CN105158829B - 基板、彩色滤光片模组、形成基板模组的方法和显示装置 - Google Patents

基板、彩色滤光片模组、形成基板模组的方法和显示装置 Download PDF

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Abstract

本发明的实施例公开了用于显示装置的基板、用于显示装置的彩色滤光片模组、用于形成显示装置的基板模组的方法和显示装置。所述基板包括：基板主体；以及多个光学器件，通过形成在基板主体自身上的、多个凹槽形成多个光学器件。通过在基板主体自身上形成光学器件，由此不需要单独的光学器件。

Description

基板、彩色滤光片模组、形成基板模组的方法和显示装置
技术领域
本发明的实施例涉及一种用于显示装置的基板、一种用于显示装置的彩色滤光片模组、一种用于形成显示装置的基板模组的方法、以及一种显示装置。
背景技术
传统的显示装置通常采用单独的光学器件来达到各种效果。
发明内容
本发明的实施例的目的是提供一种用于显示装置的基板、一种用于显示装置的彩色滤光片模组、一种用于形成显示装置的基板模组的方法、以及一种显示装置，由此简化显示装置的结构。
根据本发明的实施例，提供了一种用于显示装置的基板，该基板包括：基板主体；以及多个光学器件，通过形成在基板主体自身上的、多个凹槽形成多个光学器件。
根据本发明的上述技术方案，通过在基板主体自身上形成光学器件，由此不需要单独的光学模组，简化了显示装置的结构，降低了显示装置的尺寸，确保了显示装置的性能稳定性和可靠性。
根据本发明的实施例，所述光学器件是多个排列成阵列的多个凹透镜。
根据本发明的上述技术方案，通过采用凹透镜，使显示装置的光线更加发散，视角更加开阔。
根据本发明的实施例，所述光学器件是多个棱镜。
根据本发明的上述技术方案，通过采用棱镜，使得可以在特定角度观看显示装置的图像，由此显示装置可以用于特定的用途。
根据本发明的实施例，所述棱镜排列成阵列。
根据本发明的实施例，显示装置包括子像素，所述光学器件在位置上与子像素分别相对应。
通过上述构造，光学器件在位置上与子像素分别相对应，由此可以将像素对应的滤光元件设置在凹槽中，从而能够进一步减小了显示装置的尺寸。
根据本发明的实施例，在大致垂直于基板主体的方向上观看时，凹槽具有大致矩形的形状或细长的条状形状。
根据本发明的实施例，提供了一种用于显示装置的彩色滤光片模组，包括：上述的基板；以及至少一部分设置在所述凹槽中的滤光元件。
采用上述构造，在基板主体自身上形成光学器件，由此不需要单独的光学模组，此外滤光元件的至少一部分可以设置在凹槽中，从而能够进一步减小显示装置的尺寸。
根据本发明的实施例，所述的用于显示装置的彩色滤光片模组还包括：形成黑色矩阵的涂层；在涂层中形成的多个通孔，在大致垂直于基板主体的方向上观看时，所述通孔的内周与对应的所述凹槽的内周大致重合。
根据本发明的实施例，所述的用于显示装置的彩色滤光片模组还包括：形成黑色矩阵的涂层；在涂层中形成的多个通孔，在大致垂直于基板主体的方向上观看时，所述通孔的内周的至少一部分在对应的所述凹槽的内周的内侧。
采用上述构造，由于所述通孔的内周的至少一部分在对应的所述凹槽的内周的内侧，可以确保不会发生漏光。
根据本发明的实施例，滤光元件的至少一部分设置在所述凹槽和对应的所述通孔围绕的空间中。
采用上述构造，滤光元件的至少一部分可以设置在凹槽中，从而能够进一步减小了显示装置的尺寸。
根据本发明的实施例，提供了一种用于形成显示装置的基板模组或彩色滤光片模组的方法，该方法包括：提供基板；以及在基板自身上形成多个凹槽以形成光学器件。
采用本发明的上述构造，通过在基板自身上形成光学器件，可以简化形成光学器件的工艺，使显示装置的组装工艺更加简单。
根据本发明的实施例，所述的用于形成显示装置的基板模组的方法还包括：在基板自身上形成多个凹槽以形成光学器件的步骤之前，在基板上形成涂层；在涂层中形成多个通孔；并且在基板自身上形成多个凹槽以形成光学器件的步骤包括通过通孔，利用刻蚀在基板自身上形成多个凹槽。
