CN105209972A - 增强分辨率dlp投影机设备及其使用方法 - Google Patents

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Abstract

一种用于投影包括多个单色光源(111-113)的单色显示的DLP投影机设备(10)。DLP投影机(10)适于从它的DMD芯片(100)的每个微反射镜来辐射包括相对于彼此移位的多个辐射位置的图像。DLP投影机设备(10)包括适于根据在对象生产文件中的辐射方案控制从多个光源(111-113)到该图像的辐射的控制器单元。DLP投影机设备(10)还设置有成像台(240)，其适于在垂直于DLP投影机设备(10)的成像光束的平面中移动。该台的移动与DLP投影机设备(10)的成像方案相互协调和同步。根据在对象生产文件中的辐射方案来控制该成像方案和该台的移动。

Description

增强分辨率DLP投影机设备及其使用方法
发明背景
本发明涉及选择性辐射投影系统。更具体地，本发明涉及用于选择性辐射曝光的数字光处理(DLP)投影机系统。
在DLP投影机中，图像由布置在半导体芯片上的矩阵中、被称为数字微反射镜器件(DMD)的显微反射镜小反射镜创建。这些反射镜中的每一个可以被快速重新定位，以发射光通过投影透镜到显示器上或到光接收器(lightsink)上(即光摆脱(lightdump))。迅速切换这两个取向(基本上为导通和关断)之间的微反射镜在显示屏上产生灰度，这通过导通时间与关断时间的比率来控制。每个微反射镜通常表示在投影的图像中的一个像素，以及微反射镜的数目通常对应于投影的图像的分辨率。800×600、1024×768、1280×720和1920×1080(HDTV)矩阵是其今天被用在DLP投影机中的一些常见DMD大小。现今典型的DLP投影机的常见价格在很大程度上取决于它的最佳分辨率。
RayAlden在申请公开号为2006/0023065的美国申请中公开了一种用于乘以显示的分辨率的方法。在迭代过程中，DLP投影机投影被引导到显示屏的第一象限的第一图像、被引导到显示屏的第二象限的第二图像、被引导到显示屏的第三象限的第三图像以及被引导到显示屏的第四象限的第四图像。这四个图像中的每一个包括四分之一的全高分辨率的图像，其由该长时间处理拼接在一起以包括一个高分辨率的图像。
发明概述
公开了一种根据本发明实施例的用于投影单色显示的DLP投影机设备，其包括至少三个光源(每个光源能够辐射单色光束)、用于捕获至少一些所述单色光束的至少一个光接收器、用于折射以及投影至少一些所述单色光束用于显示的至少一个投影透镜、用于有选择地将来自所述至少三个光源的至少一些所述辐射的单色光束反射向用于折射以及投影所述单色显示的所述投影透镜的至少一个DMD芯片(所述显示包括所述至少三个光源的图像)以及控制所述至少三个光源中的每个与所述DMD芯片同步地激活的控制单元。
根据一些实施例的DLP投影机设备是可操作的以便所述辐射的所述至少三个光源的所述单色显示被散焦以显示在散焦成像平面上相对于彼此移位(shift)的所述图像。
根据一些实施例，DLP投影机设备是可操作的，以便所述至少三个光源的所述图像沿第一基准轴和第二基准轴以比所述至少三个光源的所述图像的直径短的距离彼此移位。
根据一些实施例，DLP投影机设备是可操作的，以便所述至少三个光源和所述至少一个DMD芯片同步地操作以在所述散焦成像平面上在所述图像施加单独和独立的辐射量。
根据一些实施例，DLP投影机设备是可操作的，以便在所述散焦成像平面上在所述图像的所述单独和独立的辐射量由根据生产文件执行生产的所述控制单元来控制。
根据一些实施例，DLP投影机设备还包括在所述成像平面的可辐射固化可流动的构建材料层，所述可辐射固化可流动的构建材料层可由所述辐射固化。
根据本发明的一些实施例，公开一种用于投影单色显示的DLP投影机设备，其包括能够辐射单色光束的至少一个光源、用于捕获至少一些所述单色光束的至少一个光接收器、用于折射以及投影至少一些所述单色光束用于显示的至少一个投影透镜、用于有选择地将来自所述光源的至少一些所述辐射单色光束反射向用于折射以及投影所述单色显示的所述投影透镜的至少一个DMD芯片(所述显示包括所述至少三个光源的图像)以及能够在两个垂直直角坐标轴中移动的成像台，所述轴基本垂直于所述显示光束。该DLP投影机设备是可操作地，以便所述图像基台沿所述直角坐标轴中的任一个的移动是可控制的，以提供小于或等于在所述台上从所述DMD的单个微反射镜反射的所述光束的图像的大小的一半的移动。
根据一些实施例，DLP投影机设备还包括在所述成像台的可辐射固化可流动的构建材料层，所述可辐射固化可流动的构建材料层可由所述辐射固化。
根据一些实施例，DLP投影机设备是可操作的，以便第二辐射方案相对于所述第一辐射方案被以基本上等于从所述DMD的单个微反射镜反射的所述至少三个光源的图像的直径的一半的移位量值(magnitude)沿第一垂直轴和第二垂直轴移位。
根据一些实施例，DLP投影机设备是可操作的，以便所述第一辐射方案和所述第二辐射方案的辐射和所述成像台的移动由所述控制单元根据在3D对象的生产文件中的数据控制以及同步。
附图简述
视为本发明的主题被在本说明书的结论部分中特别地指出并清楚地要求。然而，关于组织和操作方法两者连同对象、特征及其优点，当阅读附图时通过参考以下详细描述可以最佳理解本发明，在附图中：
图1是根据本发明的实施例的适于照亮单个成像位置的基于发光二极管(LED)的数字光处理(DLP)投影机的示意图；
图1A根据本发明实施例示意性地呈现如在散焦成像平面上成像的散焦图像；
图2根据本发明实施例示意性地呈现用于构建3D对象的系统；
图3A根据本发明实施例示意性地呈现用于高分辨率成像的系统；
图3B和3C根据本发明实施例分别示意性地呈现生产的对象的放大的局部辐射方案和相应的距离方案；
图4是根据本发明实施例描绘高分辨率成像过程的流程图；以及
图5是根据本发明实施例描绘高分辨率成像过程的流程图。
