CN105239114A - 一种镀镓电镀液及镓薄膜的脉冲电镀方法 - Google Patents
一种镀镓电镀液及镓薄膜的脉冲电镀方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN105239114A CN105239114A CN201510726925.9A CN201510726925A CN105239114A CN 105239114 A CN105239114 A CN 105239114A CN 201510726925 A CN201510726925 A CN 201510726925A CN 105239114 A CN105239114 A CN 105239114A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- gallium
- electroplating
- electroplate liquid
- plating
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
本发明公开了一种镀镓电镀液及镓薄膜的脉冲电镀方法;其中,镀镓电镀液由如下浓度的组分组成:氯化N-正丙基吡啶500~700g.kg-1;无水氯化镓60~90g.kg-1;N-甲基吡啶烷酮0.5~2.5g.kg-1;乙二醇2.5~4.5g.kg-1;明胶2.5~4g.kg-1;氯化钠2.5~4.5g.kg-1;丙醇余量。本镀镓电镀液具有一些独特的性能,如较低的熔点、良好的导电性、可以忽略的蒸汽压、较宽的使用温度及特殊的溶解性等。
Description
技术领域
本发明涉及电镀领域,具体涉及一种镀镓用的电镀液,本发明还涉及用该电镀液制备镓薄膜的脉冲电镀方法。
背景技术
稀散金属是指一系列稀有金属元素,包括:镓(Ga)、铟(In)、铊(Tl)、锗(Ge)、硒(Se)、碲(Te)和铼(Re),稀散金属是我国的优势资源。从镓的用途看,其单质金属及合金具有许多特殊性能,是当今高新技术的支撑材料,已成为冶金、机械、化工、轻工、纺织、电子及医药等工业尤其是原子能、宇航、卫星通讯、能源等尖端技术领域内不可缺少的新兴材料。传统的冶炼、精炼及合金制备方法已不能完全满足当今生产稀散金属及其合金的需要,且传统的方法也存在不同程度的缺点,如高温操作、能耗高、环境污染严重等,因此需要寻求一种新的方法,一种环境友好的镀镓用电镀液的出现为此提供了一种新的可能。在电镀工业中,电镀液要作为电镀废物加以废弃处理,因此,额外产生环境污染和处理成本。采用新电镀液进行电镀时,购买电镀液需要消耗大量成本。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是针对技术现状提供一种环保、无污染的镀镓电镀液。
本发明解决上述技术问题所采用的技术方案为:一种镀镓电镀液,由如下浓度的组分组成:
优选的,镀镓电镀液由如下浓度的组分组成:
进一步优选,镀镓电镀液由如下浓度的组分组成:
一种使用上述镀镓电镀液制备镓薄膜的脉冲电镀方法,其特征在于,包括如下步骤:
a.按配比配制电镀液;
b.脉冲电镀,将电镀液注入电镀设备中,以铜片为阴极、纯金板为阳极,进行电镀,沉积在阴极铜片表面的膜即为镓薄膜,电镀的工艺条件为,电流密度为0.6~0.8A/dm2、频率为500~700Hz、占空比为1:7~1:11、电镀液温度为25~50℃、pH值为7.5~11.5。
其中,所述阴极与阳极之间的间隔距离为5~8cm。
其中,所述电镀用电源为单脉冲电镀电源。
其中,所述阳极中金的质量百分含量≥99.99%。
与现有技术相比,本发明的优点在于:本镀镓电镀液具有一些独特的性能,如较低的熔点、良好的导电性、可以忽略的蒸汽压、较宽的使用温度及特殊的溶解性等。另外,本发明使电镀液循环多次再利用成为可能,通过电镀液的循环使用,减少了电镀液废物、环境污染和处理成本。
具体实施方式
以下结合实施例对本发明作进一步详细描述。
实施例1
本实施例的镀镓电镀液,由如下浓度的组分组成:
使用本实施例镀镓电镀液的制备镓薄膜的脉冲电镀方法,包括如下步骤:
a.按配比配制电镀液;
b.脉冲电镀,将电镀液注入电镀设备中,以铜片为阴极、纯金板为阳极,进行电镀,沉积在阴极铜片表面的膜即为镓薄膜,电镀的工艺条件为,电流密度为0.6A/dm2、频率为500Hz、占空比为1:7、电镀液温度为25℃、pH值为7.5~11.5。
其中,阴极与阳极之间的间隔距离为5cm,电镀用电源为单脉冲电镀电源,阳极中金的质量百分含量≥99.99%。
实施例2
本实施例的镀镓电镀液,由如下浓度的组分组成:
使用本实施例镀镓电镀液制备镓薄膜的脉冲电镀方法,包括如下步骤:
a.按配比配制电镀液;
b.脉冲电镀,将电镀液注入电镀设备中,以铜片为阴极、纯金板为阳极,进行电镀,沉积在阴极铜片表面的膜即为镓薄膜,电镀的工艺条件为,电流密度为0.7A/dm2、频率为600Hz、占空比为1:9、电镀液温度为35℃、pH值为7.5~11.5。