根据本发明的上述技术方案，利用刻蚀在基板自身上形成多个凹槽，可以使光学器件的质量更加可靠和稳定。
根据本发明的实施例，所述涂层构成显示装置的黑色矩阵。
根据本发明的上述技术方案，利用用于形成黑色矩阵的涂层来形成光学器件，仅仅通过增加一个加工步骤就可以形成光学器件，由此，能够节约成本并简化工艺。
根据本发明的实施例，所述刻蚀步骤包括在基板的形成有涂层的一侧朝上且基板倾斜放置的状态下，从基板的上边缘供给刻蚀液，使刻蚀液从基板的上边缘沿着基板的表面向下流动。
根据本发明的实施例，刻蚀步骤包括在基板大致竖直放置的状态下，从基板的上边缘供给刻蚀液，使刻蚀液从基板的上边缘沿着基板的表面向下流动。
根据本发明的实施例，所述刻蚀步骤还包括朝向基板的形成有涂层的一侧喷射刻蚀液，使每一个通孔中的刻蚀液受到预定的压力。
根据本发明的实施例，由多个喷嘴朝向基板的形成有涂层的一侧喷射刻蚀液。
根据本发明的实施例，多个喷嘴的喷射方向是能够调节的。
通过上述的技术方案，保证了凹槽的质量。例如，确保利用毛细现象形成的凹槽的质量。
根据本发明的实施例，所述的用于形成显示装置的基板模组的方法还包括：沿着所述通孔的内周切去在大致垂直于基板主体的方向上观看时涂层的在所述凹槽内周内侧的部分。
根据本发明的上述技术方案，通过沿着所述通孔的内周切去在大致垂直于基板主体的方向上观看时涂层的在所述凹槽内周内侧的部分，可以提高显示装置的开口率。
根据本发明的实施例，所述的用于形成显示装置的基板模组的方法还包括：至少在所述凹槽和对应的所述通孔围绕的空间中形成滤光元件。
采用上述构造，可以确保不会发生漏光。
根据本发明的实施例，形成滤光元件的步骤包括将光刻胶填充在所述凹槽和对应的所述通孔围绕的空间中，以及在基板的没有形成涂层的一侧对光刻胶进行照射以对光刻胶进行曝光，由此形成滤光元件。
采用上述构造，滤光元件的上表面更加平坦，高度差更小，减少了漏光的可能性。
根据本发明的实施例，所述光学器件是排列成阵列的多个凹透镜或棱镜。
根据本发明的上述技术方案，通过采用凹透镜，使显示装置的光线更加发散，视角更加开阔，并且通过采用棱镜，使得可以在特定角度观看显示装置的图像，由此显示装置可以用于特定的用途。
根据本发明的实施例，提供了一种显示装置，该显示装置包括：上述的基板或上述的用于显示装置的彩色滤光片模组。
根据本发明的上述技术方案，通过在基板主体自身上形成光学器件，由此不需要单独的光学模组，简化了显示装置的结构，降低了显示装置的成本和尺寸，确保了显示装置的质量以及性能稳定性和可靠性。
附图说明
图1为根据本发明的实施例的干净的玻璃基板的示意图；
图2为根据本发明的实施例的涂覆黑矩阵光刻胶后的玻璃基板的示意图；
图3为根据本发明的实施例的利用掩膜板对黑矩阵光刻胶曝光的示意图；
图4为根据本发明的实施例的显影固化后的玻璃基板以及形成的黑矩阵的示意图；
图5为根据本发明的实施例的刻蚀工艺原理的示意图；
图6为根据本发明的实施例的在基板主体自身上形成光学器件的一种系统的示意图；
图7为根据本发明的实施例的在基板主体自身上形成光学器件的另一种系统的示意图；
图8为根据本发明的实施例的经过刻蚀工序后的玻璃基板以及黑矩阵的示意图；
图9为根据本发明的实施例的经过对黑矩阵层进行切割后的玻璃基板以及黑矩阵的示意图；
图10为根据本发明的实施例彩色滤光片模组的示意图，通过在玻璃基板上形成滤光元件而形成彩色滤光片模组；
图11为根据本发明的实施例的、从基板的没有形成黑矩阵的一侧对像素光刻胶进行曝光以形成一个颜色的滤光元件的示意图；
图12为根据本发明的实施例的显影工序之后的玻璃基板、一个颜色的滤光元件、黑矩阵的示意图；
图13为根据本发明的实施例的显影工序之后形成的彩色滤光片模组的示意图，彩色滤光片模组包括玻璃基板、三个颜色的滤光元件、黑矩阵；
图14为传统的彩色滤光片模组的局部放大示意图；
图15为根据本发明的实施例的彩色滤光片模组的局部放大示意图；
