CN105264362B - 封闭式x射线成像系统 - Google Patents

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Abstract

根据本公开,提供一种X射线成像系统,包括:X射线源;X射线探测器;样品底座,其用于将样品架置于在所述X射线源与所述X射线探测器之间的束路径中;封闭物,其至少将所述样品底座封闭在所述封闭物的内部;以及气候控制系统,其用于调节所述封闭物里面的气候,其中:所述封闭物具有孔径,其用于实现从所述封闭物外面对至少所述样品底座的访问;所述封闭物装备有门,所述门可在打开位置与关闭位置之间操作,在所述打开位置中所述孔径打开,在所述关闭位置中所述孔径被所述门关闭;并且所述气候控制系统可操作为提供在所述封闭物的所述内部与所述封闭物的外部之间的正压差,使得当所述门打开时,所述封闭物的所述内部被维持在比所述封闭物的所述外部更高的压力。这样的系统能够更好地调节所述封闭物里面的温度,即使是在所述门被打开时。

Description

封闭式X射线成像系统
技术领域
本发明涉及一种X射线成像系统,并且尤其涉及一种封闭式X射线成像系统,其能够提供在封闭物的内部与封闭物的外部之间的正压差。
背景技术
X射线成像是用于分析样品的内部结构的有价值的诊断工具。在一种X射线成像系统中,样品被放置在X射线源与X射线探测器之间,并且利用从源经过样品的X射线辐照探测器。在探测器处接收到经过样品的X射线的强度取决于样品中X射线束穿过的部分衰减X射线束的程度。对探测到的X射线的分析因此能够提供关于样品的内部结构的信息。
在传统的二维X射线成像中,通过将样品放置在X射线源与二维探测器,或摄影底片之间,采集样品的单个投影图像,以测量样品的单个投影。如果源的维度与到样品的距离相比较小,则探测器上的每个点接收到从源以明确的角度穿过样品的X射线辐射。尽管在一些情况下有用,但该技术仅提供了关于样品的内部结构的有限信息,这是因为样品的不透射线(相对地对X射线不透明)特征将倾向于挡住射线可透的(相对地对X射线透明)特征,并且缺乏关于样品在束中心线的方向上的信息,亦即深度信息。
在计算机断层摄影(CT)中,在关于样品的一个或多个预定轴的一范围的角度上采集一系列X射线。这能够通过保持源与探测器被固定为定的空间关系并相对于源和探测器旋转样品,或者通过保持样品固定并关于样品旋转处于预定空间关系的源和探测器,来实现。在每个角度步进中,采集到系列中的一个X射线投影。使用所采集的系列中的每个投影的数学重建允许获得样品的内部的辐射密度的图。这样的重建能够提供关于样品的内部的有价值的诊断信息。
然而,在计算机断层摄影中,采集过程可能涉及以关于样品的一系列角度采集投影,其中系列中的角度之间的增量小至0.1或0.05度。投影之间的角度间隔越小,体积重建的分辨率越好。而且,所采集的每个投影中的信噪比大体上随着每次投影的曝光越长而得以改善。因此,如果重要的是获得高分辨率和良好的信噪比之一或两者的话,单个计算机断层摄影采集系列可能非常长。
在系列采集期间,例如在样品的大小和形状,源与探测器的相对对准,或者源、探测器与样品的相对间隔中的改变,都可能造成所重建的提及图的模糊以及因此分辨率的损失。因此,重要的是确保,除了在关于样品的X射线投影的角度上所想要的增量改变以外,所有其他的维度以及样品与X射线成像系统的空间关系在整个成像过程中维持恒定。
因此,在高分辨成像系统中,重要的是整个系统的维度稳定性,包括源、探测器和样品的维度,以及它们的相对间隔和取向,即使在长的时间尺度上也得以保持。
常规地,X射线成像系统被容纳在对X射线不透明的封闭物内。这允许操作者在积累之间方便地操作X射线成像装置,以及对样品进行适当调整或者将一个样品更换为另一个,而不受X射线辐射。当这样的封闭物处于关闭状态时,封闭物里面的温度可以得到良好控制。因此,样品和源-探测器系统(其包括被布置为预定空间关系的源和探测器)两者的维度稳定性可以很高。具体地,源-探测器系统的维度稳定性能够至少包括源与探测器之间的对准的稳定性,源与探测器之间的间隔的稳定性,以及源和探测器中的每个的个体部件的尺寸的稳定性。
然而,当封闭物被打开时,为了调整样品的位置或为了将样品更换为另一个样品,封闭物里面的空气的温度取决于封闭物外面的空气的温度而可能改变。结果,可能发生样品的以及源-探测器系统的热膨胀或收缩。
在封闭物被关闭后,封闭物里面的温度将在一时间段内返回到正常操作状态。在该时间段内期间,任何X射线积累都将倾向于受因源-探测器系统的、样品的、或两者的热膨胀或收缩造成的模糊缺陷的影响。
因此,惯例是在封闭物被关闭之后并且在成像数据的积累开始之前,等待封闭物和样品温度稳定。这限制了可以对一系列不同样品进行成像的速率,以及还在例如样品的位置或姿态需要在暴露之间调整时,使成像过程延长。尤其地,为了获得样品的一部分的特定视图,操作者可能需要在获得期望的视图之前,手动调整样品的位置若干次,每次采集一图像。对允许封闭物里面的温度稳定的时间的需要减缓了该流程。