应该理解的是，为了简单和清楚地说明，在图中所示的元件没有必要按比例绘制。例如，为清楚起见，一些元件的尺寸可以被相对于其他元件夸大。此外，在认为适当之处，参考标记可以在附图中重复以指示相应或类似的元件。
本发明的详细描述
在下面的详细描述中，许多具体的细节被阐述以便提供对本发明的彻底的理解。然而，本领域技术人员将理解的是，本发明可以在没有这些具体细节的情况下被实施。在其他情况下，公知的方法、过程和组件没有被详细描述以便不混淆本发明。
图1是根据本发明的实施例适于照亮单个成像位置的基于发光二极管(LED)的数字光处理(DLP)投影机10的示意图。DLP投影机10适于由包括多个光源111、112、113、114的照明单元110来照亮成像位置(在一个简化的例子中呈现)。术语“DLP”投影机在下文中被使用，以包括使用数字微反射镜器件(DMD)的任何投影机。在本示例中，DLP投影机10可以适于产生彩色图像，在这种情况下，颜色可以通过使用4种单独的光源红色、绿色、蓝色和白色(即R.GBWLED)来产生，4种单独的光源红色、绿色、蓝色和白色可分别对应于光源111、112、113和114以产生主显示颜色：红色、绿色、蓝色和白色。在来自任何的光源111-114中的任何的光束102中的单光束中的每个典型地首先由反射镜100反射从而产生反射的光束104，并且然后由聚光透镜103折射，从而产生聚光光束105，以便将不同的光束聚焦在聚焦平面106上。在一些情况下光隧道可以被添加在聚光透镜和DMD(在图1中未示出)之间，以进一步将分开的光束一起聚焦在DMD上用于创建图像显示。在该图中，为求简洁，仅仅示出了单个微反射镜100，其能够投影单个显示的“彩色”(即多源)像素120(由其4个独立的光束111、112、113和114组成)。如果单独的光束由已知的例如红色、绿色、蓝色和白色的基色光源的集合组成，则图像像素120将是具有从单独的基色光源的强度混合体(blend)产生的颜色的彩色像素。
现在还参考图1A，其根据本发明的实施例示意性地呈现如在散焦图像平面108上成像的散焦图像120A。这里术语“散焦”意欲描述其中图像平面被放置脱离聚焦平面或从聚焦平面稍微移位且产生的图像不聚焦的情形。散焦图像平面108是有意略微偏离透镜103的焦点放置的成像平面。如在图1A中所示，散焦图像120A也为简洁起见而被放大和重新定位，在DLP投影机10中，DMD器件的每个微反射镜(如微反射镜100)与光源111-114中的每一个同步以将其光束反射到透镜103上或偏斜其光束远离透镜103到光接收器109上(当光源被导通时)。术语“反射”是指包括下文将从光源发射的光束引导到投影透镜103用于投影的操作。术语“偏斜”是指包括下文引导从光源发射的光束远离投影透镜103(如将光束从光源引导向光接收器109)的如由偏斜的光束线104A表示的操作(即光摆脱)。从光源发射并反射到投影透镜103的光束典型地被投影用于显示光投影的图像。例如，在图1中，如果LED112发射绿色光束，且微反射镜100反射其光束到投影透镜103，则像素120的绿色显示被点亮。微反射镜100可以在反射位置(以实线呈现)和偏斜位置(以虚线和标记100A呈现)之间快速切换。微反射镜100的快速切换产生照明光源的阴影。阴影的程度(即是否具有高强度或低强度)由接通时间与关断时间的比率(也被称为占空比)来控制。因此微反射镜100每次都可以快速被切换以反射单独的光源中的每一个(每一个轮流为111、112、113以及114)用于显示图像像素120中的源的混合体的其指定的显示。单独的源因而被以该观察者看到复合“全混合”图像的足够高的速率顺序显示并且以防单独的光源是基色-复合“全色”图像。
在已知的DLP投影机中，微反射镜的数目对应于投影的图像的可用的分辨率，且DLP投影机的分辨率通常由其DMD的大小限制。DLP投影机的价格可能会随着可用的分辨率增加而非线性上升。
合适的市售DMD的实例可以包括在来自美国PianoTX的德州仪器公司的商品名“数字光处理”反射镜下的那些。
当图像平面被散焦放置时，如是图像平面108，光源111、112、113和114的单独的图像111A、112A、113A和114A将分别被散焦成像，形成散焦图像120A。单独的图像111A、112A、113A和114A在具有X直角坐标和Y直角坐标的散焦图像平面中是位于稍微远离彼此的，如图1A中所示。散焦图像111A-114A的偏差可以由沿X轴的偏差Δx和沿Y轴的偏差Δy来表示。图1中以虚线画出的图像120表示聚焦平面中光源111-114的组合聚焦图像相对于散焦图像111A-114A的位置。
根据本发明实施例，光源111-114可以是UV单色辐射光源，在本实施例中，DLP投影机10可以是例如英国OptomaEurope有限公司的OptomaEX755e的改进的DLP，其中其4个光源可以是LED(如两者均由美国MA的LuminusDevices公司制造的PhlatLightLED或LuminusCBT120UV)，它们都适于辐射其中方差不超过50运行波长的类似的单色光，根据一个实施例。根据一个实施例，从LED111-114发射的光具有在250nm-450nm之间的波长。在一个实施例中，聚光透镜103可以是平滑的或可以由可以有区别地折射来自LED111-114的光束的另一透镜(未示出)所取代。在本实施例中，折射透镜旨在将单色光束折射到DMD同时稍微分离所投影的单色光束，以便显示4个可区分的图像111A-114A。在其它实施例中，聚光透镜103可以被丢弃，或其他已知的光学装置可以用于将来自LED111-114的光束折射到DMD同时稍微分离所投影的单色光束，以便显示4个可区分的图像111A-114A。可区分的图像111A-114A可以彼此重叠，如图1A中所示，和/或可能与其他相邻图像重叠。因此每个微反射镜(例如微反射镜100)可有效地反射或偏斜4个图像111A-114A(无论是彩色还是单色的)中的每一个的显示。换句话说，每个图像可以相对于其它图像的图像被显示在稍微不同的位置，其中每个图像可以具有从全亮到全黑的不同的阴影层次。因此，例如，800×600PPI分辨率的LEDDLP彩色投影机可以被使用(通过用根据本发明实施例的单色光源代替其彩色光源)作为1600×1200的单色投影机，相对于投影机的原始分辨率，单色图像的有效分辨率增强了4倍。因此，在一个实施例中，现有技术的彩色LEDDLP投影机可以通过用具有相似颜色的LED代替某些或所有彩色LED来被转化为更高分辨率的单色LEDDLP投影机。在某些情况下，可能需要对运行DLP投影机的软件的改动。
