CN105093742A - 阵列基板、液晶显示面板以及液晶显示器 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种阵列基板、液晶显示面板和液晶显示器，其中，阵列基板包括：基板及设置在基板上方的层间介质层，层间介质层包括像素非透光区域和像素透光区域；数据线，其形成在层间介质层的像素非透光区域上；第一绝缘层，其形成在像素非透光区域上并覆盖数据线形成梯台结构；第一导电层，其形成在层间介质层的像素透光区域和第一绝缘层上。该阵列基板不仅能够有效提高液晶显示面板的穿透率，还能够减少液晶显示面板中膜柱材料的使用量，从而降低面板的生产成本。

Description

阵列基板、液晶显示面板以及液晶显示器

技术领域

本发明涉及液晶显示技术领域，具体地说，涉及阵列基板、液晶显示面板以及液晶显示器。

背景技术

液晶显示器具有低辐射、体积小以及低能耗等优点，其已经逐渐取代传统的阴极射线管显示器而广泛地应用在平板电视、个人电脑以及移动显示面板等产品上。

随着小尺寸液晶显示面板的像素密度(PPI)越来越高，液晶显示面板中像素的尺寸也越来越小。同时，伴随着各个像素的开口率的降低，液晶显示面板的穿透率却随着面板解析度的提高而越来越低。而液晶显示面板的穿透率直接关系着面板的显示亮度以及功耗。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是为了提高现有的液晶显示面板的穿透率。为解决上述问题，本发明的一个实施例首先提供了一种阵列基板，所述阵列基板包括：

基板及设置在所述基板上方的层间介质层，所述层间介质层包括像素非透光区域和像素透光区域；

数据线，其形成在所述层间介质层的像素非透光区域上；

第一绝缘层，其形成在所述像素非透光区域上并覆盖所述数据线形成梯台结构；

第一导电层，其形成在所述层间介质层的像素透光区域和第一绝缘层上。

根据本发明的一个实施例，在所述阵列基板中，处于所述像素非透光区域上方的所述第一导电层的高度高于处于像素透光区域上方的所述第一导电层的高度。

根据本发明的一个实施例，所述阵列基板还包括：形成在所述第一导电层上的钝化层以及形成在所述钝化层上的第二导电层。

根据本发明的一个实施例，所述阵列基板还包括：

第二绝缘层，其形成在所述第一导电层上；

导电走线层，其形成在所述第二绝缘层上并处于所述像素非透光区域上方；

钝化层，其形成在所述第二绝缘层和导电走线层上；

第二导电层，其形成在所述钝化层上并处于所述像素透光区域上方。

根据本发明的一个实施例，所述导电走线层形成触摸电极。

根据本发明的一个实施例，在所述阵列基板中，处于所述像素非透光区域上方的所述钝化层的高度高于处于所述像素透光区域上方的所述钝化层的高度。

根据本发明的一个实施例，所述第二导电层形成像素电极层。

根据本发明的一个实施例，所述阵列基板还包括形成在所述基板和层间介质层之间的第三绝缘层。

本发明还提供了一种液晶显示面板，所述液晶显示面板包括：

彩色滤光板，其包括黑矩阵和设置在所述黑矩阵交叉位置上的膜柱；

如上任一项所述的阵列基板；以及，

设置在所述彩色滤光板与阵列基板之间的液晶盒；

其中，所述膜柱与所述像素非透光区域的正上方相对凸起的位置相接触。

本发明还提供了一种液晶显示器，所述液晶显示器包括如上所述的液晶显示面板。

本发明所提供的液晶显示面板中第一绝缘层不再覆盖全部层间介质层，而是以梯台地形式覆盖数据线。由于阵列基板中像素透光区域所对应的材料层的厚度降低了，这样也就有效提高了阵列基板的穿透率。

同时，当阵列基板与彩色滤光板之间的距离保持不变(即液晶盒的厚度保持不变)时，相较于现有的LTPS液晶显示面板，本发明所提供的液晶显示面板中膜柱的高度明显减小，因此液晶显示面板中膜柱的总体积也就相应减小，这样也就节省了制造膜柱所需要的材料，有助于降低液晶显示面板的生产成本。

本发明的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本发明而了解。本发明的目的和其他优点可通过在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要的附图做简单的介绍：