因此存在着对于这样一种封闭式X射线成像系统的需要,其能够更好地维持内部温度,即使是在封闭物被打开时。
发明内容
根据本公开,提供一种X射线成像系统,包括:X射线源;X射线探测器;样品底座,其用于将样品架置于在所述X射线源与所述X射线探测器之间的射束路径中;封闭物,其至少将所述样品底座封闭在所述封闭物的内部;以及气候控制系统,其用于调节所述封闭物里面的气候,其中:所述封闭物具有孔径,所述孔径用于使得能够从所述封闭物外面对至少所述样品底座进行访问;所述封闭物被提供有门,所述门可在打开位置与关闭位置之间操作,在所述打开位置中所述孔径打开,在所述关闭位置中所述孔径被所述门关闭;并且所述气候控制系统可操作为提供在所述封闭物的所述内部与所述封闭物的外部之间的正压差,使得当所述门打开时,所述封闭物的所述内部被维持在比所述封闭物的所述外部更高的压力。
在一些实施例中,所述气候控制系统包括被布置为至少调节所述封闭物里面的空气的温度的空气调节器。
在一些实施例中,所述气候控制系统包括鼓风机,所述鼓风机被布置为从所述封闭物外面抽吸空气并将所抽吸的空气供应到所述封闭物的所述内部以提供所述正压差。
在一些实施例中,所述空气调节器包括温度调节器,所述温度调节器用于调节从所述封闭物外面被供应到所述封闭物的所述内部的所述空气的温度。
在一些实施例中,所述气候控制系统包括空气流量调节器,其用于调节由所述鼓风机从所述封闭物外面供应到所述封闭物的所述内部的所述空气的流量。
在一些实施例中,所述温度调节器包括被布置为调节所述封闭物里面的温度的另外的空气调节器。
在一些实施例中,所述气候控制系统被配置为探测在其中所述门打开的状况,并在所述门打开时提供所述正压差。
在一些实施例中,所述气候控制系统被配置为探测当所述封闭物里面的温度超过预定阈值或降到预定阈值以下时的状况,并在所述温度超过所述预定阈值或降到所述预定阈值以下时提供所述正压差。
在一些实施例中,所述气候控制系统被配置为探测当所述封闭物里面的温度超过预定阈值或降到预定阈值以下时的状况,并在所述温度超过所述预定阈值或降到所述预定阈值以下时调整从所述封闭物外面被供应到所述封闭物的所述内部的空气的温度。
在一些实施例中,所述封闭物包括被布置为当所述门打开时覆盖所述孔径的柔性帘幕。
在一些实施例中,所述帘幕为透明的。
在一些实施例中,所述封闭物包括空气帘幕,所述空气帘幕被布置为在所述孔径上操作以在所述门打开时减少通过所述孔径的空气流量。
在一些实施例中,所述空气帘幕被配置为当所述门打开时操作。
在一些实施例中,所述孔径的面积小于1m2
在一些实施例中,所述气候控制系统包括在所述封闭物里面并且被布置为提供内部温度测量的至少一个温度传感器。
在一些实施例中,所述气候控制系统包括在所述封闭物里面的多个温度传感器,每个所述温度传感器被布置为提供在所述封闭物中的一个位置处的局部内部温度测量,并且其中,所述气候控制系统被布置为基于所述局部内部温度测量来确定内部温度测量。
在一些实施例中,所述气候控制系统包括在所述封闭物里面并且被布置为提供内部压力测量的压力传感器。
在一些实施例中,所述气候控制系统包括在所述封闭物外面并且被布置为提供外部压力测量的压力传感器。
在一些实施例中,所述气候控制系统包括差分压力传感器,其被布置为提供在所述封闭物的所述内部与所述外部之间的差分压力测量。
在一些实施例中,所述封闭物也封闭所述X射线源、所述X射线探测器,或两者。
在一些实施例中,所述空气调节器被布置为当所述门打开时提供在1mBar与10mBar之间的正压差。
在一些实施例中,所述底座、源和探测器被一起配置用于计算机断层摄影成像,使得所述源和探测器关于所述样品底座可相对旋转。
在一些实施例中,所述系统还包括控制器,其适于控制所述源和探测器关于所述样品底座的相对旋转。
在一些实施例中,所述系统还包括存储器,其适于记录在所述源和探测器关于所述样品底座的相对旋转中的一系列角度采集的一系列X射线图像。
在一些实施例中,所述X射线系统包括断层摄影重建单元,其适于对所述系列X射线图像应用数学变换,以计算体积密度图。
在一些实施例中,所述源和探测器被布置为相对于所述封闭物固定,并且所述样品底座被布置为相对于所述封闭物旋转。
在一些实施例中,所述相对旋转的轴垂直于所述束路径的中心线。
附图说明
为了更好地理解本发明,以及为了示出如何将本发明付诸实施,将仅通过举例的方式参考附图,在附图中:
图1示出根据本公开的X射线成像系统的第一实施例;
图2示出根据本公开的X射线成像系统的第二实施例;
图3a示出本公开的X射线成像系统的变型实施例的横截面;
图3b示出本公开的X射线成像系统的另外的变型实施例的横截面;
图4示出适用于实施本公开控制计算机;
图5示出适用于实施本公开的空气调节器;并且
图6示出适用于实施本公开的X射线计算机断层摄影的源、探测器和样品的典型配置。
具体实施方式
图6中示出计算机断层摄影的基本概念。图6示出X射线辐射的源S和针对该辐射的探测器D。源S发出辐射的射束B,射束B在探测器D处被探测到。插在源S与探测器D之间的是目标对象T,目标对象T的内部结构旨在被分析。该布置对传统和CT成像两者是常见的。
