CN105401125A - 用于有机电激光显示的基板的蒸镀方法和蒸镀装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提出了一种用于有机电激光显示的基板的蒸镀方法和蒸镀装置。该蒸镀方法包括以下步骤：步骤一，调整用于支撑基板的支撑组件与坩埚平台之间的距离，步骤二，调整设置在所述坩埚平台上的所述坩埚的开口方向，步骤三，将需要蒸镀的基板设置在支撑组件上，并使设置在所述坩埚内的蒸镀源挥发附着在所述基板的表面上。该蒸镀方法和该蒸镀装置有助于提高OLED装置的发光效率。

Description

用于有机电激光显示的基板的蒸镀方法和蒸镀装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其是涉及一种用于有机电激光显示的基板的蒸镀方法和蒸镀装置。
背景技术
近几年来，有机电激光显示(OrganicLight-EmittingDiode，OLED)作为新一代的固态自发光显示技术取得了突飞猛进的发展。相比较于液晶显示装置，有机电激光显示装置具有超薄、响应度高、对比度高、功耗低等优势。目前，在生产OLED装置过程中，常采用蒸镀法制成有机电激光显示基板。也就是，在真空腔体内加热有机小分子材料，使其升华或者熔融气化成材料蒸汽，透过金属光罩的开孔沉积在玻璃基板上。
OLED基板在制作的过程中，不同材料相互掺杂已经在OLED制成中广泛采用。掺杂的各材料的均匀性直接影响OLED装置的发光效率、亮度等显示指标。
在现有技术中，在生产OLED基板过程中，常常使不同的蒸镀源临近以提高掺杂的均匀性。例如，如图5所示，蒸镀装置50包括坩埚平台53和设置在坩埚平台53上的坩埚52。在蒸镀进行过程中，两个坩埚52临近以在基板51上形成混合膜层54。虽然这种方式能在一定程度上提高各蒸镀材料之间掺杂的均匀性，但是这种生产方式容易使得形成在玻璃基板上的膜层厚度均匀性下降，也就是沉积在玻璃基板上的膜层各处厚薄差异较大。从而，通过这种方式生产OLED装置，发光效率和亮度提高等受限。
由此，需要提供一种用于有机电激光显示的基板的蒸镀方法和蒸镀装置以提高OLED装置的发光效果。
发明内容
针对现有技术中所存在的上述技术问题，本发明提出了一种用于有机电激光显示的基板的蒸镀方法和蒸镀装置。该用于有机电激光显示的基板的蒸镀方法能能使得形成在基板上的膜层更均匀，从而增加具有这种基板的有机电激光显示装置的发光效果。同时，该蒸镀装置结构简单，有助于实现形成在基板上的膜层的均匀性。
根据本发明的一方面，提出了一种用于有机电激光显示的基板的蒸镀方法，包括以下步骤：
步骤一，调整蒸镀装置的用于支撑基板的支撑组件与坩埚平台之间的距离，
步骤二，调整设置在坩埚平台上的坩埚的开口方向，
步骤三，将需要蒸镀的基板设置在支撑组件上，并使设置在坩埚内的蒸镀源挥发附着在基板的表面上。
在一个实施例中，在步骤一中，选择蒸镀源使其挥发以在相对应的第一测试基板上形成单膜层，在第一测试基板上选取不同的第一测试点以得到各第一测试点处的单膜层厚值，计算各第一测试基板上的第一测试点的单膜层厚值中的最大值和最小值的差与最大值和最小值的和的比以得到试验单膜层厚均匀参数，通过比较试验单膜层厚均匀参数与规范单膜层厚均匀参数的大小以调整支撑组件与坩埚平台之间的距离。
在一个实施例中，规范单膜层厚均匀参数为1-3％，当试验单膜层厚均匀参数小于1％时，减小支撑组件与坩埚平台之间的距离，当试验单膜层厚均匀参数大于3％时，增加支撑组件与坩埚平台之间的距离。
在一个实施例中，在第一测试基板上选择12-24个第一测试点。
在一个实施例中，当第一测试基板为方形时，第一测试点均匀分布在对角线上。
在一个实施例中，在步骤二中，粗调整各坩埚的开口方向，以使各坩埚内的蒸镀源发出均斜向向外或者使各坩埚内的蒸镀源发出均斜向向内。