图16为传统的彩色滤光片模组及其光路示意图；
图17为根据本发明的一个实施例的彩色滤光片模组及其光路示意图；
图18为根据本发明的另一个实施例的彩色滤光片模组及其光路示意图；
图19为根据本发明的又一种实施例的玻璃基板的示意图，其中玻璃基板上形成有棱镜和黑矩阵；
图20为根据本发明的实施例的一种用于形成显示装置的基板模组的方法的流程图；
图21为描述反应时间Time与玻璃质量损失Δm之间的关系的曲线图；
图22为描述反应速率r与反应温度Temperature的关系的曲线图；以及
图23为描述反应速率r与HF酸浓度的关系的曲线图。
具体实施方式
下面结合说明书附图来说明本发明的具体实施方式。
下面结合附图，对本发明实施例的具体实施方式进行详细地说明。另外，在下面的详细描述中，为便于解释，阐述了许多具体的细节以提供对本披露实施例的全面理解。然而明显地，一个或多个实施例在没有这些具体细节的情况下也可以被实施。在其他情况下，公知的结构和装置以图示的方式体现以简化附图。
如图8至13和17至19所示，根据本发明的实施例的用于显示装置的基板10包括：基板主体11；以及多个光学器件15，通过形成在基板主体11自身上的、多个凹槽151形成多个光学器件15。通过在基板主体11自身上形成光学器件15，由此不需要单独的光学模组，简化了显示装置的结构，降低了显示装置的尺寸，确保了显示装置的性能稳定性和可靠性。显示装置包括子像素，所述光学器件15在位置上与子像素分别相对应。通过光学器件15在位置上与子像素分别相对应，由此可以将像素对应的滤光元件设置在凹槽151中，从而能够进一步减小了显示装置的尺寸。
基板可以由玻璃制成，也可以由其它透明材料制成。
根据本发明的实施例，在大致垂直于基板主体11的方向上观看时，凹槽151可以具有大致矩形的形状，正方形的形状，其它多边形和正多边形的形状，或细长的条状形状。凹槽151的形状可以根据子像素的形状来确定。
如图8至13、17、18所示，根据本发明的一些实施例，所述光学器件15可以是多个排列成阵列的多个凹透镜。采用凹透镜，使显示装置的光线更加发散，视角更加开阔。
如图19所示，根据本发明的一些实施例，所述光学器件15可以是多个棱镜。所述棱镜可以排列成阵列。通过采用棱镜，使得可以在特定角度观看显示装置的图像，由此显示装置可以用于特定的用途。
作为选择，所述光学器件15也可以是任何合适的其它光学器件，例如具有各种结构的诸如微透镜的光学器件，由此使光线发散、漫射、偏转、会聚等。因此，光学器件15不限于上述实施例中的光学器件。
如图10、13、17、18所示，根据本发明的实施例还提供了一种用于显示装置的彩色滤光片模组50，彩色滤光片模组50包括上述的基板10；以及至少一部分设置在所述凹槽151中的滤光元件30。通过在基板主体11自身上形成光学器件，由此不需要单独的光学模组，此外滤光元件30的至少一部分可以设置在凹槽151中，从而能够进一步减小显示装置的尺寸。
根据本发明的一个示例，如图9、10、17所示，彩色滤光片模组50还包括：形成黑色矩阵的涂层20；在涂层20中形成的多个通孔21，在大致垂直于基板主体11的方向上观看时，所述通孔21的内周与对应的所述凹槽151的内周大致重合。
根据本发明的另一个示例，如图8、11、12、13、18所示，彩色滤光片模组50还包括：形成黑色矩阵的涂层20；在涂层20中形成的多个通孔21，在大致垂直于基板主体11的方向上观看时，所述通孔21的内周的至少一部分在对应的所述凹槽151的内周的内侧。由于所述通孔21的内周的至少一部分在对应的所述凹槽151的内周的内侧，可以确保不会发生漏光。
根据本发明的实施例，如图10、13、17、18所示，滤光元件30的至少一部分设置在所述凹槽151和对应的所述通孔21围绕的空间中。由于滤光元件30的至少一部分可以设置在凹槽151中，从而能够进一步减小了显示装置的尺寸。
下面将描述根据本发明的实施例的一种用于形成显示装置的基板模组或彩色滤光片模组的方法。