在计算机断层摄影中,关于由源S、探测器D和射束B限定的参考系绕轴A相对旋转目标对象T。射束B具有中心线C。以小的旋转角度间隔,由探测器D采集到射线照相投影的序列。在关于轴A的完整圆形旋转之后,在目标对象T对所选择的辐射的相对不透明度方面,将如此获得的图像的序列合成到对象T的体积图中。尽管常规是使用完整的360度旋转获得图像的序列,但在一些情况下采集覆盖至少为180度的旋转角度的图像是可接受的。
这样的体积图能够被用于确定目标对象T的内部结构。被用于将个体射线照相图像的系列(或者如它们常规地被称作的射线照相投影)变换到为该领域的本领域技术人员的公知常识的体积图形式部分中的数学技术,一般是计算机化的或计算机实施的。
取决于目标对象T的类型,以及尤其取决于大小,能够选择关于轴A的旋转的固定参考系。在一些情况下,源和探测器能够关于轴A相反旋转,例如在医学成像应用中,其中将人身体或身体部分作为整体进行旋转是不实际的。在其他情况下,当目标对象T较小时,对象可以被放置在转台上,并且能够在使用固定的源S和固定的探测器D的同时关于轴A被旋转。后一种情境在工业CT成像中是常见的。
图1示出X射线成像系统的第一实施例100。系统100包括X射线源110,其适于生成具有特定能量分布的X射线,并将它们导向在沿射束中心线传播的射束中。例如,X射线源110能够产生约100keV的X射线,并将它们导向在关于束中心线大致10度的角散度的锥形束中。沿束中心线与X射线源110相对的是探测器120,其被布置为接收发源于源110的X射线束。
探测器120在这里为二维像素阵列探测器,具有像素区域的网格,像素区域中的每个适于测量在预定的保护间隔期间到达探测器的X射线的强度。尽管在历史上X射线探测器包括有被包裹在X射线敏感的照相乳剂中的板,但在现代的系统中,包括计算机断层摄影(CT)系统,这样的探测器常规地为电子的。例如,探测器120的像素区域可以每个均为对从源110提供的X射线的能量敏感的电荷耦合设备(CCD)。
优选地,源110和探测器120被布置为与(在图4中更详细地示出)控制计算机101通信,其起作用为系统控制器,以控制从源110的X射线发射,记录从探测器120获得的强度数据,以及任选地,执行计算机断层摄影重建。探测器120被适当地调整大小,从而在束中心线任一侧的特定角度范围上记录来自源110的X射线的束,该角度范围可以或可以不是射束的完整角散度。尽管来自源110的束可以具有关于束中心线的圆形或椭圆形对称,但为了容易制作,探测器120通常为方形或矩形的。因此,来自源110的射束的角散度和探测器120的尺寸,以及源110与探测器120之间的间隔通常被选择为使得射束完全填满探测器120。
为了采集样品的图像,样品被插在源110与探测器120之间的束路径中。优选地,针对高分辨成像,样品应被放置并定位在束中心线上,从而对样品中的感兴趣区域在探测器上投影的图像刚好填满探测器的像素网格,以充分利用探测器的可用分辨率。因此,为了准确地定位样品,提供样品底座130,其提供了样本(图1中被示为样品900)可以被定位在其上的平台或其他支撑结构。通常,样品被定位在其上的平台或其他支撑结构由射线透明材料制成,使得样品底座中在束路径中的元件不出现在所采集的图像中。
样品底座130可以为单个固定的底座点,或者可以为可调的,以供样品在沿束路径或与束路径交叉的一个或多个方向上平移,以及供样品关于一个或多个旋转轴旋转,以允许样品在束路径中的恰当定位。在图1的实施例中,样品底座130允许样品900在三个轴上平移,即沿束路径的一个轴,以及与束路径交叉的两个轴,并且还允许样品关于垂直于束路径的中心线与束路径交叉的单个轴的旋转。在图1的实施例中,样品900通过样品底座130的旋转被用于以计算机断层摄影重建所需要的不同角度对投影的系列的采集。然而,在其他实施例中,源-探测器系统关于穿过样品底座的预定轴的旋转可以被用于获得投影的系列,或者整个样品底座130通过单独的旋转台的旋转可以被用于系列采集。
如图4中所示,控制计算机101在这里包括旋转控制器101a,其适于控制源和探测器关于样品底座的旋转。例如,旋转控制器可以被提供为向样品底座130提供旋转命令的软件或硬件单元。
控制计算机101也包括存储器101b,其适于记录以在源和探测器关于样品底座的相对旋转中的一系列角度采集的一系列X射线图像。存储器101b可以,例如,被实施为固态存储器或硬盘驱动器,并且也可以适于记录从旋转控制器101b获得的旋转数据,该旋转数据对应于给予样品底座130的旋转命令。
控制计算机101也包括断层摄影重建单元101c,其适于对该系列X射线图像(任选地也关于所采集的旋转数据)应用数学变换,以计算体积密度图。适用于X射线断层摄影重建的数据变换是本领域已知的,并且可以基于包括所需要的重建的质量以及可用的处理能力的因素来选择。
控制计算机101也包括源控制器101d,其适于控制源110的功能,例如驱动和终止X射线的产生,以及调整束参数,包括束散度、X射线通量以及X射线能量。
