CN105204180A - 复眼镜片的制造方法及装置 - Google Patents
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Abstract
一种复眼镜片的制造方法及装置，其特征是所述的方法包括以下步骤：首先，在眼镜片表面形成一层带有与图案的掩膜；其次，将带有掩膜的眼镜片放在等离子腔上进行等离子处理，最终在眼镜片表面沉积形成等离子层，或者将带有掩膜的眼镜片放在紫外光照射装置上进行紫外光照射，最终在眼镜片表面所需图案的涂层。本发明的方法及结构简单，利用很小的处理装置即可实现等离子腔处理或紫外照射成形，具有处理成本低，质量好，能满足大众化要求的特点。
Description
技术领域
本发明涉及一种眼镜制造技术，尤其是一种个性化眼镜制造技术，具体地说是一种在眼镜表面形成特定条件下显示图形的复眼镜片的制造方法及装置。
背景技术
等离子处理技术在表面的改性中得到了广泛的应用。各种等离子处理的原理的研究也很多。在材料的表面利用等离子处理技术，可以改变表面的亲水性和疏水性。利用等离子化学反应，可以在材料表面反应化学基团，从而改变表面的性质。相关的应用，在薄膜材料等方面应用很广泛。尤其在化学分析领域，材料塑料基体的微流体芯片，通过表面的处理，可以改变表面基团的电荷性质，从而在表面获得不同的性能，当然采用等离子处理可以提高芯片与玻璃的粘接能力。但是，目前很多处理都是把整个芯片放置在等离子处理设备的腔内，样品操作很烦琐。而眼镜片本身尺寸较小且形状不规则，因此，很难在其表面形成所需的等离子层或图案层，即使能形成也存在制造复杂，成本高的问题，而随着人们审美要求和个体要求的越来越高，对眼镜表面进行图形沉积并在特定条件下使图形显示具有很好的发展前景，为此本发明提出一种简单的设计，利用很小的等离子腔，对于固定表面进行处理，它结构简单，处理成本低，能满足大众化要求。
发明内容
本发明的目的是针对现有的眼镜表面图案加工复杂、成本高的问题，发明一种复眼镜片的制造方法，同时设计出相就的制造装置。
本发明的技术方案之一是：
一种复眼镜片的制造方法，其特征是它包括以下步骤：
首先，在眼镜片表面形成一层带有与图案的掩膜；
其次，将带有掩膜的眼镜片放在等离子腔上进行等离子处理，最终在眼镜片表面沉积形成等离子层，或者将带有掩膜的眼镜片放在紫外光照射装置上进行紫外光照射，最终在眼镜片表面所需图案的涂层。
所述的掩膜采用微细加工或激光刻写形成。
所述掩膜的厚度为100-200微米。
本发明的技术方案之二是：
一种复眼镜片的制造用等离子处理装置，其特征是它包括腔体2，腔体2的上端通过预制有掩膜的眼镜片1密封，腔体的下端连通有过渡腔8，过渡腔8与真空系统相连以便对腔体2进行抽真空，腔体2的底部安装有支座5，支座5与腔体之间加装有垫片6，支座5上固定安装有电极管3，电极管3中安装有等离子放电电极4，电极4通过导线7与电源相连。
本发明的技术方案之三是：
一种复眼镜片的制造用紫外照射装置，其特征是它包括工作腔10，工作腔10的上端通过预制有掩膜的眼镜片1密封，工作腔10的下端连通有紫外过渡腔15，紫外过渡腔15与真空系统相连以便对工作腔10进行抽真空，工作腔10的底部安装有灯座12，灯座12与工作腔之间加装有隔热垫13，灯座12上安装有紫外灯11，紫外灯11通过电线14与电源相连。
所述的预制有掩膜的眼镜片1在输送装置的带动下按节拍移动到腔体或工作腔上并停留设定的时间，完成等离子处理或紫外照射定形后自动移动至下一处理工序完成后续加工。
本发明的有益效果：
本发明有方法及结构简单，利用很小的处理装置即可实现等离子腔处理或紫外照射成形，具有处理成本低，质量好，能满足大众化要求的特点。
附图说明