在一个实施例中，使用的光源是激光器(如由美国NJ的ThorLabs公司生产的具有在250nm-450nm之间的波长的L375POMLD30mw375nm激光二极管)。在其他实施例中，其他光源可以被使用。
在一个实施例中，单色DLP投影机包括4个光源。这些光源可以具有不同的构造以及许多结构，并且可以与一个反射镜或多个反射镜和/或一个透镜或多个透镜和/或其他已知的光学器件一起使用，一个反射镜或多个反射镜和/或一个透镜或多个透镜和/或其他已知的光学器件用于操纵和引导光源的光束用于通过将不同光源的图像定位在成像平面上在通常以基本上在X轴线和Y轴线两者中的DLP投影机的原始分辨率的两个连续的像素之间的物理距离的一半彼此移位的位置来创建更高分辨率的单色光图像。类似于其他光源，光源中的每个可以能够辐射单色光，这意味着所有光源之间的差异不超过所定义的带宽。在一个实施例中，光源具有在250nm-450nm之间的波长。在另一个实施例中，光源可以具有在388nm-405nm之间的波长。单色DLP投影机还可以包括DMD、光接收器和投影透镜。在一些实施例中，DLP投影机还可以包括用于反射光束的反射镜，并且还可以包括用于折射光束到DMD上的透镜。如上所述，对于每个图像，光源中的每个将被按序地轮流接通，同时DMD有选择地完全同步反射其图像的预期图像位置的光束。同步可以通过DLP(未示出)的控制单元来控制，其可以被修改或适于与DLP投影机的照明单元的其它光源协调将多个光源中的每个的照明量辐射到各自的预期的成像位置上。因此，根据本发明实施例，具有四个光源的DLP投影机可以投影四个相邻的位置，每个位置以其辐射的单独的各自的量被辐射，而不是根据现有技术操作由DLP以四个单独的光源辐射单个位置(即单个像素)。
由微反射镜的数目(即原始分辨率)来表示的DMD矩阵大小可以是800×600、1024×768、1280×720、1920×1080或任何其他的矩阵大小。从每个微反射镜反射的光束可以接着被引导至投影透镜用于折射光并将其投影到放置在图像平面的图像上的预期位置，其根据公知技术是在聚焦平面。因此透镜投影光束到它们预期的像素。具有单个DMD并且根据本发明的实施例操作的单色DLP投影机可以显示图像序列，对于具有四个光源的DLP，所述图像每个具有比DLP的原始分辨率高四倍的分辨率。在一个实施例中，单色DLP投影机可以用于显示具有单独的光源的单独的图像的图像，其具有相同颜色的不同阴影。单个颜色的不同强度等级在本领域中有时被称为该颜色的灰度，尽管如蓝、UV等的任何颜色都可以被用在该投影机中。在其他实施例中，单色DLP投影机可以用于显示具有仅仅浅或深2个阴影的照明位置的图像。
在一个实施例中，不是四个单色光源，而是只有3个单色光源可以被用在所描述的单色DLP投影机中，在本实施例中，DLP投影机的原始分辨率可以由此乘以3。
在一个实施例中，光源之间的距离可以有从约0.5毫米至约5毫米的范围，并可能根据所发射的光的聚焦路径而改变。
在一个实施例中，所描述的增强分辨率的单色DLP投影机可以用于在增材制造打印机系统中构建3D对象。3D对象可以以逐层的方式通过挤压可辐射固化可流动的构建材料以及然后根据构建数据有选择地曝光其部分到辐射来从计算机辅助设计(CAD)模型构建。构建材料可以是可辐射固化的材料，当处于在未固化状态时该材料溶于溶剂(例如，水溶性的)中。通过辐射在应该保持在产生的模型中的构建材料层上的位置来成构建材料的固化。该辐射可以是任何类型的或以导致构建材料的固化的任何波长，而提供给在构建模型上的每个位置的辐射量应该是确保在那个位置充分的固化的量。因此，一旦固化，例如曝光于UV光，则被辐射的材料变得基本上不溶于溶剂中。产品然后被用溶剂处理，溶剂溶解并且冲走未被辐射的多余材料。
现在参考图2，其根据本发明实施例示意性地呈现用于构建3D对象的系统200。系统200包括控制单元202、DLP投影机230以及生产台240。控制单元202可以是任何合适的计算机、可编程逻辑控制器(PLC)、处理器等，其可以适于接收以及存储生产数字文件以及基于生产文件提供生产控制命令给DLP投影机230，以便根据生产方案辐射放置在生产台240上的生产对象250。控制单元202可以包括处理单元210、非暂时性存储单元212、外设接口单元214以及用户接口单元216。非暂时性单元212可以是适于存储程序软件、操作参数、临时数据以及生产文件的任何合适的存储单元。外设接口单元214可适于使能控制单元202与DLP投影机230、与其他系统经由专用通信信道或经由网络的主动通信例如为了接收生产文件(如本领域已知的)。用户接口单元216可以提供或支持用户接口装置(例如，显示数据、指令和状态到用户的显示单元、使用户能够输入数据、选择操作模式等的键盘和/或触摸屏)。根据一个实施例，存储在存储单元212中的生产文件可以加载到处理器210以供执行，以便提供对DLP投影机230的辐射控制。根据本发明实施例，包括在生产文件中的生产数据可以通过控制单元202被从存储单元212传送到DLP投影机用于由DLP投影机230执行。根据本发明实施例，生产命令被转换为适应对于在生成对象250的工作表面250A上的每个辐射位置的辐射量的辐射方案。该被辐射的瞬时位置被标记260。根据本发明实施例，可用的辐射位置的数量可以比DLP投影机230的原始分辨率大DLP投影机230的光源数。在这样的增材制造打印机系统中，构建数据通过最初将3D对象的CAD模型切成多个平行切片层来获得。然后，对于每个切片层，主计算机(如控制单元202)产生用于有选择地辐射构建材料以形成3D对象的辐射图。