在一个实施例中，坩埚内的蒸镀源发出所在直线与坩埚平台所在平面形成的夹角为10-80度。
在一个实施例中，在步骤二中，使各蒸镀源挥发以在第二测试基板上形成混合膜层，在第二测试基板上选取不同的第二测试点以得到各第二测试点的混合膜层厚值，计算混合膜层厚值中的最大值和最小值的差与最大值和最小值的平均值的比以得到试验混合膜层厚均匀参数，当试验混合膜层厚均匀参数小于规范混合膜层厚均匀参数时，固定各坩埚的开口方向。
根据本发明的另一方面，提出一种为实施蒸镀方法的蒸镀装置，包括：
用于支撑基板的支撑组件，
设置在支撑组件下方的坩埚平台，坩埚平台上设置有坩埚，
设置在坩埚内的蒸镀源，
用于驱动坩埚旋转的驱动组件，驱动组件包括与坩埚固定连接的驱动轴和与驱动轴连接的驱动源。
在一个实施例中，在传动轴与坩埚之间设置隔热件。
与现有技术相比，本发明的优点在于，通过调整用于支撑基板的支撑组件与坩埚平台之间的距离能够保证形成在基板上的膜层的均匀性，从而提高相应的OLED装置的显示效果。同时，通过调整坩埚的开口方向，能保证各蒸镀源内的有机材料在基板上掺杂的均匀性，从而增强了OLED装置的发光效果。另外，该蒸镀方法简单，易于实现。
附图说明
下面将结合附图来对本发明的优选实施例进行详细地描述，在图中：
图1显示了根据本发明的蒸镀方法的流程图；
图2显示了根据本发明的实施例的蒸镀装置的示意图；
图3显示了第一测试点在第一测试基板上的分布图；
图4显示了根据本发明的蒸镀装置的一种工作状态示意图；
图5显示了根据本发明的蒸镀装置的另一种工作状态示意图；
图6显示了现有技术中的蒸镀装置工作状态示意图；
在附图中，相同的部件使用相同的附图标记，附图并未按照实际的比例绘制。
具体实施方式
下面将结合附图对本发明做进一步说明。
图2显示了根据本发明的第一实施例的蒸镀装置100的示意图。如图2所示，蒸镀装置100包括支撑组件1、坩埚平台2、设置在坩埚平台2上的坩埚3以及驱动组件4。其中，支撑组件1用于在蒸镀过程中支撑基板5。坩埚平台2设置在支撑组件1的下方，以用于放置坩埚3。坩埚3用于盛放蒸镀源6。蒸镀源6为能够沉积在基板5上的有机分子材料，在对坩埚3进行加热后，蒸镀源6能够挥发以在基板5向生成膜层。驱动组件4用于驱动坩埚3运动，以调整蒸镀在基板5上的膜层厚度。并且，驱动组件4包括驱动源7和驱动轴8。驱动轴8的一端与驱动源7连接，以在驱动源7带动下运动，而驱动轴8的另一端与坩埚3连接，以调整坩埚3的开口方向。
由此，通过该蒸镀装置100能实现坩埚3的开口方向的可调性，从而有助于提高沉积在基板5上的膜层的掺杂均匀性，以保证具有通过该蒸镀装置100生产出的基板2的OLED装置的发光效率。
为了保证蒸镀装置100的安全运行，在传动轴8与坩埚3之间设置隔热件9。优选地，隔热件9可以为微纳隔热板。通过设置隔热件9，避免了坩埚3内的过多的热量向传动轴8上传递而影响蒸镀源6的蒸镀温度。同时，通过设置隔热件9，避免了传动轴8得到更多的热量，以影响传动轴8正常工作。
需要说明地是，蒸镀装置100还包括一些其它的结构和部件，而这些结构和部件是本领域技术人员熟知的，在此略去详细描述。
在图1中，显示了利用蒸镀装置100对基板5进行蒸镀的方法。则下面结合图1-4详细论述用于有机电激光显示的基板5的蒸镀方法。
如图1所示，首先，进行S01，也就是进行步骤一。在步骤一中，调整支撑组件1与坩埚平台2之间的距离，以保证各蒸镀源6内的有机分子材料沉积在基板5上的膜层的均匀性。接着，进行S02，也就是进行步骤二，调整设置在坩埚平台2上的坩埚3的开口方向，以调整不同的有机分子材料沉积在基板5上掺杂的均匀性。最后，进行S03，也就是进行步骤三，将需要蒸镀的基板5设置在支撑组件1上，并使设置在坩埚3内的蒸镀源6挥发附着在基板1的表面上，从而对基板5进行加工。