控制计算机101具有通信总线101e,其在单元101a、101b、101c和101d之间通信。通信总线101e也与接口模块101f通信,借助于接口模块101f,单元101a、101b以及至少101d能够分别地并且例如与样品底座130、探测器120和源130通信。接口模块101f可以例如为通用接口总线(GPIB)接口、USB(通用串行总线)接口,或以太网接口。
控制计算机101可以例如为具有软件模块的微处理器,该软件模块适于执行其功能中的每个。备选地,控制计算机101可以被提供为分布式控制与处理网络,具有适于执行其功能中的每个并且经由网络通信的分立的硬件模块。另外,控制计算机101可以被实施为一组分立的工业控制器,它们被配置为经由通信信道(例如RS232通信链路)彼此通信。
源110、探测器120以及样品底座130每个均被提供在封闭物140内,即封闭物140的内部,封闭物的功能之一是防止在封闭物内生成、散射或反射的X射线从封闭物出去,并且其功能中的另一个是防止在成像过程期间任意不期望的物体横越束路径或者干扰样品、源或探测器。尽管封闭物140可以采取多种形式,但是为了简单起见,封闭物140能够被认为是立方盒,其具有被施加到每个表面以形成防止X射线辐射从封闭物泄漏的射线不透明屏障的一层或一片不透射线材料(例如铅或铅合金)。
为了允许操作者更换样品,以及允许调整样品900在样品底座130上的位置,封闭物140具有在封闭物的一个内表面中的孔径141,其连接封闭物的外部与内部。孔径足够大以允许操作者容易地更换或定位样品。孔径141的选定大小将取决于必须通过其引入的样品的最大大小,并且也将取决于针对操作者的手或要通过孔径被引入以调整样品的器具的访问要求。
例如,针对大的样品,可能需要诸如升降架的特殊搬运器材引入和移去样品,而针对非常小的样品,镊子或钳子可以被用于引入和移去样品。然而,针对适于直接手工搬运的样品,设想孔径具有约1m2的面积,优选地小于1m2,并且具有大致为方形形状将是合适的。针对某些应用,例如房间大小的封闭物,可以提供大于1m2的孔径,以允许对对大的样品进行成像以及甚至允许操作者进入封闭物并执行必要的任务。
为了防止来自源110的X射线通过孔径141的不期望的发出(例如在采集过程期间),以及为了避免在采集过程期间对样品或源-探测器系统的干扰,孔径141装备有门142,门142也包括一层不透射线材料,并且其被调整大小为以塞子的方式配合孔径或者略大于孔径并且当被关闭时覆盖孔径。例如,门可以为铰链的,并且可以由操作者打开以接近样品空间。对铰链门的备选包括可移除门或滑动门。
在图1的实施例中,出于安全的原因,提供联锁机构,其在门被打开时禁用X射线源110的操作。这里,这样的联锁是由门传感器143提供的,门传感器143探测门142是否被关闭,并且与X射线源110通信以仅在门被关闭时允许源110的操作。门传感器143可以,例如,为当门被关闭时被闭合的开关,或者可以为诸如光学传感器的非接触式传感器,该非接触式传感器在门被关闭时呈现诸如导电性的电气性质的变化。这样的通信能够经由,例如,控制计算机101而发生。
X射线成像部件(尤其是源110)的操作生成一定量的热,其倾向于升高封闭物140里面的温度。热通过封闭物从内部到外部的传导将倾向于平衡由成像部件生成的热。因此,当门被关闭并且系统运行时,温度将倾向于到平衡值。
相反,当门被打开时,存在着来自封闭物外面的空气与封闭物里面的空气以足以引起封闭物里面的温度突然变化的量混合的可能。如果被允许发生,这可能引起样品900、源110和探测器120中的一个或多个的尺寸不稳定。
为了避免这样的温度变化,提供包括空气调节器150的气候控制系统,以向封闭物140的内部供应具有预定温度的空气。空气调节器150,例如借助于鼓风机,通过入口151抽吸位于封闭物140外面的空气。空气调节器150然后,例如借助于起温度调节器作用的热交换器、冷却器和加热器,将空气的温度调整为大致等于封闭物里面的正常操作温度的温度,并然后经由流量调节器152(其例如为阀),以及经由导管153a和出口153将空气供应到封闭物的内部。这么做时,空气调节器生成相对于封闭物140外面的压力在封闭物140里面的过压,即在封闭物的内部与外部之间的正压差。
图5中示出空气调节器150的示范性构造。空气调节器150具有入口151,空气可以通过鼓风机150a的作用被抽吸通过入口151。从鼓风机150a,空气传到空气冷却单元150b,空气可以在空气冷却单元150b中通过冷元件元150c的操作被冷却。冷却元件150c可以被实施为,例如,冷却制冷剂在其中流动的热交换制冷线圈。备选地,冷却元件150c可以被实施为,例如,热电冷却元件,例如珀尔帖冷却器。从空气冷却单元150b,空气传到空气加热单元150d,空气可以在空气加热单元150d中通过加热元件150c的操作被加热。加热元件150e可以被实施为热交换介质在其中流动的热交换加热线圈。备选地,加热元件150e可以被实施为,例如,热电加热元件,例如电阻丝的线圈。
空气冷却单元150b和空气加热单元150d一起充当温度调节器。从空气加热单元150d,空气在经由出口153传进封闭物140中之前传到调节器152,调节器152可以被实施为阀。