参见图1至20，该方法包括：步骤S100：提供基板10；以及步骤S200：在基板10自身上形成多个凹槽151以形成光学器件15。所述光学器件15可以是排列成阵列的多个凹透镜或棱镜。通过在基板10自身上形成光学器件15，可以简化形成光学器件15的工艺，使显示装置的组装工艺更加简单。
根据本发明的实施例，如图2至7所示，该方法还包括：在基板10自身上形成多个凹槽151以形成光学器件15的步骤之前，在基板10上形成涂层20；在涂层20中形成多个通孔21；并且在基板10自身上形成多个凹槽151以形成光学器件15的步骤包括通过通孔21，利用刻蚀在基板10自身上形成多个凹槽151。通过利用刻蚀在基板10自身上形成多个凹槽151，可以使光学器件15的质量更加可靠和稳定。根据本发明的示例，所述涂层20构成显示装置的黑色矩阵。通过利用用于形成黑色矩阵的涂层来形成光学器件15，仅仅通过增加一个加工步骤就可以形成光学器件15，由此，能够节约成本并简化工艺。
根据本发明的一个示例，如图6所示，所述刻蚀步骤包括在基板10的形成有涂层20的一侧朝上且基板10倾斜放置的状态下，从基板10的上边缘例如通过诸如刻蚀液供给槽的液体供给装置60供给刻蚀液，使刻蚀液从基板10的上边缘沿着基板10的表面向下流动。
根据本发明的另一个示例，如图7所示，刻蚀步骤包括在基板10大致竖直放置的状态下，从基板10的上边缘例如通过诸如刻蚀液供给槽的液体供给装置60供给刻蚀液，使刻蚀液从基板10的上边缘沿着玻璃基板10的表面向下流动。
根据本发明的实施例，如图6和7所示，所述刻蚀步骤还包括朝向基板10的形成有涂层20的一侧喷射刻蚀液，使每一个通孔21中的刻蚀液受到预定的压力。可以由多个喷嘴55朝向基板10的形成有涂层20的一侧喷射刻蚀液。多个喷嘴的喷射方向可以是能够调节的。
通过上述的工艺，保证了凹槽151的质量。例如，确保利用毛细现象形成的凹槽151的质量。
根据本发明的实施例，参见图8、9，该方法还包括：沿着所述通孔21的内周切去在大致垂直于基板主体11的方向上观看时涂层20的在所述凹槽151内周内侧的部分。通过沿着所述通孔21的内周切去在大致垂直于基板主体11的方向上观看时涂层20的在所述凹槽151内周内侧的部分，可以提高显示装置的开口率。
根据本发明的实施例，如图10至13、17、18所示，该方法还包括：至少在所述凹槽151和对应的所述通孔21围绕的空间中形成滤光元件30。采用上述方法形成的基板模组，可以确保不会发生漏光。
根据本发明的实施例，参见图8至13尤其是图11，形成滤光元件30的步骤包括将光刻胶31填充在所述凹槽151和对应的所述通孔21围绕的空间中，以及在基板10的没有形成涂层20的一侧对光刻胶31进行照射以对光刻胶31进行曝光，由此形成滤光元件30。采用上述方法，滤光元件30的上表面更加平坦，高度差更小，减少了漏光的可能性。
尽管上面表面了利用刻蚀形成凹槽151，但是凹槽151也可以由其它方式形成，例如可是通过激光形成凹槽151。
下面结合附图描述本发明的方法的一个示例。
如图1所示，首先制备基板10。基板10由玻璃或其它透明材料制成。然后，如图2所示，在基板10的表面均匀地涂覆黑矩阵光刻胶，形成涂层20。如图3所示，利用第一掩膜板70对涂层20进行曝光。如图4所示，涂层20被显影固化后，形成具有多个通孔21的黑矩阵层。
如图5至8所示，在基板10的形成有涂层20的一侧朝上且基板10倾斜放置的状态下，在涂覆有涂层20(黑矩阵层)的基板10的一侧从基板10的上边缘例如通过诸如刻蚀液供给槽的液体供给装置60供给刻蚀液，使刻蚀液从基板10的上边缘沿着基板10的表面向下流动，或者在基板10大致竖直放置的状态下，从基板10的上边缘例如通过诸如刻蚀液供给槽的液体供给装置60供给刻蚀液，使刻蚀液从基板10的上边缘沿着玻璃基板10的表面向下流动，由此进行刻蚀，对未被黑矩阵层涂覆的透光区域(例如，RGB亚像素区域)形成构成凹透镜的凹槽。
作为一个示例，在刻蚀过程中，可以利用毛细现象。