图1是本发明的简易型等离子处理装置的结构示意图。
图2是本发明的简易型紫外照射装置的结构示意图。
图3是本发的掩膜制造方法示意图。
图4是直接在眼镜片上制造掩膜并进行等离子处理形成图案的方法示意图。
图5是本发明的掩膜图形示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的说明。
实施例一。
如图1、3，5所示。
一种复眼镜片的等离子制造方法，它包括以下步骤：
首先，在眼镜片表面形成一层带有与图案的掩膜；掩膜的成形过程如图3所示，先在掩膜材料16例如金属膜材料（厚度100-200微米）上通过处理工艺涂一层光刻胶17，将掩膜18覆盖在光刻胶17上，经过紫外照射，在光刻胶上形成图形，然后把金属膜和光刻胶通过喷淋光刻胶显影液得到光刻胶图形19，处理金属的腐蚀液在金属膜上形成图形20，最后清除光刻胶得到腐蚀图形21。该图形就是等离子处理用的掩膜，掩膜的俯视图如图5所示。
其次，将带有掩膜的眼镜片放在如图1所示的等离子处理装置上进行等离子处理，最终在眼镜片表面沉积形成等离子层。所述的等离子处理装置包括腔体2，腔体2的上端通过预制有掩膜的眼镜片1密封，腔体的下端连通有过渡腔8，过渡腔8与真空系统相连以便对腔体2进行抽真空，腔体2的底部安装有支座5，支座5与腔体之间加装有垫片6，支座5上固定安装有电极管3，电极管3中安装有等离子放电电极4，电极4通过导线7与电源相连。工作时，先抽真空，然后给电极施加放电电压，在腔内形成等离子体，等离子体对于样品1的表面进行处理。当处理时间到，关闭电源，同时腔体充气，把样品取走。
实施例二。
如图2、3、5所示。
一种复眼镜片的紫外照射制造方法，它包括以下步骤：
首先，在眼镜片表面形成一层带有与图案的掩膜；掩膜的成形过程如图3所示，先在掩膜材料16例如金属膜材料（厚度100-200微米）上通过处理工艺涂一层光刻胶17，将掩膜18覆盖在光刻胶17上，经过紫外照射，在光刻胶上形成图形，然后把金属膜和光刻胶通过喷淋光刻胶显影液得到光刻胶图形19，处理金属的腐蚀液在金属膜上形成图形20，最后清除光刻胶得到腐蚀图形21。该图形就是紫外照射处理用的掩膜，掩膜的俯视图如图5所示。
其次，将带有掩膜的眼镜片放在如图2所示的紫外照射装置上进行紫外光照射，最终在眼镜片表面沉积形成图案层。所述的紫外照射装置包括工作腔10，工作腔10的上端通过预制有掩膜的眼镜片1密封，工作腔10的下端连通有紫外过渡腔15，紫外过渡腔15与真空系统相连以便对工作腔10进行抽真空，工作腔10的底部安装有灯座12，灯座12与工作腔之间加装有隔热垫13，灯座12上安装有紫外灯11，紫外灯11通过电线14与电源相连。工作时，可以充入气体，使得掩膜与待处理的表面完全接触，，然后给紫外灯通电，完成紫外处理。处理结束，关紫外灯，把样品取走。
实施例三。
如图1、4、5所示。
一种复眼镜片的等离子制造方法，它包括以下步骤：
首先，在镜片材料22上，通过处理工艺涂一层光刻胶23，刻胶的掩膜24覆盖在光刻胶23上，经过紫外照射，在光刻胶上形成图形，然后光刻胶通过喷淋光刻胶显影液得到光刻胶图形25，把镜片表面的光刻胶图形一起放在等离子或者紫外设备，在镜片表面形成上形成图形，最后清除光刻胶得到图形26，如图4，该图形26就是等离子处理用的掩膜，俯视图如图5所示。
其次，将带有掩膜的眼镜片放在如图1所示的等离子处理装置上进行等离子处理，最终在眼镜片表面沉积形成等离子层。所述的等离子处理装置包括腔体2，腔体2的上端通过预制有掩膜的眼镜片1密封，腔体的下端连通有过渡腔8，过渡腔8与真空系统相连以便对腔体2进行抽真空，腔体2的底部安装有支座5，支座5与腔体之间加装有垫片6，支座5上固定安装有电极管3，电极管3中安装有等离子放电电极4，电极4通过导线7与电源相连。工作时，先抽真空，然后给电极施加放电电压，在腔内形成等离子体，等离子体对于样品1的表面进行处理。当处理时间到，关闭电源，同时腔体充气，把样品取走。