可辐射固化的构建材料可以被挤压通过由挤压头(未示出)承载的喷嘴，并沉积为如生产台240的x-y平面中的基板上的层。在新的层被沉积之后，DLP投影机230可以根据构建数据有选择地辐射沉积材料的例如层250A的该层的部分。一旦温度下降，则沉积材料固化，其后另一个层接着被类似地沉积以及辐射，其中挤出的构建材料熔合到先前沉积的层。相对于该基的挤压头的位置可以沿z轴(垂直于x-y平面)增加，且该沉积和辐射的过程对于许多层被重复(根据该构建数据)。所得模型在这个阶段在每一层中由基本不溶于溶剂的部分辐射的材料以及溶于溶剂的部分未被辐射的材料组成。该模型可随后被放置在含有溶剂的浴盆(bath)中，其从辐射的材料溶解掉未被辐射的材料-有效地创建类似CAD模型的3D对象。因此较高的分辨率投影机可以有选择地以较高的分辨率辐射沉积的材料的层，其有效地可以允许较高的分辨率3D对象的创建。
用于曝光的合适的x-y分辨率的实例包括约170微米/点或更低(即，至少约150dpi)的分辨率大小，其中特别合适的分辨率大小包括约85约85微米/点或更低(即，至少约300dpi)，以及其中特别合适的分辨率大小包括约50微米/点或更低(即，至少约500dpi)。因此，高速沉积和高x-y分辨率曝光的组合允许3D对象被用减少的构建次数来形成，同时也保持良好的部分的分辨率。
例如，对于提供作为丝束的可辐射固化的材料，用于材料供应的合适的组件在US6,923,634和US2005/0129941中公开。
在一个实施例中，所描述的高分辨率单色DLP投影机可用于创建利用光成像技术准备的印刷电路板(PCB)。光刻胶组合物被施加到基板(例如包括铜表面的柔性或刚性的基板)。然后，根据实施例，板曝光于上面描述的显示用于引导成像以有选择地反应(例如交联)构成期望的电路图案的光刻胶组合物的单色图像的单色DLP投影机。可以通过用碱性水溶液喷雾以除去未反应的光刻胶组合物来开发曝光的板。不再由光刻胶组合物覆盖的铜借助于氯化铜或氯化铵从基板被蚀刻且在最后优选地反应的光刻胶组合物被从剩余的铜去除以提供该印刷电路板。可以与在需要使用光成像技术的PCB的生产中使用的其它技术和方法一起来使用描述的单色DLP投影机。
在另一个实施例中，所描述的高分辨率单色DLP投影机可用于制造胶版印刷板。可通过使用用于在印刷版表面上投影图像的高分辨率DLP投影机来制造胶版印刷板。
现在参考图3A，其根据本发明实施例示意性地呈现用于高分辨率成像的DLP投影机设备300，DLP投影机设备300包括控制单元302、DLP投影机330以及成像台340。类似于上述控制单元202，控制单元302可以包括处理单元、非暂时性存储单元、外设接口单元以及用户接口单元(未示出)。非暂时性单元可以是适于存储程序软件、操作参数、临时数据以及生产文件的任何合适的存储单元。外围接口单元可适于使能控制单元与DLP投影机330、与成像台340以及与其他系统经由专用通信信道或经由网络的主动通信，例如为了接收生产文件(如本领域已知的)。用户接口单元可以提供或支持用户接口装置(例如显示数据、指令以及状态到用户的显示单元、使用户能够输入数据，选择操作模式等的键盘和/或触摸屏)。根据实施例，存储在存储单元中的生产文件可以加载到处理器上以供执行，以便提供对DLP投影机330以及对成像台340的辐射控制。
DLP投影机330可以是本领域中已知的任何合适的投影机其中给定的成像分辨率IRES例如由AXxAY矩阵大小来表示，AXxAY矩阵大小代表沿图像(大小为LX乘以LY，以任何长度单位呈现)的X轴和Y轴的可用的成像位置数，。因此，分辨率也可以由DLP投影机330的成像分辨率可以提供的单位长度的点数(例如每英寸点数(DPI))来表示。通常，基本成像的区域(有时称为像素)具有沿着图像的X轴和Y轴的类似或相同的大小以及因此当长度LX、LY均以英寸表示时，可以由除法LX/AX或LY/AX来获得投影机的DPI图DLPDPI。DLP投影机330的原始分辨率IRES可以提供AXxAY位置(或像素)(以25.4/DLPDPI[mm]彼此分开的)的成像。DLP投影机设备300还包括成像台340，其包括通过适于沿着它们的各自的轴单独地和独立地移动成像台340A的X致动器340X以及Y致动器340Y沿着双轴参考帧X-Y可移动的成像板340A。成像台340A的X-Y平面基本上垂直于DPL投影机330的投影方向。
成像台340可适于沿图3A中所示的X轴和Y轴平稳且准确地移动。成像台340的移动分别由致动器340X和致动器340Y执行，其适于提供尽可能如可能需要的小且准确的增量移动以响应于由控制单元302提供的移动命令。致动器340X和340Y可以是任何已知的如线性电活塞或类似物的能够提供所需的准确度和移动范围的致动器。
根据本发明实施例，高分辨率成像过程可以使用具有较低原始分辨率的DLP投影机来执行。最初，产生的将作为其生产过程的部分来被成像的对象350(如上述关于模型250所描述的)可被放置在成像台340上。成像台340可以位于具有初始坐标XINIT、YINIT的初始位置。现在可以根据如包括在存储在控制单元302中的对象的生产文件中的第一辐射方案来辐射生产的对象350(在第一即时(fly))。在第一即时中被辐射的图像的分辨率等于原始分辨率IRES。
现在参考图3B和3C，其根据本发明实施例分别示意性地表示产生的对象的放大的局部辐射方案和各自的距离方案的。根据本发明实施例，高分辨率的DLP投影机设备300可以在大于一个即时(例如在两个即时中)中应用辐射方案。在图3A、3B和3C中，根据第一辐射方案产生的对象的成像位置由实线圆圈350A表示，以及根据第二辐射方案产生的对象的成像位置由虚线圆圈350B表示。特定辐射方案(第一或第二)的任何两个相邻的成像位置之间的距离来源于DLP投影机的原始分辨率的IRES。为了实现更高的成像分辨率，可以在成像过程的任何合适的时间相对于参考帧X-Y且相对于DLP投影机330以沿着X轴的Δx且以沿着Y轴的Δy移动产生的对象350，以及然后第二成像方案可以被施加到产生的对象350(如由虚线圆圈350B所描绘的)。第一成像方案和第二成像方案的组合的成像方案是双分辨率成像方案(如图3B和3C中所示)。应当理解，可以根据需要设置Δx和Δy的尺寸，例如Δx和Δy可以被设置为单个成像方案的相邻的成像位置之间的距离的一半。
