在液晶显示面板100中，位于对向电极126与像素阵列112及拟像素阵列114之间的液晶分子142受到上述电压信号(即驱动信号Vdc及固化电压信号Vs)驱动后而发生预倾。
除此之外，如前文所述，在液晶显示面板100中，基板110与基板120上分别设置有配向层116及配向层128，且像素结构P及拟像素结构DP内分别包括配向方向彼此不相同的配向区域150b～150d，借此当液晶分子142受上述电压信号(即驱动信号Vdc及固化电压信号Vs)驱动时，位于配向区域150b～150d内的液晶分子142彼此之间不但会沿不同的配向方向排列还呈现出不同的预倾角。
接着，待液晶分子142稳定排列后，利用紫外光180照射液晶显示面板100(即进行照光工艺)，以使得液晶层140中的可聚合单体144聚合而形成聚合物层160、162，进而完成聚合物配向工艺。详细而言，聚合物层160、162分别配置于基板110及基板120上，且接触液晶层140。除此之外，照光工艺是在仍持续对电压输入电路PA施予直流电压以及于对向电极126上施予固化电压信号Vs的情况下进行，借此使得可聚合单体144进行聚合时，液晶分子142是呈现预倾状态。如此一来，由可聚合单体144所形成的聚合物层160、162可对预倾的液晶分子142产生稳定配向的作用，进而使得在停止对电压输入电路PA施予直流电压以及停止在对向电极126上施予固化电压信号Vs后，液晶分子142仍可维持预倾状态。另外，在本实施方式中，可聚合单体144是通过照光工艺而进行聚合，但本发明并不限于此。在其它实施方式中，可聚合单体144也可以是通过加热工艺而进行聚合。
在完成聚合物配向工艺之后，即可停止紫外光180的照射以及停止对电压输入电路PA施予直流电压以及停止在对向电极126上施予固化电压信号Vs。
之后，请同时参照图1、图4及图5，进行步骤S30，对液晶显示面板100进行光学量测步骤，以通过开口O量测在配向区域150a中的液晶分子142的预倾角。详细而言，对液晶显示面板100进行光学量测步骤包括以下步骤。首先，通过使用一光学机台来提供一光束照射在拟像素阵列114上，其中由于外框遮光部123中的开口O暴露出拟像素阵列114的拟像素结构DP中的配向区域150a，故所述光束会穿通过开口O而照射到拟像素结构DP中的配向区域150a。更详细而言，如前文所述，由于每一拟像素结构DP中仅有配向区域150a会借由开口O而暴露出，故该光束仅会穿透外框遮光部123中的开口O而照射到拟像素结构DP中的具有相同的配向方向的配向区域150a。接着，通过使用所述光学机台来量测穿通过开口O的所述光束的光学特性，以测得由开口O所暴露出的配向区域150a中的液晶分子142的预倾角。具体而言，在一实施方式中，光学机台例如是光学材料量测设备RETs(型号：RT4200，厂商：大冢电子股份有限公司(OTSUKA ELECTRONICS CO.,LTD.))，其装设有卤素灯泡以提供照射至拟像素结构DP的光束，且通过光束经过拟像素结构DP的配向区域150a中的液晶分子142而产生的相位延迟(phase retardation)变化来求得所述液晶分子142的预倾角。
如前文所述，由于像素阵列112中的像素结构P及拟像素阵列114中的拟像素电极DPE具有相同的构型，且像素阵列112及拟像素阵列114会接收到相同的驱动信号Vdc，故所求得的拟像素结构DP的配向区域150a中的液晶分子142的预倾角同样也是像素结构P的配向区域150a中的液晶分子142的预倾角。
另外，在前述实施方式中，通过完成步骤S10至S30后，将可得到利用聚合物配向工艺的液晶显示装置100，并量测到在配向区域150a中的液晶分子142的预倾角。然而，本发明并不限于此。在其它实施方式中，在液晶显示面板中，通过设置多组不相同的拟像素阵列，以及通过于外框遮光部中设置与该些拟像素阵列相对应的开口，亦可以分别量测到在不相同的配向区域中的液晶分子的预倾角。以下，将参照图7至图9来详细说明。
图7是依照本发明另一实施方式的液晶显示装置的上视示意图。图8是图7的遮光层的上视示意图。图9是图7的第二拟像素结构与遮光层的上视示意图。另外，请同时参照图7至图9以及图3至图5，图7至图9的实施方式与图3至图5的实施方式相似，因此相同或相似的元件以相同或相似的符号表示，且不再重复说明。
由图3至图5以及图7至图9可知，液晶显示装置100与液晶显示装置200不相同的处主要在于：液晶显示装置200更包括在框胶区C与显示区A之间设置拟像素阵列214，以及遮光层122的外框遮光部123中更具有对应拟像素阵列214的多个开口O2。