图1是现有的LTPSFFS液晶显示面板的结构示意图；

图2是根据本发明一个实施例的LTPSFFS液晶显示面板的结构示意图；

图3是现有的in-celltouch型LTPSFFS液晶显示面板的结构示意图；

图4是根据本发明一个实施例的in-celltouch型LTPSFFS液晶显示面板的结构示意图。

具体实施方式

以下将结合附图及实施例来详细说明本发明的实施方式，借此对本发明如何应用技术手段来解决技术问题，并达成技术效果的实现过程能充分理解并据以实施。需要说明的是，只要不构成冲突，本发明中的各个实施例以及各实施例中的各个特征可以相互结合，所形成的技术方案均在本发明的保护范围之内。

同时，在以下说明中，出于解释的目的而阐述了许多具体细节，以提供对本发明实施例的彻底理解。然而，对本领域的技术人员来说显而易见的是，本发明可以不用这里的具体细节或者所描述的特定方式来实施。

实施例一：

图1示出了传统LTPSFFS液晶显示面板的结构示意图。

如图1所示，传统LTPSFFS液晶显示面板包括：阵列基板、液晶盒109以及彩色滤光板110。其中，阵列基板包括：玻璃基板101、栅极绝缘层102、层间介质层103、数据线104、绝缘层105、公共电极层106、钝化层107和像素电极层108。其中，栅极绝缘层102形成在玻璃基板101上，层间介质层103形成在栅极绝缘层102上。

数据线104形成在层间介质层103的像素非透光区域上，绝缘层105形成在数据线104和层间介质层103上。从图1中可以看出，现有的LTPSFFS液晶显示面板中，绝缘层105不仅能够起到绝缘作用，还能够起到平坦层的作用，它能够保证与公共电极层106接触的界面是平坦的。

公共电极层106形成在绝缘层105上，而钝化层107则形成在公共电极层106与像素电极层108之间。

针对现有的LTPSFFS液晶显示面板所存在的穿透率低的问题，本实施例提供了一种新的LTPSFFS液晶显示面板，图2示出了该LTPSFFS液晶显示面板的结构示意图。

如图2所示，在本实施例所提供的LTPSFFS液晶显示面板中，第三绝缘层202形成在基板201上。其中，本实施例中，基板201采用玻璃来形成。需要说明的是，在发明的其他实施例中，基板201还可以采用其他合理材料(例如树脂等)来形成，本发明不限于此。

具体地，本实施例中，第三绝缘层202采用了Si0₂/SiNx的结构。当然，在本发明的其他实施例中，第三绝缘层202还可以采用其他合理的材料以及结构形式，本发明不限于此。

层间介质层203形成在第三绝缘层202上。本实施例中，层间介质层203中对应有像素非透光区域203a和像素透光区域203b。其中，数据线布线于像素非透光区域203a上，而像素电极则形成在像素透光区域203b上方。

数据线204形成在层间介质层203的像素非透光区域203a上，数据线204与该液晶显示面板中的TFT结构的源极或漏极连接(图2所示的为数据线位置的剖视图，因此并未示出TFT结构)。如图2所示，本实施例中，第一绝缘层205形成在层间介质层203的像素非透光区域203a上并覆盖数据线204，从而将数据线204与第一导电层206进行电隔离。本实施例中，第一绝缘层205覆盖在数据线204上形成了一梯台结构，而在层间介质层203的像素透光区域203b上则没有覆盖第一绝缘层205。

第一导电层206形成在层间介质层203和第一绝缘层205上，即第一导电层206覆盖了第一绝缘层205以及层间介质层203中未被第一绝缘层205所覆盖的区域。

本实施例中，第一导电层206采用ITO来实现，其形成了该LTPSFFS液晶显示面板的公共电极层。需要说明的是，在本发明的其他实施例中，第一导电层206还可以采用其他合理材料来形成，本发明不限于此。

在第一导电层206上还形成有钝化层207，而在钝化层207上则形成有第二导电层208。本实施例中，第二导电层208同样采用ITO来实现，其形成了该LTPSFFS液晶显示面板的像素电极层。需要说明的是，在本发明的其他实施例中，第二导电层208也可以采用其他合理材料来形成，本发明同样不限于此。

如图2所示，在本实施例所提供的阵列基板中，处于层间介质层203中像素非透光区域203a上方的第一导电层206和钝化层207的高度分别高于处于层间介质层203中像素透光区域203b上方的第一导电层206和钝化层207的高度。