其中,阴极与阳极之间的间隔距离为6.5cm,电镀用电源为单脉冲电镀电源,阳极中金的质量百分含量≥99.99%。
实施例3
使用本实施例镀镓电镀液制备镓薄膜的脉冲电镀方法,包括如下步骤:
a.按配比配制电镀液;
b.脉冲电镀,将电镀液注入电镀设备中,以铜片为阴极、纯金板为阳极,进行电镀,沉积在阴极铜片表面的膜即为镓薄膜,电镀的工艺条件为,电流密度为0.8A/dm2、频率为700Hz、占空比为1:11、电镀液温度为50℃、pH值为7.5~11.5。
其中,阴极与阳极之间的间隔距离为8cm,电镀用电源为单脉冲电镀电源,阳极中金的质量百分含量≥99.99%。
以上内容仅为本发明的较佳实施例,对于本领域的普通技术人员,依据本发明的思想,在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处,本说明书内容不应理解为对本发明的限制。
Claims (7)
1.一种镀镓电镀液,其特征在于,由如下浓度的组分组成:
2.根据权利要求1所述的镀镓电镀液,其特征在于,由如下浓度的组分成:
3.根据权利要求1所述的镀镓电镀液,其特征在于,由如下浓度的组分组成:
4.一种使用权利要求1至3中任一项所述的镀镓电镀液制备镓薄膜的脉冲电镀方法,其特征在于,包括如下步骤:
a.按配比配制电镀液;
b.脉冲电镀,将电镀液注入电镀设备中,以铜片为阴极、纯金板为阳极,进行电镀,沉积在阴极铜片表面的膜即为镓薄膜,电镀的工艺条件为,电流密度为0.6~0.8A/dm2、频率为500~700Hz、占空比为1:7~1:11、电镀液温度为25~50℃、pH值为7.5~11.5。
5.根据权利要求4所述的脉冲电镀方法,其特征在于:所述阴极与阳极之间的间隔距离为5~8cm。
6.根据权利要求4所述的脉冲电镀方法,其特征在于:所述电镀用电源为单脉冲电镀电源。
7.根据权利要求4所述的脉冲电镀方法,其特征在于:所述阳极中金的质量百分含量≥99.99%。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201510726925.9A CN105239114A (zh) | 2015-10-30 | 2015-10-30 | 一种镀镓电镀液及镓薄膜的脉冲电镀方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201510726925.9A CN105239114A (zh) | 2015-10-30 | 2015-10-30 | 一种镀镓电镀液及镓薄膜的脉冲电镀方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN105239114A true CN105239114A (zh) | 2016-01-13 |
Family
ID=55036926
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201510726925.9A Pending CN105239114A (zh) | 2015-10-30 | 2015-10-30 | 一种镀镓电镀液及镓薄膜的脉冲电镀方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN105239114A (zh) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101876082A (zh) * | 2010-05-13 | 2010-11-03 | 沈阳师范大学 | 离子液体氯化镓/氯化1-甲基-3-乙基咪唑体系电镀液 |
CN101942683A (zh) * | 2010-09-19 | 2011-01-12 | 西南科技大学 | 一种脉冲电镀工艺制备铋薄膜的方法 |
US20110036721A1 (en) * | 2008-02-05 | 2011-02-17 | Masahiko Kobayashi | Electrical Discharge Coating Method and Green Compact Electrode Used Therein |
CN101994139A (zh) * | 2010-12-08 | 2011-03-30 | 沈阳师范大学 | 稀散金属氯化镓/氯化1-甲基-3-丁基咪唑体系电镀液 |
CN103114316A (zh) * | 2013-03-01 | 2013-05-22 | 沈阳师范大学 | 一种环境友好的镀镓用电镀液 |
CN103628101A (zh) * | 2013-12-09 | 2014-03-12 | 沈阳师范大学 | 一种新型的镀镓用电镀液 |
-
2015
- 2015-10-30 CN CN201510726925.9A patent/CN105239114A/zh active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20110036721A1 (en) * | 2008-02-05 | 2011-02-17 | Masahiko Kobayashi | Electrical Discharge Coating Method and Green Compact Electrode Used Therein |