空气调节器150具有温度控制器150f,其与出口温度传感器150g通信。出口温度传感器150g被布置在出口153中或附近,以测量出口空气温度。温度控制器150f向加热元件150e和/或冷却元件150c发送命令,以变化加热或冷却动作,以达到想要的出口温度。温度控制器150f的动作能够借助于反馈控制来实现,例如借助于PID(比例-积分-微分)控制器。然而,在其他实施例中,可以省略出口温度传感器,并且到空气调节器的用于冷却或加温空气的外部命令能够被应用到加热元件150e和冷却元件150c中的一个或两者。
从空气调节器150可获得的空气的流量足以使得,即使当门142被打开时,也可以维持封闭物140里面的过压,从而防止封闭物外面的空气进入封闭物并与封闭物中的空气混合。因此,可以避免封闭物里面的温度显著下降。由于封闭物即使在门打开时也可以被维持在过压,因此可以避免可能造成源-探测器系统中或样品中的维度不稳定(例如源与探测器之间的间隔或对准的改变)的温度变化。因此,当门随后被关闭时,封闭物140里面的温度保持大致等于在门被打开之前封闭物里面的温度,并且几乎可以立即重新开始成像,而不需要等待温度平衡。
不受本公开的任意特定的操作理论约束,通过以下等式给出空气通过面积为A的孔径的湍流流量Q:
Q=Cd·A·(2·ΔP/ρ)0.5
其中ΔP为在孔径两侧的压力差,ρ为空气的密度,并且Cd为流量系数,其针对平板孔径(例如矩形窗口)为0.61。针对湍流选择为0.5的指数,并且该指数将针对与非常大或非常小的开口相关联的层流或滞流状况而变化。
因此,如果空气调节器150能够向封闭物140的内部提供超过根据以上等式穿过孔径141的空气的体积流量,则压力差将得以维持,并且封闭物140里面的正压差将存在,即使是在门142打开时。相反,针对通过孔径141的期望的正压差,可以通过以上等式计算所需要的由空气调节器150提供给的体积流量。同样,备选地,这些参数可以通过适当的实验来选择。
通过关系Vf=Q/A给出通过孔径141的流速Vf,并且针对大致恒定密度的空气,Vf仅为在封闭物140的内部与外部之间的压力差的函数。如果通过孔径141的流速被选择为使得从封闭物出来的空气的流量比热到封闭物中的热扩散速度更快,则在孔径141两侧的压力差将能够防止封闭物140里面的温度的改变。
空气调节器150的构造和功能能够取决于用户需要而变化。在一个变型中,空气调节器150被布置为维持封闭物140里面的连续过压,即使是在门被关闭时。能够调整由阀152提供的流量调节的程度,以选择所达到的过压的程度。然而,由于空气从出口153的流量可能在成像过程期间干扰样品,因此在另一变型中,空气调节器150仅被操作为当门被打开时提供过压。在该布置中,空气调节器150能够由操作者手动激活,以刚刚在门被打开之前提供过压,或者空气调节器150能够被链接到传感器(例如被用于安全联锁的门传感器143)以在门被打开时自动地触发空气调节器提供过压。
入口151、出口153或两者均可以被提供有空气过滤器,以防止封闭物外面的颗粒在空气调节器150运行时被抽吸到封闭物中。
由空气调节器150供应的空气的温度能够被调节为封闭物的预定正常操作温度,或者如图1中所示,温度传感器154可以被定位在封闭物里面并且被布置为测量封闭物里面的空气温度,以告知空气调节器150通过出口153进入的空气的期望温度,使得从空气调节器150供应的空气能够在被供应到封闭物的内部之前被带到正确的温度。以此方式,通过出口153供应的空气大致上在与已经在封闭物里面的空气相同的温度,使得避免了不期望的温度变化。
在另一变型中,温度传感器154能够被用于探测封闭物里面的温度何时已从正常操作温度改变预定的允许量。当探测到这样的改变时,空气调节器150被布置为通过出口153供应额外的经温度调节的空气,或者升高的或降低的温度的空气,或两者,以使封闭物里面的温度恢复到大致正常的操作温度,并提供过压。在这样的配置中,温度传感器154能够,例如向流量调节器152或向空气调节器150的温度调节器,提供反馈控制,以调节被提供到封闭物140的内部的经温度调节的空气的量或温度,并由此调节封闭物里面的温度。反馈控制能够,例如通过PID(比例-积分-微分)控制器的使用来实现。在其他实施例中,空气调节器能够被布置为以恒定的预定温度,以恒定的预定流速,或两者,供应空气。
温度传感器154能够包括被提供在封闭物里面的多个温度传感器,它们中的每个被布置为提供在封闭物中的一个位置处的局部内部温度测量。使用这样的多个传感器,允许气候控制系统基于局部内部温度测量结果,例如在如由该多个温度传感器探测的封闭物中的平均温度、众数温度、最大或最小温度,来确定表示封闭物里面的温度的内部温度测量结果。
在图1的实施例中,空气调节器可以被调整为提供在封闭物140的内部与外部之间的最小,或最大,或最小与最大两者的正压差。这样的压差可以被选择为在门打开时在1mBar至10mBar的范围内。由空气调节器150从出口153提供的空气的流量可以被选择为实现当门打开时所需要的压差。自然地,较大的孔径141将需要来自空气调节器150的较大的空气流量,以提供并维持当门打开时的正过压。然而,这是在本领域技术人员的能力内,借助于直接实验,容易地确定的。