如图5所示，涂层20中的(矩形的或长条状的)通孔21的宽度在μm级别，通过毛细现象，玻璃刻蚀液80在涂层20中的通孔21中呈现如图5所示的形状，这样的形状的尺寸可以通过毛细理论公式计算得出；
h＝2γcosθ/(ρgr)
其中
h为刻蚀液80在涂层20中的通孔21中的高度；
γ为刻蚀液80的表面张力系数，张力系数可通过实验得出，且与玻璃刻蚀液80的成分相关；
θ为刻蚀液80与涂层20中的通孔21的内壁的接触角，接触角可通过实验得出且与玻璃刻蚀液80的成分相关；
ρ为刻蚀液80的密度；
g为重力加速度；以及
r为毛细管半径，这里为通孔21的宽度的一半。
根据上述公式可知，需要控制h的大小来形成凹槽151，通过控制γ、θ、ρ、r来实现凹槽151的深度以及大小，以及通过调配刻蚀液的成分、浓度以及涂层20中的通孔21的大小来实现所需的凹槽结构。
如图6、7所示，诸如刻蚀液供给槽的液体供给装置60可控制刻蚀液的浓度，温度，供给时间等参数。喷嘴55可对基板10施加横向的作用力，使每一个通孔21中的刻蚀液受到预定的压力，以控制凹槽151的深度以及形状，喷嘴55的喷射方向或角度为可调的，以达到所需形状的凹槽151；
如图8所示，通过刻蚀工艺，形成如图8所示的凹槽151。从图8中可以看出，在大致垂直于基板主体11的方向上观看时，所述通孔21的内周的至少一部分在对应的所述凹槽151的内周的内侧。即，涂层20的一部分突出到通孔21的内周之内。刻蚀液的流动性决定了刻蚀会向通孔21的外侧延伸，使黑矩阵层的一部分朝向通孔21的中心超过通孔21的内周。
在刻蚀过程中，为了控制凹槽20的大小，可以计算出玻璃基板的质量损失，即，凹槽的截面积乘以形成所需凹槽的长度，再乘以所需凹槽的个数和基板的密度，计算公式如下：
Δm＝S凹槽×L×n×ρ基板
其中，
S凹槽是凹槽的横截面积；
L是凹槽的长度；
n是凹槽的个数；
ρ基板是基板的密度。
此外，如果采用玻璃基板，由于玻璃基板的主要成分为SiO2，所以刻蚀液可以选取HF酸(但不局限于HF酸)。且HF酸不会与黑矩阵光刻胶发生化学反应，这样一来，黑矩阵光刻胶既保护了自己涂覆的那部分玻璃不被刻蚀，又充当了黑矩阵，具体化学反应方程式如下：
6HF+SiO2＝H2SiF6+2H2O
再参照图21至23所示的HF酸反应时间与玻璃基板的质量损失关系、反应速率与反应温度的关系、反应速率与HF酸浓度的关系，选择最佳的温度，刻蚀液的浓度，以及刻蚀反应时间。图21为描述反应时间Time与玻璃质量损失Δm之间的关系的曲线图；图22为描述反应速率r与反应温度Temperature的关系的曲线图；以及图23为描述反应速率r与HF酸浓度的关系的曲线图(上面三个曲线图来自参考文献：苏英，石英玻璃与HF酸反应动力学的研究.[J].硅酸盐学报，2004,32(3)，287-293)。
例如，假设所采用的HF酸浓度为1.4mol/L，通过反应速率与HF酸浓度的关系，可以得知反应速率r；通过反应速率与反应温度的关系，可以得知反应温度θ；通过反应时间与玻璃质量损失(Δm已知)关系，可以得知反应时间Time。
根据本发明的一个示例，如图8和9所示，通过切割工序，例如激光切割工序，沿着所述通孔21的内周切去在大致垂直于基板主体11的方向上观看时涂层20的在所述凹槽151内周内侧的部分。由此，从图8所示的结构形成图9所示的结构。
根据本发明的实施例，如图10所示，在图9所示的基板10上形成滤光元件30，每一个滤光元件30对应于一个子像素，由此形成彩色滤光片模组50。在滤光元件30形成之后，如需要，可在彩色滤光片模组50上形成平坦化层，然后进行透明导电层的制作。
根据本发明的一些实施例，如图11所示，在基板10上形成凹槽151之后，将经过刻蚀后的玻璃基板清洗干净后，涂覆Red像素光刻胶31(也可先涂覆Green/Blue像素光刻胶)，并通过第二掩膜板71进行曝光，具体而言，在基板10的没有形成涂层20的一侧对光刻胶31进行照射以对光刻胶31进行曝光。如图12所示，通过显影，形成红色滤光元件30。同样，涂覆Green以及Blue像素光刻胶，并将其曝光、显影，形成如图13所示的彩色滤光片模组50。
