CN105234130A - 适用于可扰曲材料的等离子清洗装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种适用于可扰曲材料的等离子清洗装置,包括：真空腔体，置于真空腔体内并安装可绕曲材料的卷轮，等离子气体管道，传送可绕曲材料使得可绕曲材料得到均匀清洗的传送组件。本发明提供一种根据等离子体源结构设计的清洗装置，可以方便且高效的获得高密度等离子体，实现对可扰曲材料的高效且全面的清洗。

Description

适用于可扰曲材料的等离子清洗装置
技术领域
一种清洗装置，特别是一种适用于可扰曲材料的等离子清洗装置。
背景技术
等离子体技术已被广泛应用于半导体领域，现有的离子源主要包括考夫曼离子源、射频离子源、冷阴极离子源和无栅离子源，这些离子源的最大特点是可以将离子从等离子体源引出并施加到需要的基材上，但是针对可扰曲的材料我们完全不必大费周章地将离子从离子源引出而同样达到清洗的目的。为此，我们提出了一种全新的等离子体源结构并设计了相应的清洗装置，可以方便地获得高密度等离子体，实现对可扰曲材料的高效清洗。
发明内容
为解决现有技术的不足，本发明的目的在于提供一种根据等离子体源结构设计的清洗装置，可以方便且高效的获得高密度等离子体，实现对可扰曲材料的高效且全面的清洗。
为了实现上述目标，本发明采用如下的技术方案：
适用于可扰曲材料的等离子清洗装置,包括：真空腔体，置于真空腔体内并安装可绕曲材料的卷轮，等离子气体管道，传送可绕曲材料使得可绕曲材料得到均匀清洗的传送组件。
前述的适用于可扰曲材料的等离子清洗装置,传送组件包括：至少一个等离子源轴；等离子气体管道的出口对准等离子源轴的可绕曲材料。
前述的适用于可扰曲材料的等离子清洗装置,传送组件包括：两个平行放置的等离子源轴；可扰曲材料的正反两面分别紧贴一个等离子源轴的上端和另一个等离子源轴的下端。
前述的适用于可扰曲材料的等离子清洗装置,等离子源轴包括：不锈钢外圆筒，置于不锈钢外圆筒内的不锈钢内圆筒，置于不锈钢内圆筒内的铁质磁靴，置于铁质磁靴上的磁体。
前述的适用于可扰曲材料的等离子清洗装置,不锈钢外圆筒和不锈钢内圆筒之间设有空隙。
前述的适用于可扰曲材料的等离子清洗装置,空隙的厚度为0.1mm~3mm。
前述的适用于可扰曲材料的等离子清洗装置,磁体的置于靠近可扰曲材料的铁质磁靴一侧。
前述的适用于可扰曲材料的等离子清洗装置，等离子气体管道正对于等离子源轴的方向开有一条通风缝隙。
前述的适用于可扰曲材料的等离子清洗装置，通风缝隙的宽度为1-1000um。
本发明的有益之处在于：本发明提供一种根据等离子体源结构设计的清洗装置，可以方便且高效的获得高密度等离子体，实现对可扰曲材料的高效且全面的清洗。
附图说明
图1是本发明的一种实施例的截面示意图；
图2是本发明等离子源轴的一种实施例的截面示意图；
图中附图标记的含义：
1真空腔体，2卷轮，3等离子气体管道，4等离子源轴，41不锈钢外圆筒，42不锈钢内圆筒，43铁质磁靴，44磁体，45空隙，5可扰曲材料。
具体实施方式
以下结合附图和具体实施例对本发明作具体的介绍。
适用于可扰曲材料5的等离子清洗装置,包括：真空腔体1，置于真空腔体1内并安装可绕曲材料的卷轮2，等离子气体管道3，传送可绕曲材料使得可绕曲材料得到均匀清洗的传送组件。等离子气体管道3正对于等离子源轴4的方向开有一条通风缝隙；通风缝隙的宽度为1-1000um；这样的设计可以使清洗气体均匀吹向紧贴在等离子源轴4上的可扰曲材料5上。
传送组件包括：至少一个等离子源轴4；等离子气体管道3的出口对准等离子源轴4的可绕曲材料。作为另一种实施例，传送组件包括：两个平行放置的等离子源轴4；可扰曲材料5的正反两面分别紧贴一个等离子源轴4的上端和另一个等离子源轴4的下端。需要说明的是，等离子源轴4的数量是没有限制的，作为一种优选，选用两个。
等离子源轴4包括：不锈钢外圆筒41，置于不锈钢外圆筒41内的不锈钢内圆筒42，置于不锈钢内圆筒42内的铁质磁靴43，置于铁质磁靴43上的磁体44。不锈钢外圆筒41和不锈钢内圆筒42之间设有空隙45。空隙45的厚度为0.1mm~3mm。磁体44的置于靠近可扰曲材料5的铁质磁靴43一侧。
可扰曲材料5的等离子清洗装置在工作时，可以选择在真空腔体1后直接接上后续处理腔体，以磁控溅射镀膜为例，可扰曲材料5经过等离子体处理后直接进入后续腔体镀膜，镀完膜后再在同一真空腔体1内通过卷轮2将其卷起，实现同一真空的等离子清洗和镀膜。参考图1，卷轮2和等离子源轴4都为从动装置，在可扰曲材料5的带动下转动。等离子体源轴上接入射频电源，且空隙45内通入冷却水冷却，不锈钢内圆筒42作为定子不发生转动。当可扰曲材料5分别经过等离子体源轴时则实现了等离子轰击清洗。如果只需要清洗一个面，则可以使用一个等离子源轴4。根据以上原理，本发明提供一种根据等离子体源结构设计的清洗装置，可以方便且高效的获得高密度等离子体，实现对可扰曲材料5的高效且全面的清洗。
以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和优点。本行业的技术人员应该了解，上述实施例不以任何形式限制本发明，凡采用等同替换或等效变换的方式所获得的技术方案，均落在本发明的保护范围内。

Claims (7)

1.适用于可扰曲材料的等离子清洗装置,其特征在于，包括：真空腔体，置于上述真空腔体内并安装可绕曲材料的卷轮，等离子气体管道，传送上述可绕曲材料使得上述可绕曲材料得到均匀清洗的传送组件。
2.根据权利要求1所述的适用于可扰曲材料的等离子清洗装置,其特征在于，上述传送组件包括：至少一个等离子源轴；上述等离子气体管道的出口对准上述等离子源轴的可绕曲材料。
3.根据权利要求1所述的适用于可扰曲材料的等离子清洗装置,其特征在于，上述传送组件包括：两个平行放置的等离子源轴；上述可扰曲材料的正反两面分别紧贴上述一个等离子源轴的上端和另一个等离子源轴的下端。
4.根据权利要求1所述的适用于可扰曲材料的等离子清洗装置,其特征在于，上述等离子源轴包括：不锈钢外圆筒，置于上述不锈钢外圆筒内的不锈钢内圆筒，置于上述不锈钢内圆筒内的铁质磁靴，置于上述铁质磁靴上的磁体。
5.根据权利要求4所述的适用于可扰曲材料的等离子清洗装置,其特征在于，上述不锈钢外圆筒和不锈钢内圆筒之间设有空隙，上述空隙厚度为0.1mm~3mm。
6.根据权利要求4所述的适用于可扰曲材料的等离子清洗装置,其特征在于，上述磁体置于靠近可扰曲材料的铁质磁靴一侧。
7.根据权利要求1所述的适用于可扰曲材料的等离子清洗装置,其特征在于，上述等离子气体管道正对于上述等离子源轴的方向开有一条通风缝隙，上述通风缝隙的宽度为1-1000um。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108176679A (zh) * 2017-12-28 2018-06-19 深圳市鑫承诺环保产业股份有限公司 一种金属薄膜在线清洗方法
CN110788084A (zh) * 2019-11-08 2020-02-14 江苏上达电子有限公司 一种适用于卷对卷cof基板的等离子清洗方法

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1411920A (zh) * 2001-10-18 2003-04-23 松下电器产业株式会社 负压等离子体装置及负压等离子体清洗方法
JP2003220372A (ja) * 2002-01-31 2003-08-05 Hitachi High-Tech Instruments Co Ltd プラズマ洗浄装置
CN101348896A (zh) * 2008-08-27 2009-01-21 浙江大学 卷绕式双面镀膜设备
CN101402095A (zh) * 2008-09-09 2009-04-08 上海拓引数码技术有限公司 等离子体表面清洗装置
CN102197159A (zh) * 2008-11-05 2011-09-21 株式会社爱发科 卷绕式真空处理装置
CN102605338A (zh) * 2012-02-23 2012-07-25 珠海宝丰堂电子科技有限公司 具有纠偏功能的处理卷性材料的等离子处理设备
CN103114272A (zh) * 2011-11-17 2013-05-22 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 圆柱磁控溅射阴极
CN205413806U (zh) * 2015-10-22 2016-08-03 苏州求是真空电子有限公司 适用于可扰曲材料的等离子清洗装置

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1411920A (zh) * 2001-10-18 2003-04-23 松下电器产业株式会社 负压等离子体装置及负压等离子体清洗方法
JP2003220372A (ja) * 2002-01-31 2003-08-05 Hitachi High-Tech Instruments Co Ltd プラズマ洗浄装置
CN101348896A (zh) * 2008-08-27 2009-01-21 浙江大学 卷绕式双面镀膜设备
CN101402095A (zh) * 2008-09-09 2009-04-08 上海拓引数码技术有限公司 等离子体表面清洗装置
CN102197159A (zh) * 2008-11-05 2011-09-21 株式会社爱发科 卷绕式真空处理装置
CN103114272A (zh) * 2011-11-17 2013-05-22 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 圆柱磁控溅射阴极
CN102605338A (zh) * 2012-02-23 2012-07-25 珠海宝丰堂电子科技有限公司 具有纠偏功能的处理卷性材料的等离子处理设备
CN205413806U (zh) * 2015-10-22 2016-08-03 苏州求是真空电子有限公司 适用于可扰曲材料的等离子清洗装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108176679A (zh) * 2017-12-28 2018-06-19 深圳市鑫承诺环保产业股份有限公司 一种金属薄膜在线清洗方法
CN110788084A (zh) * 2019-11-08 2020-02-14 江苏上达电子有限公司 一种适用于卷对卷cof基板的等离子清洗方法

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