在图2中所示的备选实施例中,提供额外的空气调节器,其可操作为即使在门被关闭时,控制封闭物内的环境,尤其是温度。关于图2,系统200呈现与图1中所示的系统100类似的元件,并且类似的元件具有形式为2xx的附图标记,这样的元件应被认为实质上与上文关于图1描述的附图标记为1xx的元件类似。例如,源210实质上类似于上文描述的源110,并且探测器220实质上类似于上文描述的探测器120。
除了空气调节器250(其从封闭物240外面通过入口251抽吸封闭物240外面的空气,调节其温度,并经由流量调节器252通过出口253将其提供到封闭物240的内部,以提供即使在门打开时的过压)之外,封闭物240的气候控制系统还包括第二空气调节器260。第二空气调节器260为内循环空气调节器,其具有入口261和出口262,二者均被布置在封闭物240里面,并且被布置为借助于温度调节器调整从入口261传到出口262的空气的温度,以及任选地借助于湿度调节器调整该空气的湿度。由此,第二空气调节器260被布置为调节封闭物240里面的环境状况,例如,以去除当源210操作为产生X射线时由源210生成的过度的热中的一些。为此,第二空气调节器260与被提供在封闭物240里面以探测封闭物里面的温度的温度传感器264通信,并且被布置为调整从出口262提供的空气的温度以将由温度传感器264探测到的温度维持为恒定的预定水平。
与空气调节器260(其在关于图1所描述的实施例中不存在)相反,图2的实施例中的空气调节器250的操作类似于图1中所示的空气调节器150的操作。在图2的实施例中,空气调节器250能够被配置为当门打开时操作,或者由操作者手动激活,或者通过门传感器243的使用,或者空气调节器250能够连续地向封闭物240的内部供应空气,以即使在门242被关闭时也维持期望的过压。
由于第二空气调节器260被提供为当门被关闭时调节封闭物里面的空气的温度,因此由空气调节器250提供的温度调节不需要是精确的,这是因为,如果通过出口253供应的用于提供过压的空气的温度比封闭物240里面的期望操作温度更冷或更暖,从温度传感器264到第二空气调节器260的反馈将仍使得总体温度能够以稳定的方式得以维持。然而,在一些实施例中,可以优选的是,空气调节器250装备有其自身的在封闭物240里面的温度传感器,以与图1中所示类似的方式,以使得通过出口253供应的空气能够提供过压,以具有大致上等于封闭物240内已存在的温度的经调节的温度。
备选地或额外地,能够在空气调节器250与第二空气调节器260之间提供通信链路,例如使用简单的双线模拟信号,以传送由温度传感器264探测到的温度信息,以确保通过出口253提供的空气在合适的温度,用于维持封闭物240里面的预定稳定温度,例如,以与由空气调节器260供应的空气想通过的温度供应。在一些情况下,如果第二空气调节器260确定如由温度传感器264记录的封闭物里面的温度,例如因门242被打开延长的时间段而造成的,已偏离封闭物240里面的期望温度超过可接受的预定余裕,则第二空气调节器260能够向空气调节器250传送,应通过出口253提供在升高的温度或降低的温度的空气,以辅助加温或冷却封闭物240的内部。
尽管第二空气调节器系统260能够在封闭物被关闭的同时调节封闭物里面的空气温度,但单独提供功率足以在封闭物打开时维持封闭物内的温度的常规空气调节器系统可能是不实际或昂贵的。此外,将封闭物位于其中并且操作者可以在其内工作的整体环境维持为与封闭物里面的相同温度,也可能是不实际或昂贵的。尤其地,针对封闭物里面的部件的合适环境操作空气温度可能与针对封闭物外面的操作者的优选环境温度非常不同。然而,所描述的空气调节器250与第二空气调节器260的组合尤其能够以成本效率和有效的方式,在封闭物打开和封闭物被关闭两种时候,维持封闭物里面的优选操作空气温度。
图2的实施例还具有差分压力传感器257,其包括外部压力传感器256和内部压力传感器255。差分压力传感器257与空气调节器250通信,并且尤其与空气调节器250通信在封闭物240的内部与封闭物240的外部之间的压力差。优选地,差分压力传感器位于孔径241处,以确定存在于孔径241附近的在封闭物240里面和外面的压力差。空气调节器250被配置为使用由差分压力传感器257报告的差分压力来确定应通过出口253被提供给到封闭物240的内部以达到或维持期望的预定压力差的空气的量。例如,差分压力传感器257能够被用于向流量调节器252反馈所达到的差分压力,使得差分压力传感器257测量的差分压力距预定的期望差分压力越远,流量调节器252将允许到封闭物中的流量越大。