现在参考图4，其是根据本发明实施例描绘高分辨率成像过程的流程图。在图4中所描绘的成像过程可以由如图2的系统200的高分辨率成像系统来执行。可以例如以存储在控制单元202(方框402)中的生产数据文件的形式来接收生产数据。可以相对于例如DLP投影机230的DLP投影机离焦放置具有生产模型的生产平面(框404)。该DLP投影机可以被激活以通过将单独的成像指令应用于DLP投影机的光源中的每一个来应用生产计划的成像方案(框406)。高分辨率成像过程结束于成像计划的结束且该模型可以被移动到下一个生产步骤。
现在参考图5，其是根据本发明实施例描绘高分辨率成像过程的流程图。在图5中所描绘的成像过程可以由诸如图3A的DLP投影机设备300的高分辨率成像系统来执行。可以例如以存储在控制单元302中的生产数据文件的形式来接收生产数据(框502)。第一成像方案被施加到生产的对象(框504)。在第一成像方案的最后，或者以往复的方式可以相对于DLP投影机以定义的Δx和Δy来移动所产生的对象(框506)。第二成像方式可以被应用到生产的对象(框508)。这个过程可以继续进行直到整个成像计划已经被执行。
尽管本文已经说明和描述了本发明的某些特征，但是本领域的普通技术人员现在将想到很多修改、替换、改变以及等同物。因此，可以理解的是，所附权利要求旨在覆盖如落在本发明的真实精神之内的所有这样的修改和改变。

Claims (16)

1.一种DLP投影机设备，其用于投影单色显示，包括：
至少三个光源，每个能够辐射单色光束；
至少一个光接收器，其用于捕获所述单色光束中的至少一些；
至少一个投影透镜，其用于折射以及投影所述单色光束中的至少一些用于显示；
至少一个DMD芯片，其用于有选择地将来自所述至少三个光源的所述辐射的单色光束中的至少一些反射向用于折射以及投影所述单色显示的所述投影透镜，所述显示包括所述至少三个光源的图像；以及
控制单元，其控制所述至少三个光源中的每个与所述DMD芯片同步地激活。
2.如权利要求1所述的DLP投影机设备，其中，所述辐射的至少三个光源的所述单色显示被散焦，以显示在散焦成像平面上相对于彼此移位的所述图像。
3.如权利要求2所述的DLP投影机设备，其中，所述至少三个光源的所述图像沿第一基准轴和第二基准轴以比所述至少三个光源的所述图像的直径短的距离彼此移位。
4.如权利要求1所述的DLP投影机设备，其中，所述至少三个光源和所述至少一个DMD芯片适于同步地操作以在所述散焦成像平面上在所述图像施加单独和独立的辐射量。
5.如权利要求3所述的DLP投影机设备，其中，在所述散焦成像平面上在所述图像的所述单独和独立的辐射量由根据生产文件执行生产的所述控制单元控制。
6.如权利要求4所述的DLP投影机设备，还包括在所述成像平面处的可辐射固化的可流动的构建材料层，所述可辐射固化的可流动的构建材料层可由所述辐射固化。
7.一种用于使用具有第一分辨率的DLP投影机成像第二分辨率的图像的方法，所述第二分辨率高于所述第一分辨率，所述方法包括：
提供DLP投影机设备，包括：
至少三个光源，每个能够辐射单色光束；
至少一个光接收器，其用于捕获所述单色光束中的至少一些；
至少一个投影透镜，其用于折射以及投影所述单色光束中的至少一些用于显示；
至少一个DMD芯片，其用于有选择地将来自所述至少三个光源的所述辐射的单色光束中的至少一些反射向用于折射以及投影所述单色显示的所述投影透镜；以及
控制单元，其控制所述至少三个光源中的每个与所述DMD芯片同步地激活，
其中，所述辐射的至少三个光源的所述单色显示被散焦以显示在散焦成像平面上相对于彼此移位的所述图像，
在所述成像平面提供可辐射固化的可流动的构建材料层，所述可辐射固化的可流动的构建材料层可由所述辐射固化；
由来自所述至少三个光源的所述光束将单色显示辐射到所述可辐射固化的可流动的构建材料层上。
8.如权利要求6所述的方法，其中，所述单色显示由通过所述散焦的至少三个光源提供给所述可辐射固化的可流动的构建材料层的单独和独立的辐射量形成。
9.如权利要求6所述的方法，还包括：
根据在3D对象的生产文件中的数据重复提供可辐射固化的可流动的构建材料层以及将单色显示辐射到所述可辐射固化的可流动的构建材料层上的步骤。
10.一种DLP投影机设备，其用于投影单色显示，包括：
至少一个光源，其能够辐射单色光束；
至少一个光接收器，其用于捕获所述单色光束中的至少一些；
至少一个投影透镜，其用于折射以及投影所述单色光束中的至少一些用于显示；
至少一个DMD芯片，其用于有选择地将来自所述光源的所述辐射的单色光束中的至少一些反射向用于折射以及投影所述单色显示的所述投影透镜，所述显示包括所述至少三个光源的图像；以及
成像台，其能够在两个垂直直角坐标轴中移动，所述轴基本上垂直于所述显示光束，
其中，所述图像基台沿所述直角坐标轴中的任何一个的移动是可控制的，以提供小于或等于在所述台上的从所述DMD的单个微反射镜反射的所述光束的所述图像的大小的一半的移动。
11.如权利要求10所述的DLP投影机设备，还包括在所述成像台处的可辐射固化的可流动的构建材料层，所述可辐射固化的可流动的构建材料层可由所述辐射固化。
12.如权利要求11所述的DLP投影机设备，其中，所述可辐射固化的可流动的构建材料层在至少两个阶段被辐射，在第一阶段中被以第一辐射方案辐射并且在第二阶段中被以第二辐射方案辐射。
13.如权利要求12所述的DLP投影机设备，其中，所述第二辐射方案相对于所述第一辐射方案沿第一垂直轴和第二垂直轴以基本上等于从所述DMD的单个微反射镜反射的所述至少三个光源的图像的直径的一半的移位量值移位。
14.如权利要求12所述的DLP投影机设备，其中，所述第一辐射方案和所述第二辐射方案的所述辐射以及所述成像台的移动由所述控制单元根据在3D对象的生产文件中的数据控制以及同步。