在上述实施例中，通过切割工序，例如激光切割工序，沿着所述通孔21的内周切去在大致垂直于基板主体11的方向上观看时涂层20的在所述凹槽151内周内侧的部分。由此，开口率会更大。
在上述实施例中，在不进行切割工序的情况下，通过在基板10的没有形成涂层20的一侧对光刻胶31进行照射以对光刻胶31进行曝光，涂层20下面的光刻胶也发生固化，这样一来，就减少了漏光的可能性。如图14和15所示，在图14所示的传统的彩色滤光片模组50'中，滤光元件30'在基板10'上的涂层20'的通孔21'中向左或者向右偏移就会漏光，而在图15所示的本发明的实施例的彩色滤光片模组50中，滤光元件30在涂层20的通孔21中向左或者向右偏移一定距离也不会漏光。
图16示出了传统的彩色滤光片模组50'，图17和18示出了根据本发明的实施例的彩色滤光片模组50。传统的彩色滤光片模组50'包括基板10'，在基板10'上的涂层(黑色矩阵层)20'，以及在涂层20'的通孔21'中的滤光元件30'。通过比较可以看出，根据本发明的实施例的彩色滤光片模组50的滤光元件30的上表面更加平坦，高度差更小，减少了漏光的可能性，且光线更加发散，视角更加开阔。
本发明的实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括：上述的基板10或上述的用于显示装置的彩色滤光片模组50，适应于各种显示模式的显示装置，例如TN模式，ADS模式等。
根据本发明的上述技术方案，通过在基板主体11自身上形成光学器件15，由此不需要单独的光学模组，简化了显示装置的结构，降低了显示装置的成本和尺寸，确保了显示装置的质量以及性能稳定性和可靠性。
以上实施方式仅用于说明本发明，而并非对本发明的限制，有关技术领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围的情况下，还可以做出各种变化和变型，因此所有等同的技术方案也属于本发明的范畴，本发明的专利保护范围应由权利要求限定。

Claims (8)

1.一种用于形成显示装置的彩色滤光片模组的方法，包括：
提供基板；
在基板上形成黑矩阵；
在基板的一个表面上形成多个凹槽，以使得所述黑矩阵覆盖所述凹槽的边缘部分并且所述基板在所述多个凹槽处形成多个凹透镜；
对所述黑矩阵进行切割，使得所述多个凹槽与未被所述黑矩阵覆盖的区域一致；以及
使用多个滤光元件分别填充所述多个凹槽，
其中，所述凹透镜使得经过所述滤光元件入射到其表面的光线发散。
2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述形成多个凹槽的步骤包括：
在基板的形成有黑矩阵的一侧朝上且基板倾斜放置的状态下，从基板的上边缘供给刻蚀液，使刻蚀液从基板的上边缘沿着基板的表面向下流动。
3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述形成多个凹槽的步骤包括：
在基板竖直放置的状态下，从基板的上边缘供给刻蚀液，使刻蚀液从基板的上边缘沿着基板的表面向下流动。
4.根据权利要求2或3所述的方法，其中，所述形成多个凹槽的步骤还包括：
向基板的形成有黑矩阵的一侧喷射刻蚀液，使未被黑矩阵覆盖的区域处的刻蚀液受到预定的压力。
5.根据权利要求4所述的方法，其中：
通过多个喷嘴来喷射刻蚀液。
6.根据权利要求5所述的方法，其中：
多个喷嘴的喷射方向是能够调节的。
7.根据权利要求1所述的方法，其中，所述使用多个滤光元件分别填充所述多个凹槽的步骤还包括：
填充所述黑矩阵的空隙。
8.根据权利要求1所述的方法，其中，所述使用多个滤光元件分别填充所述多个凹槽的步骤包括：
使用光刻胶填充所述凹槽和所述黑矩阵的空隙；
在基板的与黑矩阵相对的一侧通过掩模板对光刻胶进行曝光，以在凹槽中形成滤光元件。
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