这样的布置也能够通过向空气调节器150提供差分压力传感器,与图1中所示的单个空气调节器的配置一起使用。在备选的实施例,可以仅提供外部压力传感器256或内部压力传感器255。如果仅提供内部压力传感器255,则可以假设外部压力为正常大气压力,同时如果仅提供外部压力传感器256,则可以使用封闭物240的模型,与由流量传感器252提供的关于到封闭物240的空气的速率的信息一起,以估计内部压力。出于该目的,也可以使用从温度传感器264获得的关于封闭物240里面的温度的信息。
在一些实施例中,空气调节器150/250可以被提供为具有流量调节器的两种设置,第一种,当门被关闭时用于生成期望的过压的较小的流量设置,第二种,当被打开时用于生成大致相同的期望的过压的较大的流量设置。这样的布置能够防止当门被打开时大的压力改变,该压力改变也可能与封闭物里面的空气的温度改变相关联。
在所描述的实施例中的任一个中,为了改进封闭物140或封闭物240即使在门142打开时维持内部温度的能力,孔径141可以额外地装备有帘幕,用于限制通过孔径的空气的流量,即使在门打开时。
例如,如图3a中所述,柔性帘幕144可以被提供为覆盖孔径141,以对从封闭物140外面经由孔径141到封闭物140的内部的空气的流量提供物理屏障。例如,帘幕144能够由诸如聚合物材料的材料的一系列条带形成,其延伸,或悬挂,横跨孔径141的高度和宽度。例如,可以使用透明乙烯基树脂条带,或者为了增加辐射安全性,可以使用掺杂铅的乙烯基树脂条带。
在如图3b中所示的备选的变型中,可以提供空气帘幕,以提供跨孔径141的整个高度和宽度的方向性空气流,以减少空气从封闭物140的外部到内部的渗透。空气帘幕通过空气帘幕排气喷嘴145a来提供,排气喷嘴145a被布置为将空气的流导向为横跨开口的高度和宽度。在图3b中所示的实施例中,提供跨孔径141的高度与空气帘幕供应喷嘴145a相对的空气帘幕恢复喷嘴145b,以提供吸力来控制由排气喷嘴145a供应的空气帘幕中的湍流。然而,空气帘幕恢复喷嘴145b是任选的,并且在一些情况下,可以单独使用空气帘幕排气喷嘴145a来获得横跨孔径141的相对均匀的空气流。
在以上变型中的任一种中,尽管从调节器152/252到出口153/253的导管153a/253a的长度被示为一长段导管,但也有可能在空气调节器150/250与出口153/253之间的一短段导管中布置调节器152/252。然而,可能优选的是,从入口151/251到出口153/253的总路径,优选地在空气调节器150/250与出口153/253之间的总路径,与导管的横截面尺寸相比较相对地大。
在以上变型中的每个中,封闭物里面达到的过压的程度是由流量调节器152/252确定的。然而,如果简单的鼓风机,例如离心式鼓风机,被用作空气调节器150/250的部分用于从入口151/251抽吸空气并将空气供应到出口153/253的话,鼓风机的效率将随着封闭物140/240中的压力升高而减小。因此,在一些操作情况下,简单的鼓风机将自调节以提供期望程度的过压力。在这样的情况下,本领域技术人员将能够选择具有合适的背压流量特性的鼓风机,以确保即使在门142/242打开时,也将达到合适的过压。然而,在其他实施例中,例如由差分压力传感器的反馈,被用于通过简单地调节流量调节器,或者通过调节空气调节器150/250的鼓风机的运行速度,主动调节空气的流量,以达到预定程度的过压。也可以使用两种方法的组合。
在以上实施例中,假设封闭物封闭源、探测器和样品底座的全部。然而,备选的布置是可能的,其中样品底座被容纳在由封闭物限定并且具有可关闭孔径的样品腔内,并且源和探测器中的至少一个或两者被提供在样品腔外面。在这样的布置中,X射线可以从源被引入到样品腔,和/或被允许通过一个或多个被适当定位的X射线透明窗口离开样品腔到探测器。在这样的布置中,在样品腔外面(例如由源或探测器)生成的热,与源和/或探测器与样品一样被封闭物封闭相比,可以对样品腔里面的温度有较小影响。然而,通过打开门而引起的温度波动仍将影响样品的维度稳定性。因此,上述用于改善封闭物里面的温度稳定性的布置也适用。为了安全,这样的布置也可以需要第二封闭物围绕源和探测器,或者源和探测器可以被配置为使得,当与样品腔的窗口恰当对准时,将不发生X射线的不期望的泄漏。因此,不加限制地,在所描述的实施例中的每个中,源、探测器或两者可以位于封闭物外面。
尽管以关于计算机断层摄影3D成像系统描述了本公开,但本文中所公开的概念也可以等同地应用于2D X射线成像系统。
上述实施例,一起地或单独地,应被理解为纯粹为示范性的,并且本领域技术人员将能够修改或改动所描述的实施例,并应用所公开的概念以适应本地偏好和技术要求。因此,本发明的范围应被理解为仅由权利要求的范围限定,权利要求应被认为涵盖了本领域技术人在前面的公开内容中提供的技术概念的启示下,能够得到的所有修改、改动或替换。

Claims (26)

1.一种X射线成像系统,包括:
X射线源;
X射线探测器;
样品底座,其用于将样品架置于在所述X射线源与所述X射线探测器之间的射束路径中;
封闭物,其至少将所述样品底座封闭在所述封闭物的内部;以及
气候控制系统,其用于调节所述封闭物里面的气候,其中:
所述封闭物具有孔径,所述孔径用于使得能够从所述封闭物外面对至少所述样品底座进行访问;