实施例四。
如图2、4、5所示。
一种复眼镜片的紫外照射制造方法，它包括以下步骤：
首先，在镜片材料22上，通过处理工艺涂一层光刻胶23，刻胶的掩膜24覆盖在光刻胶23上，经过紫外照射，在光刻胶上形成图形，然后光刻胶通过喷淋光刻胶显影液得到光刻胶图形25，把镜片表面的光刻胶图形一起放在等离子或者紫外设备，在镜片表面形成上形成图形，最后清除光刻胶得到图形26，如图4，该图形26就是等离子处理用的掩膜，俯视图如图5所示。
其次，将带有掩膜的眼镜片放在如图2所示的紫外照射装置上进行紫外光照射，最终在眼镜片表面沉积形成图案层。所述的紫外照射装置包括工作腔10，工作腔10的上端通过预制有掩膜的眼镜片1密封，工作腔10的下端连通有紫外过渡腔15，紫外过渡腔15与真空系统相连以便对工作腔10进行抽真空，工作腔10的底部安装有灯座12，灯座12与工作腔之间加装有隔热垫13，灯座12上安装有紫外灯11，紫外灯11通过电线14与电源相连。工作时，可以充入气体，使得掩膜与待处理的表面完全接触，，然后给紫外灯通电，完成紫外处理。处理结束，关紫外灯，把样品取走。
在实施例一至四中，由于本发明所处理的镜片的尺寸较小，因此可实现连续生产，将预制有掩膜的眼镜片1在输送装置的带动下按节拍移动到腔体或工作腔上并停留设定的时间，完成等离子处理或紫外照射定形后自动移动至下一处理工序完成后续加工。
本发明未涉及部分均与现有技术相同或可采用现有技术加以实现。
Claims (6)
1.一种复眼镜片的制造方法，其特征是它包括以下步骤：
首先，在眼镜片表面形成一层带有与图案的掩膜；
其次，将带有掩膜的眼镜片放在等离子腔上进行等离子处理，最终在眼镜片表面沉积形成等离子层，或者将带有掩膜的眼镜片放在紫外光照射装置上进行紫外光照射，最终在眼镜片表面所需图案的涂层。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征是所述的掩膜采用微细加工或激光刻写形成。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征是所述掩膜的厚度为100-200微米。
4.一种权利要求1所述的方法使用的等离子处理装置，其特征是它包括腔体（2），腔体（2）的上端通过预制有掩膜的眼镜片（1）密封，腔体的下端连通有过渡腔（8），过渡腔（8）与真空系统相连以便对腔体（2）进行抽真空，腔体（2）的底部安装有支座（5），支座（5）与腔体之间加装有垫片（6），支座（5）上固定安装有电极管（3），电极管（3）中安装有等离子放电电极（4），电极（4）通过导线（7）与电源相连。
5.一种权利要求1所述的方法使用的紫外照射装置，其特征是它包括工作腔（10），工作腔（10）的上端通过预制有掩膜的眼镜片（1）密封，工作腔（10）的下端连通有紫外过渡腔（15），紫外过渡腔（15）与真空系统相连以便对工作腔（10）进行抽真空，工作腔（10）的底部安装有灯座（12），灯座（12）与工作腔之间加装有隔热垫（13），灯座（12）上安装有紫外灯（11），紫外灯（11）通过电线（14）与电源相连。
6.根据权利要求4或5所述的装置，其特征是所述的预制有掩膜的眼镜片（1）在输送装置的带动下按节拍移动到腔体或工作腔上并停留设定的时间，完成等离子处理或紫外照射定形后自动移动至下一处理工序完成后续加工。
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