15.一种用于使用具有第一分辨率的DLP投影机成像第二分辨率的图像的方法，所述第二分辨率高于所述第一分辨率，所述方法包括：
提供DLP投影机设备，包括：
至少一个光源，其能够辐射单色光束；
至少一个光接收器，其用于捕获所述单色光束中的至少一些；
至少一个投影透镜，其用于折射以及投影所述单色光束中的至少一些用于显示；
至少一个DMD芯片，其用于有选择地将来自所述光源的所述辐射的单色光束中的至少一些反射向用于折射以及投影所述单色显示的所述投影透镜，所述显示包括所述至少三个光源的图像
成像台，其能够在两个垂直直角坐标轴中移动，所述轴基本上垂直于所述显示光束，
其中，所述图像基台沿所述直角坐标轴中的任何一个的移动是可控制的，以提供小于或等于在所述台上的从所述DMD的单个微反射镜反射的所述光束的所述图像的大小的一半的移动；
在所述成像台处提供可辐射固化的可流动的构建材料层，所述可辐射固化的可流动的构建材料层可由所述辐射固化；
由来自所述至少三个光源的所述光束将第一方案的单色显示辐射到所述可辐射固化的可流动的构建材料层上；
将所述成像台沿第一垂直轴和第二垂直轴以基本上等于从所述DMD的单个微反射镜反射的所述至少三个光源的图像的直径的一半的移位量值移位；
由来自所述至少三个光源的所述光束将第二方案的单色显示辐射到所述可辐射固化的可流动的构建材料层上。
16.如权利要求15所述的方法，还包括根据在3D对象的生产文件中的数据重复以下步骤：
提供可辐射固化的可流动的构建材料层；
将第一方案的单色显示辐射到所述可辐射固化的可流动的构建材料层上；
沿着第一垂直轴和第二垂直轴移位所述成像台；以及
将第二方案的单色显示辐射到所述可辐射固化的可流动的构建材料层上。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105929623A (zh) * 2016-06-29 2016-09-07 海信集团有限公司 一种多屏投影设备及方法
CN106827515A (zh) * 2017-02-20 2017-06-13 大族激光科技产业集团股份有限公司 3d打印成像校准方法和系统
CN107340679A (zh) * 2017-01-24 2017-11-10 深圳晗竣雅科技有限公司 通过反射镜摆动多次成像提高投影图片分辨率的方法

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6566872B2 (ja) * 2013-03-14 2019-08-28 ストラタシス リミテッド 高解像度ｄｌｐプロジェクタ装置、及びその利用方法
WO2016048348A1 (en) * 2014-09-26 2016-03-31 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Lighting for additive manufacturing
CN105045019B (zh) * 2015-08-26 2017-01-25 南京先进激光技术研究院 一种dlp偏光式立体投影装置
US11298874B2 (en) * 2017-03-22 2022-04-12 Alcon Inc. 3D printing of an intraocular lens having smooth, curved surfaces
US11135773B2 (en) * 2017-06-23 2021-10-05 Applied Materials, Inc. Additive manufacturing with multiple mirror scanners
US11203156B2 (en) 2018-08-20 2021-12-21 NEXA3D Inc. Methods and systems for photo-curing photo-sensitive material for printing and other applications
US10723069B2 (en) 2018-11-01 2020-07-28 Origin Laboratories, Inc. Method for build separation from a curing interface in an additive manufacturing process
US11104075B2 (en) 2018-11-01 2021-08-31 Stratasys, Inc. System for window separation in an additive manufacturing process
KR20210090197A (ko) 2018-11-09 2021-07-19 넥사3디 인코포레이티드 3차원 프린팅 시스템
EP3941714B1 (en) 2019-03-18 2023-03-08 Nexa3D Inc. Method and system for additive manufacturing
US10967573B2 (en) 2019-04-02 2021-04-06 NEXA3D Inc. Tank assembly and components thereof for a 3D printing system
WO2021183340A1 (en) 2020-03-10 2021-09-16 Sirrus, Inc. Radiation cured copolymers of dicarbonyl substituted-l-alkenes and electron rich comonomers
US11680909B2 (en) 2020-05-14 2023-06-20 The Boeing Company Automated inspection of foreign materials, cracks and other surface anomalies