彩色滤光板211包括：平坦层212、色阻层213、黑矩阵214、玻璃基板215以及形成在黑绝阵214交叉位置处的膜柱210。其中，黑矩阵214形成在玻璃基板215上，色阻层213形成在玻璃基板215中未被黑矩阵214覆盖的区域以及部分黑矩阵214上，平坦层212形成在黑矩阵214以及色阻层213上。

如图2所示，本实施例中，钝化层207中相对凸起的位置(即第一绝缘层205所对应的位置)与膜柱210的位置是对应的，即膜柱210与层间介质层203的像素非透光区域203a的正上方相对凸起的位置相接触。

从上述描述中可以看出，本实施例所提供的LTPSFFS液晶显示面板中第一绝缘层205不再覆盖全部层间介质层203，而是以梯台地形式覆盖数据线。由于各层介质对于透射光线均具有一定的吸收效果，而本实施例理所提供的阵列基板减少了透光层的厚度以及层数，因此相较于现有的阵列基板，本实施例所提供的阵列基板具有更高的穿透率。

同时，对比图1与图2可以看出，当阵列基板与彩色滤光板之间的距离保持不变(即液晶盒的厚度保持不变)时，相较于现有的LTPSFFS液晶显示面板，本实施例所提供的液晶显示面板中膜柱210的高度明显减小，因此液晶显示面板中膜柱的总体积也就相应减小，这样也就节省了制造膜柱所需要的材料，有助于降低液晶显示面板的生产成本。

实施例二：

图3示出了现有的in-celltouch型LTPSFFS液晶显示面板的结构示意图。

结合图1和图3可以看出，现有的in-celltouch型LTPSFFS液晶显示面板是在图1所示的LTPSFFS液晶显示面板的基础上，在公共电极层106与钝化层107之间设置了第二绝缘层301和导电走线层302。其中，第二绝缘层301形成在公共电极层106上，导电走线层302形成在第二绝缘层301与钝化层107之间。

然而，同图1所示的传统LTPSFFS液晶显示面板相同，图3所示的in-celltouch型LTPSFFS液晶显示面板同样存在穿透率低的问题。为此，本实施例提供了一种新的in-celltouch型LTPSFFS液晶显示面板，图4示出了该液晶显示面板的结构示意图。

对比图2和图4可以看出，本实施例所提供的in-celltouch型LTPSFFS液晶显示面板是在图2所示的液晶显示面板的基础上，在第一导电层206与钝化层207之间设置了第二绝缘层401和导电走线层402。其中，第二绝缘层401形成在第一导电层206上，导电走线层402形成在第二绝缘层401与钝化层207之间并处于层间介质层203的像素非透光区域203a上方。

需要说明的是，在本发明的不同实施例中，导线走线层302作为触摸电极，其既可以形成互电容的结构，也可以与公共电极层206共同形成自电容的结构，从而实现in-celltouch的功能。由于图4所示的液晶显示面板的其他部分与图2所示的液晶显示面板类似，在此不再赘述。

对比图3和图4可以看出，本实施例中中，由于处于层间介质层203的像素非透光区域203a上方的第一导电层206、钝化层207以及第二绝缘层401的高度要分别高于处于层间介质层203的像素透光区域203b上方的第一导电层206、钝化层207以及第二绝缘层401的高度，因此处于处于层间介质层203的像素非透光区域203a上方的钝化层207与处于层间介质层203的像素透光区域203b上方的钝化层207的高度差要明显大于现有的液晶显示面板，这也就使得阵列基板在与液晶盒209以及彩色滤光板211进行装配时，与层间介质层203的像素非透光区域203a正上方相对凸起的位置相接触的膜柱210的高度明显减小，从而减少了液晶显示面板中膜柱材料的使用量，进而降低了液晶显示面板的成本。

从上述描述中可以看出，本实施例所提供的in-celltouch型LTPSFFS液晶显示面板中第一绝缘层不再覆盖全部层间介质层203，而是以梯台地形式覆盖数据线。由于对透射光线具有吸收效果的材料层厚度的降低，因此也就能够有效提高阵列基板的穿透率。

同时，对比图3与图4可以看出，当阵列基板与彩色滤光板之间的距离保持不变(即液晶盒的厚度保持不变)时，相较于现有的in-celltouch型LTPSFFS液晶显示面板，本实施例所提供的液晶显示面板中膜柱的高度明显减小，因此液晶显示面板中膜柱的总体较也就相应减小，这样也就节省了制造膜柱所需要的材料，有助于降低液晶显示面板的生产成本。