所述封闭物被提供有门,所述门能在打开位置与关闭位置之间操作,在所述打开位置中所述孔径打开,在所述关闭位置中所述孔径被所述门关闭;并且
所述气候控制系统能提供在所述封闭物的所述内部与所述封闭物的外部之间的正压差,使得当所述门打开时,所述封闭物的所述内部被维持在比所述封闭物的所述外部更高的压力,其中,所述气候控制系统被配置为探测在其中所述门打开的状况,并且被配置为在所述门打开时提供所述正压差。
2.如权利要求1所述的X射线成像系统,其中,所述气候控制系统包括处于所述封闭物里面并且被布置为提供内部温度测量的至少一个温度传感器。
3.如权利要求2所述的X射线成像系统,其中,所述气候控制系统包括处于所述封闭物里面的多个温度传感器,每个温度传感器被布置为提供在所述封闭物中的一个位置处的局部内部温度测量,并且其中,所述气候控制系统被布置为基于所述局部内部温度测量来确定内部温度测量。
4.如权利要求1-3中的任一项所述的X射线成像系统,其中,所述气候控制系统包括处于所述封闭物里面并且被布置为提供内部压力测量的压力传感器。
5.如权利要求1-3中的任一项所述的X射线成像系统,其中,所述气候控制系统包括处于所述封闭物外面并且被布置为提供外部压力测量的压力传感器。
6.如权利要求1-3中的任一项所述的X射线成像系统,其中,所述气候控制系统包括差分压力传感器,所述差分压力传感器被布置为提供在所述封闭物的所述内部与所述外部之间的压差测量。
7.根据权利要求1-3中的任一项所述的X射线成像系统,其中,所述气候控制系统包括空气调节器,所述空气调节器被布置为至少调节所述封闭物里面的空气的温度。
8.根据权利要求1-3中的任一项所述的X射线成像系统,其中,所述气候控制系统包括鼓风机,所述鼓风机被布置为从所述封闭物外面抽吸空气并将所抽吸的空气供应到所述封闭物的所述内部以提供所述正压差。
9.如权利要求7所述的X射线成像系统,其中,所述空气调节器包括温度调节器,所述温度调节器用于调节从所述封闭物外面被供应到所述封闭物的所述内部的空气的温度。
10.如权利要求8所述的X射线成像系统,其中,所述气候控制系统包括空气流量调节器,所述空气流量调节器用于调节由所述鼓风机从所述封闭物外面供应到所述封闭物的所述内部的空气的流量。
11.如权利要求9所述的X射线成像系统,其中,所述温度调节器包括被布置为调节所述封闭物里面的温度的另外的空气调节器。
12.如权利要求1-3中的任一项所述的X射线成像系统,其中,所述气候控制系统被配置为探测当所述封闭物里面的温度超过预定阈值或降到预定阈值以下时的状况,并且被配置为在所述温度超过所述预定阈值或降到所述预定阈值以下时提供所述正压差。
13.如权利要求1-3中的任一项所述的X射线成像系统,其中,所述气候控制系统被配置为探测当所述封闭物里面的温度超过预定阈值或降到预定阈值以下时的状况,并且被配置为在所述温度超过所述预定阈值或降到所述预定阈值以下时调整从所述封闭物外面被供应到所述封闭物的所述内部的空气的温度。
14.如权利要求1-3中的任一项所述的X射线成像系统,其中,所述封闭物包括被布置为当所述门打开时覆盖所述孔径的柔性帘幕。
15.如权利要求14所述的X射线成像系统,其中,所述帘幕为透明的。
16.如权利要求1-3中的任一项所述的X射线成像系统,其中,所述封闭物包括空气帘幕,所述空气帘幕被布置为跨所述孔径操作以在所述门打开时减少通过所述孔径的空气流量。
17.如权利要求16所述的X射线成像系统,其中,所述空气帘幕被配置为在所述门打开时操作。
18.如权利要求1-3中的任一项所述的X射线成像系统,其中,所述孔径的面积小于1m2
19.如权利要求1-3中的任一项所述的X射线成像系统,其中,所述封闭物也封闭所述X射线源、所述X射线探测器、或两者。
20.如权利要求7所述的X射线成像系统,其中,所述空气调节器被布置为当所述门打开时提供在1mBar与10mBar之间的正差分压力。
21.如权利要求1-3中的任一项所述的X射线成像系统,其中,所述底座、源和探测器一起被配置用于计算机断层摄影成像,使得所述源和探测器关于所述样品底座能够相对地旋转。
22.如权利要求21所述的X射线成像系统,其中,所述X射线成像系统还包括控制器,所述控制器适于控制源和探测器关于所述样品底座的相对旋转。
23.如权利要求21所述的X射线成像系统,其中,所述X射线成像系统还包括存储器,所述存储器适于记录在源和探测器关于所述样品底座的相对旋转中的一系列角度处采集的一系列X射线图像。
24.如权利要求23所述的X射线成像系统,其中,所述X射线成像系统包括断层摄影重建单元,所述断层摄影重建单元适于对所述一系列X射线图像应用数学变换以计算体积密度图。
25.如权利要求21所述的X射线成像系统,其中,所述源和探测器被布置为相对于所述封闭物固定,并且所述样品底座被布置为相对于所述封闭物旋转。
26.如权利要求21所述的X射线成像系统,其中,所述相对旋转的轴垂直于所述射束路径的中心线。
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