WO2021231288A1 (en) 2020-05-15 2021-11-18 Nippon Shokubai Co., Ltd. Improved dicarbonyl substituted-1-alkene compositions
US20240100769A1 (en) * 2021-02-18 2024-03-28 Fujikura Ltd. Method for manufacturing stereolithographically fabricated object
KR102443272B1 (ko) 2021-07-20 2022-09-15 단국대학교 산학협력단 특정 경로를 따른 중복 광조사를 이용하는 3d 프린터 및 3d 프린팅 방법

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6038067A (en) * 1996-05-23 2000-03-14 The Regents Of The University Of California Scanning computed confocal imager
CN1695076A (zh) * 2002-08-24 2005-11-09 无掩模平版印刷公司 连续地直接写的光刻技术
US20090262098A1 (en) * 2008-04-21 2009-10-22 Masafumi Yamada Electronics device having projector module
US20100328626A1 (en) * 2009-06-30 2010-12-30 Casio Computer Co., Ltd. Light source device, projection apparatus, and projection method
CN103917348A (zh) * 2011-06-28 2014-07-09 环球过滤系统商业用名海湾过滤系统股份有限公司 使用线性固化来成型三维物体的装置和方法

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6001297A (en) * 1997-04-28 1999-12-14 3D Systems, Inc. Method for controlling exposure of a solidfiable medium using a pulsed radiation source in building a three-dimensional object using stereolithography
US6399010B1 (en) * 1999-02-08 2002-06-04 3D Systems, Inc. Method and apparatus for stereolithographically forming three dimensional objects with reduced distortion
US6776602B2 (en) 1999-04-20 2004-08-17 Stratasys, Inc. Filament cassette and loading system
JP3784279B2 (ja) 2000-06-16 2006-06-07 シャープ株式会社 投影型画像表示装置
US6500378B1 (en) * 2000-07-13 2002-12-31 Eom Technologies, L.L.C. Method and apparatus for creating three-dimensional objects by cross-sectional lithography
US6866807B2 (en) 2001-09-21 2005-03-15 Stratasys, Inc. High-precision modeling filament
DE102004022961B4 (de) * 2004-05-10 2008-11-20 Envisiontec Gmbh Verfahren zur Herstellung eines dreidimensionalen Objekts mit Auflösungsverbesserung mittels Pixel-Shift
US20060023065A1 (en) 2004-07-31 2006-02-02 Alden Ray M Multiple program and 3D display with high resolution display and recording applications
US7758799B2 (en) * 2005-04-01 2010-07-20 3D Systems, Inc. Edge smoothness with low resolution projected images for use in solid imaging
US7906061B2 (en) * 2005-05-03 2011-03-15 3D Systems, Inc. Bubble-free cross-sections for use in solid imaging
DE102006019963B4 (de) * 2006-04-28 2023-12-07 Envisiontec Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines dreidimensionalen Objekts durch schichtweises Verfestigen eines unter Einwirkung von elektromagnetischer Strahlung verfestigbaren Materials mittels Maskenbelichtung