需要说明的是，上述实施例中分别以LTPSFFS液晶显示面板以及in-celltouch型LTPSFFS液晶显示面板来对本发明所提供的阵列基板的原理以及优点做具体地说明，但这并不说明本发明所提供的阵列基板仅仅能够应用于LTPSFFS液晶显示面板以及in-celltouch型LTPSFFS液晶显示面板中，根据实际需要，本发明所提供的阵列基板同样可以应用于其他合理的液晶显示面板中，本发明不限于此。

本发明还提供了一种包含有上述液晶显示面板的液晶显示器。

应该理解的是，本发明所公开的实施例不限于这里所公开的特定结构、处理步骤或材料，而应当延伸到相关领域的普通技术人员所理解的这些特征的等同替代。还应当理解的是，在此使用的术语仅用于描述特定实施例的目的，而并不意味着限制。

说明书中提到的“一个实施例”或“实施例”意指结合实施例描述的特定特征、结构或特性包括在本发明的至少一个实施例中。因此，说明书通篇各个地方出现的短语“一个实施例”或“实施例”并不一定均指同一个实施例。

为了方便，在此使用的多个项目、结构单元和/或组成单元可出现在共同列表中。然而，这些列表应解释为该列表中的每个元素分别识别为单独唯一的成员。因此，在没有反面说明的情况下，该列表中没有一个成员可仅基于它们出现在共同列表中便被解释为相同列表的任何其它成员的实际等同物。另外，在此还可以连同针对各元件的替代一起来参照本发明的各种实施例和示例。应当理解的是，这些实施例、示例和替代并不解释为彼此的等同物，而被认为是本发明的单独自主的代表。

此外，所描述的特征、结构或特性可以任何其他合适的方式结合到一个或多个实施例中。在上面的描述中，提供一些具体的细节，例如材料等，以提供对本发明的实施例的全面理解。然而，相关领域的技术人员将明白，本发明无需上述一个或多个具体的细节便可实现，或者也可采用其它组件、材料等实现。在其它示例中，周知的结构或材料并未详细示出或描述以免模糊本发明的各个方面。

虽然上述示例用于说明本发明在一个或多个应用中的原理，但对于本领域的技术人员来说，在不背离本发明的原理和思想的情况下，明显可以在形式上、用法及实施的细节上作各种修改而不用付出创造性劳动。因此，本发明由所附的权利要求书来限定。

Claims (10)

1.一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板包括：

基板及设置在所述基板上方的层间介质层，所述层间介质层包括像素非透光区域和像素透光区域；

数据线，其形成在所述层间介质层的像素非透光区域上；

第一绝缘层，其形成在所述像素非透光区域上并覆盖所述数据线形成梯台结构；

第一导电层，其形成在所述层间介质层的像素透光区域和第一绝缘层上。

2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，在所述阵列基板中，处于所述像素非透光区域上方的所述第一导电层的高度高于处于像素透光区域上方的所述第一导电层的高度。

3.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括：形成在所述第一导电层上的钝化层以及形成在所述钝化层上的第二导电层。

4.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括：

第二绝缘层，其形成在所述第一导电层上；

导电走线层，其形成在所述第二绝缘层上并处于所述像素非透光区域上方；

钝化层，其形成在所述第二绝缘层和导电走线层上；

第二导电层，其形成在所述钝化层上并处于所述像素透光区域上方。

5.如权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述导电走线层形成触摸电极。

6.如权利要求3～5中任一项所述的阵列基板，其特征在于，在所述阵列基板中，处于所述像素非透光区域上方的所述钝化层的高度高于处于所述像素透光区域上方的所述钝化层的高度。

7.如权利要求3～5中任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述第二导电层形成像素电极层。

8.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括形成在所述基板和层间介质层之间的第三绝缘层。

9.一种液晶显示面板，其特征在于，所述液晶显示面板包括：

彩色滤光板，其包括黑矩阵和设置在所述黑矩阵交叉位置上的膜柱；

如权利要求1～8中任一项所述的阵列基板；以及，

设置在所述彩色滤光板与阵列基板之间的液晶盒；

其中，所述膜柱与所述像素非透光区域的正上方相对凸起的位置相接触。

10.一种液晶显示器，其特征在于，所述液晶显示器包括如权利要求9所述的液晶显示面板。