详细而言，请同时参照图7及图9，在本实施方式中，拟像素阵列214具有多个拟像素结构DP2，每一拟像素结构DP2包括拟主动元件DT2以及与拟主动元件DT2电性连接的拟像素电极DPE2，且拟主动元件DT2以及拟像素电极DPE2分别具有与拟主动元件DT以及拟像素电极DPE相同的构型。也就是说，拟主动元件DT2可以是底部栅极型薄膜晶体管或是顶部栅极型薄膜晶体管，拟主动元件DT2与对应的一条扫描线SL及对应的一条数据线DL电性连接，拟像素电极DPE2同样区分为四个配向区域150a～150d，且配向区域150a～150d的配向方向彼此之间不相同。具体而言，在本实施方式中，拟像素阵列214所占区域的面积为2至6mm2，较佳为4mm2。
另外，虽然图7中绘示了三个拟像素结构DP2，但本发明并不限于此。在其它实施方式中，应用本实施方式者亦可依其设计需求而调整拟像素阵列中的拟像素结构的数目。
另外，请同时参照图8及图9，在本实施方式中，外框遮光部123中的开口O2分别暴露出拟像素结构DP2中的配向区域150b。也就是说，每一拟像素结构DP2中仅有配向区域150b会借由开口O2而暴露出，配向区域150a、150c～150d都会被外框遮光部123所遮蔽。
通过设置拟像素阵列114及拟像素阵列214，以及通过于外框遮光部123中设置开口O及开口O2以分别暴露出拟像素阵列114中的配向区域150a及拟像素阵列214中的配向区域150b，当对液晶显示面板200进行聚合物配向工艺后，借由分别针对拟像素阵列114及拟像素阵列214进行两次光学量测步骤，即可分别量测出配向区域150a及配向区域150b中的液晶分子142的预倾角。也就是说，配向区域150a中的液晶分子142的预倾角及配向区域150b中的液晶分子142的预倾角是分开量测的。详细而言，当要量测配向区域150a中的液晶分子142的预倾角时，光学机台所提供的光束仅照射在拟像素阵列114上；而当要量测配向区域150b中的液晶分子142的预倾角时，光学机台所提供的光束仅照射在拟像素阵列214上。另外，聚合物配向工艺及光学量测步骤的操作步骤已于前述实施方式中进行详尽地说明，故于此不再赘述。
另外，在图7至图9的实施方式中，虽然液晶显示装置200仅设置两组拟像素阵列(即拟像素阵列114及拟像素阵列214)以及两组开口(即开口O及开口O2)，但本发明并不限于此。领域中具有通常知识者根据前文应理解，为了要量测配向区域150c及配向区域150d中的液晶分子142的预倾角，可以在框胶区C与显示区A之间更设置不同于拟像素阵列114及拟像素阵列214的两组拟像素阵列，以及在遮光层122的外框遮光部123中更设置不同于开口O及开口O2的两组开口。而且开口O所暴露的拟像素阵列114中的配向区域150a以及开口O2所暴露的拟像素阵列214中的配向区域150b相较的下，配向区域150a与配向区域150b具有相异的配向，因此，可以通过分别量测开口O以及开口O2知道显示面板两种不同的配向方向的配向情形，而且开口O以及开口O2具有足够的距离，避免光学仪器在量测时，其测量光线同时穿过两个开口。
在液晶显示装置中，在基板的框胶区与显示区之间配置有包括多个拟像素结构的拟像素阵列，且遮光层中具有开口，其中每一拟像素结构包括配向方向不相同的多个配向区域，而开口大至上仅暴露出其中的一个配向区域。如此一来，在对液晶显示面板进行聚合物配向工艺后，借由进行光学量测步骤即可量测出所述配向区域中的液晶分子的预倾角。
当然，本发明还可有其它多种实施例，在不背离本发明精神及其实质的情况下，熟悉本领域的技术人员可根据本发明作出各种相应的改变和变形，但这些相应的改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。
Claims (10)
1.一种液晶显示面板，其特征在于，包括：
一第一基板，具有一显示区、一周边区以及位于该显示区与该周边区之间的一框胶区；
一像素阵列，配置于该显示区中；
一第一拟像素阵列，配置于该框胶区与该显示区之间，其中该第一拟像素阵列具有多个第一拟像素结构，每一第一拟像素结构包括一第一配向区域、一第二配向区域、一第三配向区域及一第四配向区域，且该第一拟像素结构的该第一配向区域的配向方向、该第二配向区域的配向方向、该第三配向区域的配向方向与该第四配向区域的配向方向都不相同，该第一配向区域位于该第二配向区域的一侧；
一第二基板，与该第一基板相对设置；
一遮光层，配置于该第一基板与该第二基板之间，其中该遮光层具有多个第一开口，该些第一开口分别暴露出该些第一拟像素结构中的该些第一配向区域，且该遮光层遮蔽该些第一拟像素结构中的该些第二配向区域、该些第三配向区域及该些第四配向区域；
一框胶，配置于该第一基板与该第二基板之间且位于该框胶区中；以及