具体地，在步骤一中，选择一种蒸镀源6使有机分子材料挥发以在相对应的第一测试基板5’上形成单膜层。在第一测试基板5’上选取不同的第一测试点10’以得到各第一测试点10’处的单膜层厚值，计算各第一测试基板5’上的第一测试点10’的单膜层厚值中的最大值和最小值的差与最大值和最小值的和的比以得到试验单膜层厚均匀参数，通过比较试验单膜层厚均匀参数与规范单膜层厚均匀参数的大小以调整支撑组件1与坩埚平台2之间的距离。
优选地，规范单膜层厚均匀参数为1-3％，当试验单膜层厚均匀参数小于1％时，减小支撑组件1与坩埚平台2之间的距离，当试验单膜层厚均匀参数大于3％时，增加支撑组件1与坩埚平台2之间的距离。通过这种设置能保证不同的蒸镀源6的有机分子材料挥发到基板5上的均匀性，也能防止发生支撑组件1与坩埚平台2之间的距离过大引起的蒸镀装置100体积过大的问题。
在一个优选地实施例中，在第一测试基板5’上选择12-24个第一测试点10’。进一步优选地，当第一测试基板5’为方形时，第一测试点10’均匀分布在对角线上。通过这种设置方式保证了测试方法的精确度，同时保证了测试效率。
在蒸镀方法中，以同时需要蒸镀两种有机分子材料为例论述调整支撑组件1与坩埚平台2之间的距离的具体操作方法。例如，两种蒸镀源6为蒸镀源6A和蒸镀源6B。先选取一块第一测试基板5’放入到蒸镀装置100上，只是加热蒸镀源6A，以在第一测试基板5’形成单膜层。此时，坩埚3的开口朝向正上方。在此第一测试基板5’的两条对角线方向个选取8个第一测试点10’，分别为a1’、a2’……a8’，b1’、b2’……b8’，如图3所示。并分别测试这16个第一测试点10’位置处的单膜层厚。在16个单膜层厚值中，如果a4’处的厚度Ha4’最大，而b1’处的厚度Hb1’最小，则单膜层厚均匀参数为(Ha4’-Hb1’)/(Ha4’+Hb1)。
接下来，再停止对蒸镀源6A加热，选取另一块第一测试基板5’放入到蒸镀装置100上，只是加热蒸镀源6B。相似地，又得到一个单膜层厚均匀参数。并根据单膜层厚均匀参数是否在规范单膜层厚均匀参数的范围内，来调整支撑组件1与坩埚平台2之间的距离。直到每个蒸镀源6所对应的单膜层厚均匀参数均在规范单膜层厚均匀参数的范围内，则支撑组件1与坩埚平台2之间的距离调整到位。
具体地，在步骤二中，通过操作驱动组件4，粗定位各坩埚3的开口方向。一方面，使各坩埚3内的蒸镀源6发出均斜向向外，以使得各蒸镀源6对应形成的膜厚的峰值在基板5之外，有助于提高了各蒸镀源6的有机分子材料的混合均匀性，如图4所示。另一方面，通过操作驱动组件4，使各坩埚3内的蒸镀源6发出均斜向向内，以使得各蒸镀源6对应形成的膜厚的峰值均在基板5之上，也有助于提高了各蒸镀源6的有机分子材料的混合均匀性，如图5所示。
优选地，坩埚3内的蒸镀源6发出所在直线与坩埚平台2所在平面形成的夹角α为10-80度。这种设置方式既能满足提高基板5膜厚混合均匀性要求，也能保证有机分子材料在基板5上的沉积效率。
将第二测试基板5”放入到蒸镀装置100内，使各蒸镀源6(例如，只需要两种蒸镀源同时蒸镀时，两种蒸镀源)同时挥发以在第二测试基板5”上形成混合膜层。在第二测试基板5”上选取不同的第二测试点10”以得到各第二测试点10”的混合膜层厚值。计算混合膜层厚值中的最大值和最小值的差与最大值和最小值的平均值的比以得到试验混合膜层厚均匀参数，当试验混合膜层厚均匀参数小于规范混合膜层厚均匀参数时，固定各坩埚3的开口方向。优选地，规范混合膜层厚均匀参数为1％。
相似地，也可以在第二测试基板5”上设置12-24个第二测试点10”(图中未示出，具体分布可参照图3，5”相当于5’,10”相当于10’)。进一步优选地，当第二测试点10”为方形时，第二测试点10”均匀分布在对角线上。通过这种设置方式保证了测试方法的精确度，同时保证了测试效率。