US7931460B2 (en) * 2006-05-03 2011-04-26 3D Systems, Inc. Material delivery system for use in solid imaging
US7467939B2 (en) * 2006-05-03 2008-12-23 3D Systems, Inc. Material delivery tension and tracking system for use in solid imaging
US9415544B2 (en) * 2006-08-29 2016-08-16 3D Systems, Inc. Wall smoothness, feature accuracy and resolution in projected images via exposure levels in solid imaging
JP2008139700A (ja) * 2006-12-04 2008-06-19 Ricoh Co Ltd 画像表示装置
US7731887B2 (en) * 2007-01-17 2010-06-08 3D Systems, Inc. Method for removing excess uncured build material in solid imaging
US20080226346A1 (en) * 2007-01-17 2008-09-18 3D Systems, Inc. Inkjet Solid Imaging System and Method for Solid Imaging
JP4232842B2 (ja) * 2007-07-19 2009-03-04 セイコーエプソン株式会社 プロジェクタ
US20100166430A1 (en) 2008-12-26 2010-07-01 Steve Alten Broadcast optical interconnect using a MEMS mirror
JP2010224374A (ja) * 2009-03-25 2010-10-07 Seiko Epson Corp プロジェクター
JP6027533B2 (ja) * 2010-08-20 2016-11-16 ケース ウェスタン リザーブ ユニバーシティＣａｓｅ Ｗｅｓｔｅｒｎ Ｒｅｓｅｒｖｅ Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ インプラントの連続デジタル光処理による付加的製造
EP3282697B1 (en) * 2011-03-14 2022-06-08 Dolby Laboratories Licensing Corporation Projector with two modulation stages, method of driving a projector with two modulation stages and computer readable medium
JP6566872B2 (ja) * 2013-03-14 2019-08-28 ストラタシス リミテッド 高解像度ｄｌｐプロジェクタ装置、及びその利用方法
TWI628208B (zh) * 2015-01-12 2018-07-01 國立台灣科技大學 積層製造方法及光敏樹脂的光固化方法
US20170028647A1 (en) * 2015-07-29 2017-02-02 Industrial Technology Research Institute Three dimensional printing system
WO2017062630A1 (en) * 2015-10-07 2017-04-13 Autodesk, Inc. Sub-pixel grayscale three-dimensional printing

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6038067A (en) * 1996-05-23 2000-03-14 The Regents Of The University Of California Scanning computed confocal imager
CN1695076A (zh) * 2002-08-24 2005-11-09 无掩模平版印刷公司 连续地直接写的光刻技术
US20090262098A1 (en) * 2008-04-21 2009-10-22 Masafumi Yamada Electronics device having projector module
US20100328626A1 (en) * 2009-06-30 2010-12-30 Casio Computer Co., Ltd. Light source device, projection apparatus, and projection method
CN101937165A (zh) * 2009-06-30 2011-01-05 卡西欧计算机株式会社 光源装置、投影装置及投影方法
CN103917348A (zh) * 2011-06-28 2014-07-09 环球过滤系统商业用名海湾过滤系统股份有限公司 使用线性固化来成型三维物体的装置和方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105929623A (zh) * 2016-06-29 2016-09-07 海信集团有限公司 一种多屏投影设备及方法
CN107340679A (zh) * 2017-01-24 2017-11-10 深圳晗竣雅科技有限公司 通过反射镜摆动多次成像提高投影图片分辨率的方法
CN106827515A (zh) * 2017-02-20 2017-06-13 大族激光科技产业集团股份有限公司 3d打印成像校准方法和系统

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