一液晶层，配置于该第一基板、该第二基板与该框胶之间。
2.根据权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，更包括一第二拟像素阵列，配置于该框胶区与该显示区之间，其中该第二拟像素阵列具有多个第二拟像素结构，每一第二拟像素结构包括一第一配向区域、一第二配向区域、一第三配向区域及一第四配向区域，且该第二拟像素结构的该第一配向区域的配向方向、该第二配向区域的配向方向、该第三配向区域的配向方向与该第四配向区域的配向方向都不相同，以及该遮光层具有多个第二开口，该些第二开口分别对应该第二拟像素阵列中的该些第二拟像素结构中的该些第二配向区域。
3.根据权利要求2所述的液晶显示面板，其特征在于，该第一拟像素阵列与该第二拟像素阵列所占区域的面积分别为2mm2至6mm2。
4.根据权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，更包括至少一聚合物层，配置于该第一基板与该第二基板之间，其中该聚合物层接触该液晶层，以使该液晶层的液晶分子在该些第一拟像素结构的该第一配向区域与在该第二配向区域呈现不同的预倾角。
5.一种液晶显示面板的制造方法，其特征在于，包括：
提供一液晶显示面板，该液晶显示面板包括：
一第一基板，具有一显示区、一周边区以及位于该显示区与该周边区之间的一框胶区；
一像素阵列，配置于该显示区中；
一第一拟像素阵列，配置于该框胶区与该显示区之间，其中该第一拟像素阵列具有多个第一拟像素结构，每一第一拟像素结构包括一第一配向区域、一第二配向区域、一第三配向区域及一第四配向区域，且该第一拟像素结构的该第一配向区域的配向方向、该第二配向区域的配向方向、该第三配向区域的配向方向与该第四配向区域的配向方向都不相同，该第一配向区域位于该第二配向区域的一侧；
一第二基板，与该第一基板相对设置；
一遮光层，配置于该第一基板与该第二基板之间，其中该遮光层具有多个第一开口，该些第一开口分别暴露出该些第一拟像素结构中的该些第一配向区域，且该遮光层遮蔽该些第一拟像素结构中的该些第二配向区域、该些第三配向区域及该些第四配向区域；
一框胶，配置该第一基板与该第二基板之间且位于该框胶区中；以及
一液晶层，配置于该第一基板、该第二基板与该框胶之间，其中该液晶层包括一液晶分子及一可聚合单体；
对该液晶显示面板进行一聚合物配向工艺，以使该可聚合单体聚合而形成至少一聚合物层，其中该聚合物层配置于该第一基板与该第二基板之间，且该聚合物层接触该液晶层，以使该液晶分子在各该第一拟像素结构的该第一配向区域与在该第二配向区域呈现不同的预倾角；以及
进行一第一光学量测步骤，以通过该些第一开口量测在该些第一拟像素结构的该些第一配向区域中的该液晶分子的预倾角。
6.根据权利要求5所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，对该液晶显示面板进行该聚合物配向工艺的方法包括：
对该像素阵列及该第一拟像素阵列提供一驱动信号；以及
在该驱动信号下，对该液晶显示面板进行一光照工艺或一加热工艺。
7.根据权利要求5或6所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，该第一光学量测步骤包括：
提供一光束照射在该些第一拟像素阵列上；以及
量测穿通过该些第一开口的该光束的光学特性。
8.根据权利要求5或6所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，该液晶显示面板更包括一第二拟像素阵列，配置于该框胶区与该显示区之间，其中该第二拟像素阵列具有多个第二拟像素结构，每一该第二拟像素结构包括一第一配向区域、一第二配向区域、一第三配向区域及一第四配向区域，且该第二拟像素结构的该第一配向区域的配向方向、该第二配向区域的配向方向、该第三配向区域的配向方向与该第四配向区域的配向方向都不相同。
9.根据权利要求8所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，该遮光层具有多个第二开口，该些第二开口分别对应该第二拟像素阵列中的该些第二拟像素结构中的该些第二配向区域。
10.根据权利要求9所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，更包括进行第二光学量测步骤，以通过该些第二开口量测在该些第二配向区域中的该液晶分子的预倾角。
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