CN101876082A (zh) * | 2010-05-13 | 2010-11-03 | 沈阳师范大学 | 离子液体氯化镓/氯化1-甲基-3-乙基咪唑体系电镀液 |
CN101942683A (zh) * | 2010-09-19 | 2011-01-12 | 西南科技大学 | 一种脉冲电镀工艺制备铋薄膜的方法 |
CN101994139A (zh) * | 2010-12-08 | 2011-03-30 | 沈阳师范大学 | 稀散金属氯化镓/氯化1-甲基-3-丁基咪唑体系电镀液 |
CN103114316A (zh) * | 2013-03-01 | 2013-05-22 | 沈阳师范大学 | 一种环境友好的镀镓用电镀液 |
CN103628101A (zh) * | 2013-12-09 | 2014-03-12 | 沈阳师范大学 | 一种新型的镀镓用电镀液 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
李东光: "《金属表面处理剂配方手册》", 30 June 2015 * |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN101876082B (zh) | 离子液体氯化镓/氯化1-甲基-3-乙基咪唑体系电镀液 | |
CN101270490B (zh) | 稀散金属氯化铟/氯化1-甲基-3-丁基咪唑体系电镀液 | |
CN103114316B (zh) | 一种环境友好的镀镓用电镀液 | |
CN103628101B (zh) | 一种镀镓用电镀液 | |
CN101994139B (zh) | 稀散金属氯化镓/氯化1-甲基-3-丁基咪唑体系电镀液 | |
Tu et al. | Electrodeposition of aluminium foils on carbon electrodes in low temperature ionic liquid | |
CN103614762A (zh) | 一种镁合金微弧氧化黄色陶瓷膜的制备方法 | |
Wang et al. | Graphite induced periodical self-actuation of liquid metal | |
CN103334132A (zh) | 室温电沉积制备铝镁合金膜的方法 | |
CN102212842B (zh) | 化学镀镍老化液中镍的回收方法 | |
Su et al. | Recovery and reuse of spent ITO targets through electrochemical techniques | |
CN105239114A (zh) | 一种镀镓电镀液及镓薄膜的脉冲电镀方法 | |
CN104532293B (zh) | 化学镀镍废液中提纯镍的方法及镍提纯装置 | |
CN206052186U (zh) | 穿孔铜箔生箔机 | |
CN105063675A (zh) | 一种镀镓电镀液及镓薄膜的脉冲电镀方法 | |
CN105401183A (zh) | 一种镀镓电镀液及镓薄膜的脉冲电镀方法 | |
CN107287425B (zh) | 一种从金属混合物中分离铝金属的方法 | |
CN106853999B (zh) | 一种利用abs镀金属料生产高纯硝酸镍和铜粉的方法 | |
CN103436916B (zh) | 一种从低含铜废水中回收精铜的工艺及装置 | |
Ghanbari et al. | Fabrication and material characterization of copper and copper–CNT micropillars | |
CN107293816B (zh) | 一种分离锂离子电池的电极集流体与电极材料的物理方法 | |
CN102234811B (zh) | 从含碲化镉组件中回收碲的方法 | |
CN104018188A (zh) | 从电子元器件废腿中回收铜、钢和焊锡工艺 | |
CN104342553A (zh) | 一种处理印刷电路板的方法及装置 | |
Wang et al. | Direct electrodeposition of Ga and the simultaneous production of NaOH and NaHCO3 from carbonated spent liquor by membrane electrolysis |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20160113 |
|
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |