CN105224150A - 触控面板 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种触控面板，其包括一第一电极层和一第二电极层，该第一电极层与第二电极层分别包括多个在第一方向上平行排列的第一电极串与多个在第二方向上平行排列的第二电极串，一第一电极串包括多个第一导电单元与多个第一导接线，第一电极串上的第一导电单元之间通过多个第一导接线在第一方向上串联，一第二电极串包括多个第二导电单元与多个第二导接线，一第二电极串上的第二导电单元之间通过多个第二导接线在第二方向上串联，第一电极层与第二电极层为纳米银线导电层，第一导电单元与第二导电单元之间互补设置。该触控面板可有效降低纳米银线所存在的雾度问题。

Description

触控面板

【技术领域】

本发明涉及触控技术领域，特别涉及一种触控面板。

【背景技术】

在传统智能手机，如iphone等的电容式触控面板中，触控电极的材料通常为氧化铟锡(简称为ITO)。ITO的透光率很高，导电性能较好。但随着触控面板尺寸的逐步增大，特别是应用于15寸以上的面板时，ITO的缺陷越来越突出，其中最明显的缺陷就是ITO的面电阻过大，价格昂贵，无法保证大尺寸触控面板良好的导电性能与足够的灵敏度，也无法适用于电子产品不断低价化的发展趋势。

另外，在制造方法上，原来的ITO需要真空腔、较高的沉积温度和/或高退火温度以获得高传导性，造成ITO的整体制作成本非常昂贵。而且，ITO薄膜非常脆弱，即使在遇到较小物理应力的弯曲也非常容易被破坏，因此在可穿戴设备逐渐崛起的新兴产品市场的浪潮下，ITO材料作为导电材料已无法不能应付市场的需求而逐渐被淘汰。

鉴于ITO存在的价格昂贵，电阻高，工艺复杂，抗损性能差，光学表现欠佳等缺点，要使触控面板产业更加快速的发展，那么，我们确实急切需要寻找一种新的材料来替代ITO，这时，业界不得不把目光投向另一种替代ITO的材料：纳米银线(silvernanowires，简称SNW)。SNW是诸多ITO替代材料目前最为成熟的一种。纳米银线具有银优良的导电性，同时由于其纳米级别的尺寸效应，使得其具有优异的透光性与耐曲挠性，因此可用作为优选地替代ITO作为触控电极的材料。

然而，由于纳米银线的反光率较高，采用纳米银线导电膜作为触控电极时，触控面板在视觉上会出现白雾现象，SNW离人眼越近，反光越明显，雾度问题也就越突出。特别是在双层电极结构中，当两层电极材料均为SNW时，这种雾度问题会更为严重。

总地来说，纳米银线导电材料的出现给触控面板产业带来了曙光，但如何克服纳米银线存在的雾度问题，则还值得业界进一步研究。

【发明内容】

为克服现有纳米银线替代ITO作为新的导电材料存在的雾度严重的问题，本发明提供了一种新式触控面板。

本发明解决上述技术问题的技术方案是：提供一种触控面板，其包括：一第一电极层，其布设于第一基板上，该第一电极层包括多个在第一方向上平行排列的第一电极串，该第一电极串包括多个第一导电单元与多个第一导接线，该第一导电单元之间通过该多个第一导接线在第一方向上串联，两两相邻的第一导电单元界定一第一镂空区；一第二电极层，布设于第二基板上，该第二电极层包括多个在第二方向上平行排列的第二电极串，该第二电极串包括多个第二导电单元与多个第二导接线，该第二导电单元之间通过该多个第二导接线在第二方向上串联；该第一电极层与该第二电极层为纳米银线导电层，所述第二导电单元位于第一镂空区在第二电极层上的垂直投影区。

优选地，第二导电单元与第一导电单元之间形状互补。

优选地，所述第一电极层比第二电极层更靠近触控操作面，所述第二导电单元的面积大于所述第一导电单元的面积。

优选地，所述第二导电单元面积为A，所述第一导电单元面积为B，1.5≤A/B≤8。

优选地，所述第一基板为盖板，所述盖板包括一触控操作面与一元件安装面，所述第一电极层布设于所述元件安装面上。

优选地，更包括一盖板，所述盖板包括一触控操作面与元件安装面，所述第一基板位于所述元件安装面与所述第二基板之间。

优选地，所述第一电极层位于所述第一基板与所述第二基板之间，所述第二电极层设于所述第二基板远离所述元件安装面的一侧。

优选地，所述第一电极层与所述第二电极层两侧可设置增粘层，平整层，光学匹配层之中的一层或多层，增粘层，平整层，光学匹配层之中的两或三层可设置在第一电极层或第二电极层的同侧或异侧，光学匹配层，增粘层和平整层三者之间位置可互换。

优选地，所述第一基板与所第二基板之间通过贴合层贴合，该贴合层的折射率为1.52-1.79。

优选地，所述纳米银线导电层包括一基质及分布于所述基质中的多条纳米银线，所述多条纳米银线相互搭接形成导电网络，所述纳米银线导电层的厚度为50nm-200nm，折射率为1.35-1.8。

优选地，所述第一电极层与第二电极层通过双边走线连接至柔性电路板，该走线材料为纳米银线导电层且与该走线与所连接的第一电极层或第二电极层一体成型。

优选地，两两相邻的第二导电单元界定一第二镂空区，第一镂空区与第二镂空区内设置有补偿电极，该补偿电极为纳米银线导电层。

优选地，两第一电极串之间或两第二电极串之间的补偿电极相互联通或彼此独立设置。

与现有技术相比，本发明触控面板的触控电极是通过将纳米银线溶液涂布成纳米银线导电层后，经过工艺处理所形成。纳米银线之间通过搭接形成导电网络，纳米银线作为触控电极导电材料具有价格低，电阻低，挠性好等优点，尤其是纳米银线导电层非常薄，其能以不同型材作为承载层，其在一定程度上使触触控面板变得更薄成为可能。重要的是本实施例中第一导电单元与第二导电单元分别在同一水平面上的垂直投影之间没有重叠区域，第二导电单元位于第一镂空区在第二电极层上的垂直投影区，第一导电单元位于第二镂空区在第一电极层上的垂直投影区。即光线垂直于穿过触控面板时，最多只会穿过一层纳米银线导电层，这样可有效降低纳米银线所产生的雾度问题。最佳方式是第一电极层与第二电极层互补设置，从触控面板的正面的叠加效果来看，相当于用一层电极实现了两层电极的配置。这样，光线穿过触控面板时，只穿过一层电极层，介质折射率大体保持不变，光线分布相对均匀，其可有效降低光线的折射与散射，从而降低纳米银线的雾度，提高透光性，使得触控面板有较好的光学表现。

特别地，在本实施例中，第二导电单元的面积大于等于第一导电单元的面积，在满足此条件的状态下，第二导电单元可以有效地屏蔽来自触控面板下方显示模组的干扰信号，其使得触控面板触控精度与触控稳定度得到进一步提升。

在第一电极层与第二电极层互补设置的情况下，其对工艺的精度非常高的要求，尤其是在第一电极串或第二电极串的线宽非常小的情况下，传统的ITO导电材料所制作的电极图案难以要达到此精度要求，就算可以，其则必须采用黄光工艺，黄光工艺制程复杂，设备成本高，其在一定程度上阻碍了触控电极互补的实现，而本实施例中触控电极采用纳米银线导电层，其在满足精度的前提下可以采用简单的涂布或转印工艺代替传统ITO黄光工艺，其简化了触控面板的制作工艺的同时，设备成本降低，其使得更多的生产企业能够进入触控面板制造业。

【附图说明】

图1是本发明纳米银线薄膜的截面结构示意图。

图2是本发明纳米银线薄膜的平面示意图。

图3是本发明第一实施例触控面板层状结构示意图。

图4是本发明第一实施例触控面板层状结构爆炸示意图，该触控面板包括一第一电极层与一第二电极层。

图5是图4中第一电极层的平面示意图，该第一电极层包括多个第一电极串。

图6是图4中第一电极层与第二电极层叠加效果的平面结构示意图。

图7是图5中第一电极层的走线结构示意图。

图8是图5中第一第一电极串的变形结构一的结构示意图。

图9是图5中第一第一电极串的另一变形结构的结构示意图。

图10是本发明第二实施例触控面板层状结构示意图。

图11是本发明第二实施例触控面板层状结构爆炸示意图。

图12是本发明第三实施例触控面板层状结构立体示意图，该触控面板包括一第一电极层与一第二电极层，该第一电极层上设置有第一补偿电极。

图13是图12中第一电极层的平面示意图。

图14是图12中第一电极层变形结构一平面示意图。

图15是图14中第一电极层和第二电极层叠加效果的平面示意图。

图16是图12中第一电极层变形结构二平面示意图。

图17是图16中第一电极层和第二电极层叠加效果的平面示意图。

图18是图12中第一电极层变形结构三平面示意图。

图19是图12中第一电极层变形结构四平面示意图。

图20是本发明第四实施例触控面板层状结构示意图，其进一步包括一增粘层。

图21是本发明第五实施例四触控面板的层状结构示意图，其进一步包括一平整层。

图22是本发明第六实施例触控面板的层状结构示意图，其进一步包括一光学匹配层。

图23是本发明第七实施例触控面板的层状结构示意图，其进一步包括一增粘层，一平整层与一光学匹配层。

【具体实施方式】

为了使本发明的目的，技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施实例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

请参阅图1与图2，系纳米银线导电薄膜800的剖切结构示意图，其包括衬底807和制作在衬底807上的纳米银线导电层805，纳米银线导电层805包括嵌入在基质803中的多根纳米银线801，纳米银线801排布在基质803中相互搭接形成导电网络。纳米银线801(silvernanowires，简称SNW)的线长为10-300μm，优选20-100μm，最好其长度20-50μm，纳米银线801的线径(或者说线宽)小于500nm或小于200nm，100nm，优选为小于50nm，且其长宽比(线长与线径之比)大于10，优选大于50，更优选大于100。

衬底807一般为透明绝缘材料，可以是玻璃、聚酰亚胺(Polyimide，PI)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚碳酸酯(PC)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)等，但并不以此为限。

银在一般状态下为银白色金属，且为不透明材料，导电性极佳。而银制成纳米银线801时，纳米银线801具有良好的透光率和极佳的导电性，能够很好的运用于触控面板的触控电极。

基质803是指含纳米银线801的溶液在经过涂布等方法设置在衬底807上，经过加热烘干使得易挥发的物质挥发后，留在衬底807上的非纳米银线物质。纳米银线801散布或嵌入其中，形成导电网络，部分纳米银线801从基质803材料中突出。纳米银线801依靠基质803形成纳米银线导电层805，基质803可以保护纳米银线801免受腐蚀、磨损等外界环境的影响。

纳米银线导电层805的厚度约为10nm-5μm，优选为20nm-1μm，更优为50nm-200nm。在一些实施例中，纳米银线导电层805的折射率为1.3-2.5，更优为1.35-1.8。

含纳米银线801的溶液是指，纳米银线801分散在特定的溶剂里而形成的悬浮溶液，该溶剂可以是水、水溶液、有机溶剂、无机溶剂、离子溶液、含盐溶液、超临界流体、油或其混合物等。该溶剂里还含有其它添加剂，如分散剂、表面活性剂、交联剂、润湿剂或增稠剂，但不以此为限。

此外，可通过选择适当的基质803材料来调整纳米银线导电层805的光学特性，特别是解决雾度问题。例如，可以将基质803调整为具有期望的折射率、组成元素和一定的厚度，都可以有效地减少反射损耗、眩光影响、雾度。

雾度是指由于纳米银线导电层805中的纳米银线801表面光漫射造成的云雾状或混浊的外观。屏幕的雾度问题会导致在室外场景光线照射的情况下，屏幕反射光强烈，严重的时候会使得用户看不清屏幕。

纳米银线导电层805的透光率或清晰度可由以下参数定量的限定：透光率和雾度。透光率是指通过介质传输的入射光的百分比，纳米银线导电层805的透光率至少为90％，甚至可以高达91％-95％。雾度是光漫射的指数，雾度是指入射光中分离出来并在传输的过程中散射的光的数量百分比。透光率在很大程度上是透光介质的性质，与之不同的是，雾度经常和产品有关，且典型地是由表面粗糙度和介质中的嵌入粒子或组份的不均匀性导致的。在本发明的实施例中雾度不会超过3％，甚至可以达到不超过1.5％。

请参阅图3和图4，本发明的第一实施例的触控面板10从上至下(在所有实施例中，上、下、左右等位置限定词仅限于指定视图上的相对位置，而非绝对位置)包括一上基板11，一第一电极层13，一第二电极层16，第一电极层13和第二电极层16分别成型于第一基板14上表面与第二基板17上表面，第一基板14与第二基板17分别是第一电极层13和第二电极层16的承载层。第一基板14与第二基板17之间通过一贴合层15实现两者之间的贴合，贴合层15具有介电性，其将第一电极层13和第二电极层16进行绝缘设置。上基板11上表面为触控笔或手指的接触面，第二基板17的下表面可以用于依附显示模组。

上基板11可以认定为我们传统触控面板10上的触摸盖板，所谓的盖板包括一触控操作面与一元件安装面，其触控操作面用于手指或触控笔等进行触控操作，元件安装面则用于安装触控电极元件或显示模组等，上基板11材质可以是玻璃，强化玻璃，蓝宝石，PEEK(polyetheretherketone聚醚醚酮)，PI(Polyimide聚酰亚胺)，PET(polyethyleneterephthalate聚对苯二甲酸乙二醇酯)，PC(聚碳酸酯聚碳酸酯)，PES(聚丁二酸乙二醇酯，PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯polymethylmethacrylate)及其任意两者的复合物等材料。

第一电极层13与第二电极层16为纳米银线导电层805。

贴合层15可以选用OCA(光学透明胶，OpticalClearAdhesive)或LOCA(液态光学透明胶，LiquidOpticalClearAdhesive)。特别地，为了优化触控面板10的光效果，贴合层15为一高折射率层，其折射率为1.52-1.79，优选为1.7以使采用纳米银线导电层805做成的第二电极层16和/或第一电极层13可以将雾度降低到5％以下，最佳可以降低到3％，2％，1.5％。

第一基板14和/或第二基板17的材质可以是柔性基材也可以是刚性基材，如玻璃，强化玻璃，蓝宝石玻璃，PI(聚酰亚胺)，PC(聚碳酸酯)，聚醚砜(PES)，聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、压克力、聚丙烯腈-丁二烯-苯乙烯(ABS)、聚酰胺(PA)、聚苯并咪唑聚丁烯(PB)、聚对苯二甲酸丁二醇酯(PBT)、聚酯(PE)、聚醚醚酮(PEEK)、聚醚酰亚胺(PEI)、聚醚酰亚胺、聚乙烯(PE)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚苯乙烯(PS)、聚四氟乙烯(PTFE)、聚氨酯(PU)、聚氯乙烯(PVC)等。

请参阅图5和图6，第一电极层13包括多个在第一方向上(以下简称X方向)平行等间距排列的第一电极串131。第一电极串131包括多个第一导电单元133，第一导电单元133为菱形，第一导电单元133之间通过多个第一导接线135实现串联，在两两相邻的第一导电单元133之间包括一第一镂空区137。

第二电极层16同样包括多个在第二方向上(以下简称Y方向)平行等间距排列的第二电极串161，第二电极串161包括多个第二导电单元163，第二导电单元163为菱形，第二导电单元163之间通过多个第二导接线165实现串联，在两两相邻的第二导电单元163之间包括一第二镂空区167。本实施例中X与Y方向正交，但X和Y夹角角度不作限定。

第一电极串131以及第二电极串161分别为纳米银导电层805通过激光蚀刻，图案化后形成，亦可采用其他的蚀刻方式，如黄光工艺、电弧高频感应蚀刻等。亦可将纳米银线溶液通过印刷、卷对卷(Roll-to-Roll)，压印方式直接形成。以下以第一电极层13为例来对触控电极的工艺做一个叙述，第一电极层13制作工艺如下：

步骤一：将纳米银线801溶液涂布在第一基板14的表面，形成纳米银线导电层805。该涂布方式可以但不限定为喷墨，撒播，凹版印刷，凸版印刷，柔印，纳米压印，丝网印刷，刮刀涂布，夹缝式涂布(slotdiecoating)，旋转涂布，棒状涂布，滚筒涂布，线棒涂布，浸渍涂布。

步骤二：通过激光镭射将纳米银线导电层805蚀刻形成相应的纳米银线801电极图案；由于纳米银线导电层805为透明基质803中嵌入了许多的纳米银线801，部分纳米银线801一端位于基质803内部，另一端凸起于基质803表层，在激光镭射工艺中，激光照射在纳米银线导电层805上，由于激光完全穿透基质803，而无法穿透非完全透明的纳米银线801，凸起于基质803表面的纳米银线801在接收到激光照射的能量后被气化，留下复数纳米级通道(图未示)，同时，位于基质803层内部的纳米银线801气化后经由所述的复数纳米级通道传输离开基质803，这样，便可以在纳米银线导电层805中蚀刻出对应的导电区——第一电极串131所在区域与非导电区——第一镂空区137，第一镂空区137并非完全镂空，只是该区域内的SNW被气化，只剩下基质803。由于第一镂空区137内还保留有基质803，其使得第一镂空区137内的材质与第一电极串131的材质较为接近，其折射率也相近，故，其使得整个触控面板10的光学效果表现较佳，克服了光线射入触控面板10时，因为界面材质折射率差异大而引起的光线不均匀以及触控电极图案浮现的问题。当然，在形成第一电极层13图案的过程中，也可以直接将第一镂空区137完全蚀刻掉，即第一镂空区132内的纳米银线导电层805完全被蚀刻掉，无基质803存在。也可只将第一镂空区132与第一导电单元133邻接边缘中的纳米银线801激光蚀刻掉，只留下基质803，即将第一导电单元133与第一镂空区137电性隔离。

从触控面板10的正面看过去，第一电极层13上的第一导电单元133与第二电极层16上的第二导电单元163分别在其平行面上的垂直投影无重叠区域，第一导电单元133刚好设置在第二镂空区167内，即第二导电单元163位于第一镂空区137在第二电极层16上的垂直投影区，第一导电单元133位于第二镂空区167在第一电极层13上的垂直投影区。第一导电单元133的形状根据两两相邻的第二导电单元163所确定的第二镂空区167形状设置，也就是第一导电单元133与第二导电单元163互补设置。这样，第二导电单元163也刚好设置在第一镂空区137内。从触控面板10的正面的叠加效果来看，相当于用一层纳米银导电层805实现了两层电极的配置。

第一导电单元133与第二导电单元163互补设置，假定第二导电单元163的面积为A，第一导电单元的133的面积为B，第二导电单元163的面积大于等于第一导电单元133的面积，即A≥B，最佳地，1≤A/B≤25，优选1.2≤A/B≤18，特别优选为1.5≤A/B≤8或A/B＝4。在第二导电单元163的面积大于等于第一导电单元133的面积时，第二导电单元163可以有效地屏蔽来自触控面板10下方显示模组的干扰信号。在满足1≤A/B≤25或的条件下，其屏蔽效果非常好。在满足1.5≤A/B≤8或A/B＝4的时候，其屏蔽效果最佳。

请参阅图7，本发明触控面板10还包括连通触控电极与外部柔性电路板(简称FPC)的走线139，此处以第一电极层13为例来进行说明(第二电极层16同样适用)，走线139将第一电极串131电性连接至FPC，在本实施例中的采用的是双边走线139：走线139包括第一走线1391和第二走线1393，第一走线1391和第二走线1393处在同一平面上并连接于第一电极串131两端，第一走线1391和第二走线1393另一端均电性连接至FPC，也就是同一第一电极串131通过了第一走线1391与第二走线1393连接到了FPC，其采用双边走线139可以加强传输信号，减弱信号衰减，同时第一走线1391和第二走线1393的其中之一断裂，触控面板10也仍能实现信号传输。

第一走线1391和第二走线1393宽度大约为10um-35um，两第一走线1391，两第二走线1393线距为10um-35um，因此走线1042的宽度和间距都比较小，走线139在第二电极层16和第一电极层13周围所占的区域很小，在触控面板10面积不变的情况下，其使得可触控区域面积增加，走线139材料采用纳米银线导电层805等透明导电材料时，上基板11的两边无需做涂覆边框来遮蔽周围区域的走线139，其可触控区域增加，走线139区域减少，因此上基板11至少两边可以做成无边框设计，走线139区域趋近于上基板11的边缘区域，用户不太会触控到，无边框触控面板10使得用户视觉上更开阔，增加用户体验。走线139可以与第一电极层13或第二电极层16一体成型制作，即在同一道工序中采用相同工艺制作形成。

与现有技术相比，本发明触控面板10的触控电极是通过将纳米银线溶液涂布成纳米银线导电层805后，经过工艺处理所形成。纳米银线801之间通过搭接形成传导网络，纳米银线801作为触控电极导电材料具有价格低，电阻低，挠性好等优点，尤其是纳米银线导电层805非常薄，其能以不同型材作为承载层，其在一定程度上使触控面板10变得更薄成为可能。重要的是本实施例中第一导电单元133与第二导电单元163分别在同一平行面上的垂直投影没有重叠区域，第二导电单元163位于第一镂空区137在第二电极层16上的垂直投影区，即第一导电单元133位于第二镂空区167在第一电极层13上的垂直投影区。即光线垂直于穿过触控面板10时，最多只会穿过一层纳米银线导电层805，这样可有效降低纳米银线801所产生的雾度问题。最佳方式是第一电极层13与第二电极层16互补设置，从触控面板10的正面的叠加效果来看，相当于用一层电极实现了两层电极的配置。这样，光线穿过触控面板10时，只穿过一层电极层，介质折射率大体保持不变，光线分布相对均匀，其可有效降低光线的折射与散射，从而降低纳米银线801的雾度，提高透光性，使得触控面板10有较好的光学表现。

特别地，在本实施例中，第二导电单元163的面积大于等于第一导电单元133的面积，在满足此条件的状态下，第二导电单元163可以有效地屏蔽来自触控面板10下方显示模组的干扰信号，其使得触控面板10触控精度与触控稳定度得到进一步提升。

在第一电极层13与第二电极层16互补设置的情况下，其对工艺的精度非常高的要求，尤其是在第一电极串131或第二电极串161的线宽非常小的情况下，传统的ITO导电材料所制作的电极图案难以要达到此精度要求，就算可以，其则必须采用黄光工艺，黄光工艺制程复杂，设备成本高，其在一定程度上阻碍了触控电极互补的实现，而本实施例中触控电极采用纳米银线导电层805，其在满足精度的前提下可以采用简单的涂布或转印工艺代替传统ITO黄光工艺，其简化了触控面板10的制作工艺的同时，设备成本降低，其使得更多的生产企业能够进入触控面板10制造业。

总的来说，本实施例中的触控面板10光学表现佳，制造成本低，触控灵敏度好等优点，其具有非常好的产业前景。

本实施例还可以包括以下变形：

第一电极层13可设置在第一基板14的上表面或下表面，和/或第二电极层16也可设置在第二基板17的上表面或下表面。由于纳米银线801离人眼越近，反光越明显，雾度问题也就越突出，故，在保证触控灵敏度的情形下，较佳地，第一电极层13设置在第一基板14的下表面，第二电极层16设置在第二基板17的下表面，也就是当上基板11为盖板时，第一基板14位于所述元件安装面与所述第二基板17之间，第一电极层13位于所述第一基板14与所述第二基板17之间，所述第二电极层16设于所述第二基板17远离所述元件安装面的一侧。

请参阅图8，第一电极串131的变形结构一如下：该第一电极串231包括两条感应子电极串232，两条感应子电极串232一端电性连接，感应子电极串232中的多个第一导电单元233通过第一导接线235串联，两两相邻的第一导电单元233之间同样包括一第一镂空区237。由于一第一电极串231包括两条感应子电极串232，故，即使其中一条因静电等原因出现断线现象，其所在的第一电极串231仍能够正常工作。

单条第一电极串231包括的感应子电极串232的条数不限定于一条或者两条，其还可以是多条。

请参阅图9，第一电极串131的另一变形结构在其变形一的基础上在两感应子电极串332之间设置有多个第一导接线335，该第一导接线335串接于Y方向上相邻的两第一导电单元333。

第一导电单元133，233，333的形状不限定于本实施例中所描述的菱形，其也可以是矩形，三角形、六边形、多边形、波浪形或不规则图形等其他任意形状。第一电极串131的变形结构同样适用于第二电极串161。本发明中所有关于第一电极层13和/或第二电极层16的图案可以往任意方向延展。

第一电极层13与第二电极层16其中之一材料可选择使用其他材料，如氧化铟锡(IndiumTinOxide，ITO)、氧化锡锑(AntimonyDopedTinOxide，ATO)、氧化铟锌(IndiumZincOxide，IZO)、氧化锌铝(AluminumZincOxide，AZO)、聚乙撑二氧噻吩(PEDOT)、透明导电高分子材料、石墨烯或者碳纳米管中的任意一种材料或任意几种材料结合。在本实施例中最佳地，第一电极层13选择使用ITO材料，第二电极层16采用纳米银线导电层805。因为纳米银线801的雾度问题比较严重，而ITO不存在此问题，故，将ITO材料做在上层靠近触控面，纳米银线导电层805做在下层远离触控面，其在一定程度上解决纳米银线801的雾度问题。

走线139还可以采用不透明导电材料，在走线139靠近触控操作面侧印刷一层装饰层(图未视)，将不透明的走线覆盖掉，使触控面板10整体更加美观而不会感觉走线凌乱。

装饰层可选用油墨，光阻，非导电金属，PC-PMMA等复合材料，这些材料不透明，其可用于遮蔽走线139或触控面板10其他组件时，触控面板10为有边框触控面板10。

请参阅图10和图11，本发明的第二实施例的触控面板20与第一实施例触控面板10的区别之处仅在于：该第一电极层23直接设置在上基板21的下表面，也就是说，其相对于第一实施例，本实施例将第一电极层23的第一基板24去掉，将上基板21作为了第一电极层23的附着层。

第二电极层26可以设置在第二基板27的上表面或下表面。

请参阅图12和图13，本发明的第三实施例的触控面板40与第一实施例触控面板10或实施例二触控面板20的区别之处仅在于：该触控面板40第一电极层43进一步包括多个第一补偿电极438，第二电极层46进一步包括多个第二补偿电极468，该第一补偿电极438布设在第一基板44上，其位于第一电极层43上第一导电单元433之间所形成的第一镂空区437内，第一导电单元433与第一补偿电极438之间无重叠区域，即第一导电单元433与第一补偿电极438之间接设置有适当的间距，最佳地，第一补偿电极438根据第一镂空区438的形状设置，即第一补偿电极438与第一导电单元433互补。位于两第一电极串431之间的多个第一镂空区437内的第一补偿电极438相互联通。第一补偿电极438的面积小于第二导电单元463的面积，同样的，第二补偿电极468的面积小于第一导电单元433的面积。第一补偿电极438和第二补偿电极468厚度分别与第一电极层43以及第二电极层46保持一致。

第一补偿电极438可通过在第一基板44上进行第一电极串431生产制作工艺时，同时通过相同的生产工艺布设形成。

第一补偿电极438与第二补偿电极468材质与第一电极层43与第二电极层46的材质保持一致，其均为纳米银线导电层805。第一补偿电极438与第二补偿电极468为纳米银导电层805通过激光蚀刻，图案化后形成，亦可采用其他的蚀刻方式，如黄光工艺、电弧高频感应蚀刻等。亦可将纳米银线溶液通过印刷、卷对卷(Roll-to-Roll)，压印方式直接形成。

与现有技术相比，触控面板40的第一电极串431上的第一镂空区438与第二电极串461上的第二镂空区467上可以设置相应的补偿电极：第一补偿电极438和第二补偿电极468，补偿电极的材质与触控电极的材质相同。该补偿电极的设置使触控电极所在界面的不同区域的材质保持一致，其克服了当光线穿过触控面板时，容易受到不同界面材质折射率的影响，造成触控电极图案容易浮现与光线亮度不均匀等的问题，其使得触控面板40有较佳的光学表现。

请参阅图14和图15，第一补偿电极438还可以包括变形结构一，该变形实施例与其不同之处仅在于：位于两第一电极串531之间的多个第一补偿电极538之间相互独立，彼此没有联通，位于两第二电极串561之间的多个第二补偿电极568也相互独立。

请参阅图16和图17，第一补偿电极438还可以包括变形结构二，该变形实施例与其不同之处仅在于：第一补偿电极638的面积大小大于第二导电单元663的面积，同样的，第二补偿电极668的面积大于第一导电单元633的面积，即从电容式触控面板40的正面看过去，相邻第一补偿电极638与第二补偿电极668包括一交叠区域670，本变形实施例也可在保证第一补偿电极638的面积大于第二导电单元663的面积，第二补偿电极668的面积大于第一导电单元633的面积的情况下，将相邻第一补偿电极638与第二补偿电极668设置为没有交叠区域670的情形。

请参阅图18，第一补偿电极438还可以包括变形结构三，该变形实施例与第一补偿电极438变形结构二不同之处仅在于：位于两第一电极串731之间的第一补偿电极738之间相互联通。

请参阅图19，第一补偿电极438还可以包括变形结构四，该变形实施例与其不同之处仅在于：该第一补偿电极838设置在第一镂空区837与第二镂空区867的交叠区域870中。

第一补偿电极438，538，638，738，838也可以是氧化铟锡(IndiumTinOxide，ITO)、氧化锡锑(AntimonyDopedTinOxide，ATO)、氧化铟锌(IndiumZincOxide，IZO)、氧化锌铝(AluminumZincOxide，AZO)、聚乙撑二氧噻吩(PEDOT)、透明导电高分子材料、石墨烯或者碳纳米管等等。最佳地，第一补偿电极438，538，638，738，838材料和第一电极层43保持一致。

第一补偿电极438及其变形实施例的结构与工艺同样适用于第二补偿电极468，生产厂商根据需要设置第一补偿电极438和/或第二补偿电极468。

请参阅图20，在本发明第四实施例触控面板50与第一实施例触控面板10或第二实施例触控面板20或第三实施例触控面板40的不同之处仅在于：在第一基板54与第一电极层53之间，以及第二基板57与第二电极层56之间设置一增粘层581，故触控面板50从上至下包括一上基板51，一第一电极层53，一增粘层581，一第一基板54，一贴合层55，一第二电极层56，另一增粘层581与一第二基板57，以下以第一基板54与第一电极层53之间设置增粘层581来对增粘层581进行说明(第二基板57与第二电极层56之间设置增粘层581同样适用以下叙述)：第一电极层53贴附在第一基板54上，在第一基板54为可饶性柔性基板时，第一基板54由于受热或温度变化时产生形变而让第一电极层53无法良好的全面的覆盖在第一基板54的其中一表面上，在第一电极层53与第一基板54之间涂覆一层增粘层581，增粘层581的配置以减小可挠性基板在成膜制造工艺中产生翘曲的程度，增强纳米银线导电层805和第一基板54之间的附着力。

所述增粘层581的材料可以选自高分子聚合物、绝缘材料、树脂、透明光学胶、氧化物，类光阻等，包括但不限于：聚乙炔、聚苯胺、聚芳撑、聚噻吩、石墨烯、并五苯、聚苯撑醚(PPE)、聚对苯撑乙炔(PPV)、聚3，4-亚乙基二氧吩(PEDOT)、聚苯乙烯磺酸(PSS)、聚3-己基噻吩(P3HT)、聚3-辛基噻吩(P3OT)、聚芳醚砜、聚C-61-丁酸-甲酯(PCBM)、聚[2-甲氧基-5-(2-乙基-己氧基)-1，4-苯撑乙烯](MEH-PPV)、氮化硅、二氧化硅等物质或它们的任意组合。

所述增粘层581以流体的形式涂覆在第一基板54上方，所述流体可以是：水、水溶液、离子溶液、超临界流体、等离子体、油或者它们的任意组合。包括但不限于：水、丙酮、乙酸乙酯、乙醇、乙酸丁酯、戊醇、酚醛树脂、醇酸树脂、氢氧化钠、异丙醚(i-丙醚)、异丙醇、甲基乙基酮(或者MEK)、甲酸甲酯、甲基正丁酸酯、正丁醇、辛烷、石油醚、丙醇或者它们的任意组合。表面活性剂、分散剂、稳定剂或粘合剂也可以包括在流体中。

所述增粘层581流体涂覆在第一基板54上方的方法包括：溅镀、静电喷涂、逆转辊涂布、凹槽式涂布、夹缝式涂布、压印、热转印、迈耶棒(meyerrod)涂覆、旋涂、丝网印刷、照相凹版印刷、平板印刷、胶版印刷、喷墨印刷、凹版印刷，或者它们的任意组合。

与现有技术相比，由于成膜制造工艺中常伴随着温度的变化，而当第一基板54为可挠性基板时拥有较大的膨胀系数，升温、降温的过程中常会有显著的体积变化，从而使可挠性第一基板54产生第二弯曲方向的翘曲或变形，进而造成曝光或是聚焦不良的问题，增粘层581的配置以减小可挠性基板在成膜制造工艺中产生翘曲的程度，增强纳米银线导电层805和基材之间的附着力。

增粘层581除了以流体形式涂覆在第一基板54上之外，其本身还可以是固体薄膜的形式，即通过对固体薄膜式的增粘层581以加热滚压等的形式直接覆盖于第一基板54上方，这时增粘层581的材料包括但不限于：聚乙烯醇缩丁醛(PVB)、聚乙烯醇(PVA)、聚碳酸酯(PC)、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚甲基丙烯酸甲脂(PMMA)、玻璃纸等。

在本触控板面板50的变形中，可只在第一基板54上设置增粘层581，或只在第二基板57上设置增粘层581。

请参阅图21，本发明第五实施例触控面板60与第一实施例触控面板10或第二实施例触控面板20或第三实施例触控面板40的不同之处仅在于：本实施例中触控面板60在第一电极层63与第二电极层66上设置一平整层683，故，触控面板从上至下包括一上基板61，一平整层683，一第一电极层63，一第一基板64，一贴合层65，另一平整层683与一第二电极层66以及一第二基板67，以下以第一电极层63上设置平整层683来对平整层683进行说明(第二电极层66上设置平整层683同样适用以下叙述)：采用纳米银线导电层805材质的第一电极层13涂布在第一基板64上表面后，部分纳米银线从基质803材料中突出形成向上翘起的现象，整个第一电极层63的平整度较差，另外，基质803内部的纳米银线801之间也会存在上翘现象，其搭接不稳定，通过在第一电极层63上涂覆平整层683，并经过滚压工艺处理后，能够使纳米银线801之间的搭接面积增大从而提高纳米银线801的导电率和达到良好的表面平整度。所述平整层683位于第一电极层63上面，或优选的，第一电极层63在厚度方向上有部分嵌入平整层683中。

所述平整层683的材料可以选自高分子聚合物、绝缘材料、树脂、透明光学胶、氧化物，类光阻等，包括但不限于：聚乙炔、聚苯胺、聚芳撑、聚噻吩、石墨烯、并五苯、聚苯撑乙炔(PPE)、聚苯撑乙烯(PPV)、聚3，4-亚乙基二氧吩(PEDOT)、聚苯乙烯磺酸(PSS)、聚3-己基噻吩，(P3HT)、聚3-辛基噻吩(P3OT)、聚(芳醚砜)、聚C-61-丁酸-甲酯(PCBM)、聚[2-甲氧基-5-(2-乙基-己氧基)-1，4-苯撑乙烯](MEH-PPV)、氮化硅、二氧化硅、等物质或它们的任意组合。

所述平整层683可通过流体的形式涂覆在纳米银线801的第一电极层63上方，所述流体可以包括：水、水溶液、离子溶液、超临界流体、等离子体、油或者它们的任意组合。包括但不限于：水、丙酮、乙酸乙酯、乙醇、乙酸丁酯、戊醇、酚醛树脂、醇酸树脂、氢氧化钠、异丙醚(i-丙醚)、异丙醇、甲基乙基酮(或者MEK)、甲酸甲酯、甲基正丁酸酯、正丁醇、辛烷、石油醚、丙醇或者它们的任意组合。表面活性剂、分散剂、稳定剂或粘合剂也可以包括在流体中。

平整层折射率为1.1-1.6，优选地，平整层683由至少2层的光学膜组成，其中一层光学膜的折射率为1.1-1.6，另一层光学膜的折射率为1.8-2.7。

所述平整层683以流体形式涂覆在第一电极层63上方的方法与增粘层581基本相同。

与现有技术相比，表面设置有平整层683的触控面板60之触控电极导电率提升，并且能够获得良好的表面平整度。

平整层683除以流体形式涂布在第一电极层63上外，其也可以是固体薄膜的形式，即平整层683则可以通过对固体薄膜加热滚压的形式直接覆盖于第一电极层63上方，这时平整层683的材料包括但不限于：聚乙烯醇缩丁醛(PVB)、聚乙烯醇(PVA)、聚碳酸酯(PC)、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚甲基丙烯酸甲脂(PMMA)、玻璃纸等。

在本触控板面板60的变形中，可只在第一基板64上设置平整层683，或只在第二基板67上设置平整层683。

请参阅图22，本发明第六实施例触控面板60与第一实施例触控面板10或第二实施例触控面板20或第三实施例触控面板40的不同之处仅在于：本实施例中触控面板70在第一电极层73与第一基板74之间，以及第二电极层76与第二基板77之间设置一光学匹配层785，故触控面板从上至下包括一上基板71，一第一电极层73，一光学匹配层785，一第一基板74，一贴合层75，一第二电极层76，另一光学匹配层785与一第二基板77。以下以第一电极层73与第一基板74之间的光学匹配层785为例来对光学匹配层785进行说明(第二基板77与第二电极层76之间设置光学匹配层785同样适用以下叙述)：纳米银线801存在一定的雾度问题，为了使整个触控面板70达到最佳的显示效果，本变形实施例在触控面板70的第一电极层73与第一基板74之间设置光学匹配层785，该光学匹配层785为一层低折射率的光学膜，其可以降低纳米银线的反射，所述低折射率为折射率小于1.6，优选的为1.1～1.6，具体为1.1，1.25，1.32，1.38，1.46，1.50，1.52。光学匹配层785的光学膜厚度为小于或等于1/4波长奇数倍。在本实施变形方式中增加一光学匹配层785后，所述第一电极层13的雾度可降低至5％左右，优选地小于3％，2％，1.5％。

光学匹配层785可以为有机物或无机物，或有机-无机混合涂层。例如硅氧化物，氯氟化物，氟化镁，二氧化硅，氟化锂，氟化钠，氧化镁，硅酸盐，聚氨酯，PMMA，PVA，PVP，有机硅，氟聚合物，丙烯酸树脂，丙烯酸树脂+矽石纳米颗粒。

光学匹配层785的形成方式可以为物理沉积，化学沉积，真空镀膜，印刷，喷涂，柔印，纳米压印，丝网印刷，刮刀涂布，旋转涂布，棒状涂布，滚筒涂布，线棒涂布，浸渍涂布等任一种方式。

与现有技术相比，表面设置有光学匹配层785的触控面板70光学表现较佳。

所述光学匹配层785和第一电极层73的位置可以互换，即光学匹配层785可以设置在第一电极层73上，当光学匹配层785在第一电极层73上方时，同时可以作为保护层，防止纳米银线氧化，腐蚀等直接暴露在外的一系列问题。

请参阅图23，本发明第七实施例触控面板80与第一实施例触控面板10或第二实施例触控面板20或第三实施例触控面板40的不同之处仅在于：第一电极层83与第一基板84之间设置有增粘层881，第一电极层83靠近触控操作面一侧设置有一光学匹配层885与一平整层883，平整层883位于第一电极层83与光学匹配层885之间。第二电极层86与第二基板87之间设置有另一增粘层881，第二电极层86靠近触控操作面一侧设置有另一光学匹配层885与另一平整层883，平整层883位于第二电极层86与光学匹配层885之间。

本实施例中可只选择在第一基板84或第二基板87设置一层增粘层881，一层光学匹配层885与一层平整层883。

生产厂商可根据需要选择增粘层881，光学匹配层885与平整层883之中的一层或多层均属于本发明的保护范围之内。此外，增粘层881和/或平整层883也可以是光学匹配层885，具有光学匹配层285的特性及效果。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的原则之内所作的任何修改，等同替换和改进等均应包含本发明的保护范围之内。

Claims (13)

1.一种触控面板，其特征在于，该触控面板包括：一第一电极层，其布设于第一基板上，该第一电极层包括多个在第一方向上平行排列的第一电极串，该第一电极串包括多个第一导电单元与多个第一导接线，该第一导电单元之间通过该多个第一导接线在第一方向上串联，两两相邻的第一导电单元界定一第一镂空区；及

一第二电极层，布设于第二基板上，该第二电极层包括多个在第二方向上平行排列的第二电极串，该第二电极串包括多个第二导电单元与多个第二导接线，该第二导电单元之间通过该多个第二导接线在第二方向上串联；

该第一电极层与该第二电极层为纳米银线导电层，所述第二导电单元位于第一镂空区在第二电极层上的垂直投影区。

2.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于：第二导电单元与第一导电单元之间形状互补。

3.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于，所述第一电极层比第二电极层更靠近触控操作面，所述第二导电单元的面积大于所述第一导电单元的面积。

4.如权利要求3所述的触控面板，其特征在于，所述第二导电单元面积为A，所述第一导电单元面积为B，1.5≤A/B≤8。

5.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于，所述第一基板为盖板，所述盖板包括一触控操作面与一元件安装面，所述第一电极层布设于所述元件安装面上。

6.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于，更包括一盖板，所述盖板包括一触控操作面与元件安装面，所述第一基板位于所述元件安装面与所述第二基板之间。

7.如权利要求6所述的触控面板，其特征在于，所述第一电极层位于所述第一基板与所述第二基板之间，所述第二电极层设于所述第二基板远离所述元件安装面的一侧。

8.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于：所述第一电极层与所述第二电极层两侧可设置增粘层，平整层，光学匹配层之中的一层或多层，增粘层，平整层，光学匹配层之中的两或三层可设置在第一电极层或第二电极层的同侧或异侧，光学匹配层，增粘层和平整层三者之间位置可互换。

9.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于：所述第一基板与所第二基板之间通过贴合层贴合，该贴合层的折射率为1.52-1.79。

10.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于：所述纳米银线导电层包括一基质及分布于所述基质中的多条纳米银线，所述多条纳米银线相互搭接形成导电网络，所述纳米银线导电层的厚度为50nm-200nm，折射率为1.35-1.8。

11.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于：所述第一电极层与第二电极层通过双边走线连接至柔性电路板，该走线材料为纳米银线导电层且与该走线与所连接的第一电极层或第二电极层一体成型。

12.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于：两两相邻的第二导电单元界定一第二镂空区，第一镂空区与第二镂空区内设置有补偿电极，该补偿电极为纳米银线导电层。

13.如权利要求12所述的触控面板，其特征在于：两第一电极串之间或两第二电极串之间的补偿电极相互联通或彼此独立设置。