例如，在图4中，如果试验混合膜层厚均匀参数大于规范混合膜层厚均匀参数，并且混合膜层厚的最大值出现在靠近蒸镀源6A(两个蒸镀源6中的一个)且远离蒸镀源6B(两个蒸镀源6中的另一个)的位置处，则操作驱动组件4使蒸镀源6A处的坩埚6向左方向旋转，或者使蒸镀源6B处的坩埚6向左方向旋转，或者使蒸镀源6A和蒸镀源6B处的坩埚6同时向左方向旋转。直至试验混合膜层厚均匀参数小于规范混合膜层厚均匀参数，固定各坩埚3的位置，以为正式生产基板5做好准备。
以上所述仅为本发明的优选实施方式，但本发明保护范围并不局限于此，任何本领域的技术人员在本发明公开的技术范围内，可容易地进行改变或变化，而这种改变或变化都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以权利要求书的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种用于有机电激光显示的基板的蒸镀方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤一，调整蒸镀装置的用于支撑基板的支撑组件与坩埚平台之间的距离，
步骤二，调整设置在所述坩埚平台上的坩埚的开口方向，
步骤三，将需要蒸镀的基板设置在所述支撑组件上，并使设置在所述坩埚内的蒸镀源挥发附着在所述基板的表面上。
2.根据权利要求1所述的蒸镀方法，其特征在于，在步骤一中，选择蒸镀源使其挥发，以在相对应的第一测试基板上形成单膜层，在所述第一测试基板上选取不同的第一测试点以得到各所述第一测试点处的单膜层厚值，计算各所述第一测试基板上的所述第一测试点的单膜层厚值中的最大值和最小值的差与最大值和最小值的和的比以得到试验单膜层厚均匀参数，通过比较试验单膜层厚均匀参数与规范单膜层厚均匀参数的大小以调整支撑组件与坩埚平台之间的距离。
3.根据权利要求2所述的蒸镀方法，其特征在于，规范单膜层厚均匀参数为1-3％，当试验单膜层厚均匀参数小于1％时，减小支撑组件与坩埚平台之间的距离，当试验单膜层厚均匀参数大于3％时，增加支撑组件与坩埚平台之间的距离。
4.根据权利要求2所述的蒸镀方法，其特征在于，在所述第一测试基板上选择12-24个所述第一测试点。
5.根据权利要求4所述的蒸镀方法，其特征在于，当所述第一测试基板为方形时，所述第一测试点均匀分布在对角线上。
6.根据权利要求1到5中任一项所述的蒸镀方法，其特征在于，在步骤二中，粗调整各所述坩埚的开口方向，以使各所述坩埚内的所述蒸镀源发出均斜向向外或者使各所述坩埚内的蒸镀源发出均斜向向内。
7.根据权利要求6所述的蒸镀方法，其特征在于，所述坩埚内的所述蒸镀源发出所在直线与所述坩埚平台所在平面形成的夹角为10-80度。
8.根据权利要求6所述的蒸镀方法，其特征在于，在步骤二中，使各蒸镀源挥发，以在第二测试基板上形成混合膜层，在所述第二测试基板上选取不同的第二测试点以得到各所述第二测试点的混合膜层厚值，计算混合膜层厚值中的最大值和最小值的差与最大值和最小值的平均值的比以得到试验混合膜层厚均匀参数，当试验混合膜层厚均匀参数小于规范混合膜层厚均匀参数时，固定各所述坩埚的开口方向。
9.一种为实施根据权利要求1到8中任一项所述的蒸镀方法的蒸镀装置，包括：
用于支撑基板的支撑组件，
设置在所述支撑组件下方的坩埚平台，所述坩埚平台上设置有坩埚，
设置在所述坩埚内的蒸镀源，
用于驱动所述坩埚旋转的驱动组件，所述驱动组件包括与所述坩埚固定连接的驱动轴和与所述驱动轴连接的驱动源。
10.根据权利要求9所述的蒸镀方法装置，其特征在于，在所述传动轴与所述坩埚之间设置隔热件。
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