CN105080988A - 一种基于pcvd处理的铝合金空心管挤出模具 - Google Patents
一种基于pcvd处理的铝合金空心管挤出模具 Download PDFInfo
- Publication number
- CN105080988A CN105080988A CN201510599953.9A CN201510599953A CN105080988A CN 105080988 A CN105080988 A CN 105080988A CN 201510599953 A CN201510599953 A CN 201510599953A CN 105080988 A CN105080988 A CN 105080988A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- alloy hollow
- layer
- extrusion die
- plated film
- aluminum alloy
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 48
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 54
- MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N trimethyl(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C(F)(F)C(F)(F)F MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 29
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 19
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims abstract description 19
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims abstract description 18
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 claims description 58
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 49
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 49
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 39
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 31
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 18
- UGACIEPFGXRWCH-UHFFFAOYSA-N [Si].[Ti] Chemical compound [Si].[Ti] UGACIEPFGXRWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- QDZRBIRIPNZRSG-UHFFFAOYSA-N titanium nitrate Chemical compound [O-][N+](=O)O[Ti](O[N+]([O-])=O)(O[N+]([O-])=O)O[N+]([O-])=O QDZRBIRIPNZRSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 abstract 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 abstract 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 12
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 12
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 10
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 10
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 10
- 210000002381 plasma Anatomy 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 6
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 6
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 5
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 4
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 238000004378 air conditioning Methods 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 2
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- KMWBBMXGHHLDKL-UHFFFAOYSA-N [AlH3].[Si] Chemical compound [AlH3].[Si] KMWBBMXGHHLDKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本发明公开了一种基于PCVD处理的铝合金空心管挤出模具,包括基体及经PCVD处理镀在基体预定位置的镀膜,镀膜为依次覆着的2~5层,每层的镀膜材料为各自独立的氮化钛、碳化钛、碳氮化钛、氧化铝、氮化硅钛中的一种。本发明的铝合金空心管挤出模具的使用寿命是经传统渗氮表面处理的铝合金空心管挤出模具的1~10倍,大大延长了挤出模具的使用寿命。
Description
技术领域
本发明涉及等离子表面改性领域,尤其涉及一种基于PCVD处理的铝合金空心管挤出模具。
背景技术
微通道多孔管,特别是铝合金空心管是热交换器的主要零部件,是替代原有铜管的最佳产品,其散热效果好,成本低,产量高,广泛应用于汽车空调、家用空调、中央空调、冰箱换热器等。
微通道多孔管挤出模具是铝合金空心管成型的关键工艺装备。铝合金挤出模具是一种工作状态非常恶劣的模具,其主要表现为三个方面:(1)工作环境温度较高(450℃~500℃)并且长时间处于高温状态,普通的热作模具刚H13无法承受长时间的高温,长时间的高温会降低模具的硬度(HRC);(2)工作压力大,一般卧式挤压模具在工作的状态下要达到170kg的压力,长时间工作会使模具变形,影响产品的形状、尺寸;(3)微通道多孔管模具上模的芯子非常细小,不能用硬质合金代替,否则容易断裂,而用热作模具钢H13又不耐磨,容易导致芯子磨损,造成产品孔径变小。
表面改性技术可以改善模具的服役性能。
其中,等离子体渗氮是较早用于改善挤压模具摩擦磨损性能的表面技术,但该处理方法改性的表面抗磨损系数低,并不能大幅度提高挤压模具的寿命。
离子镀膜在摩擦学领域的应用给表面强化技术带来了一场革命,它通过在金属表面复合一层陶瓷薄膜使其耐磨性和耐蚀性等发生根本改变。目前常用的离子镀膜方法为物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)。多孔管模具的形状十分复杂,PVD涂层技术很难渗透到复杂的芯子里面进行沉积,而且PVD涂层的厚度不能达到要求,PVD涂层的厚度一般只有2~3μm,不能真正达到耐磨的效果。CVD涂层技术最大的缺点是涂层工作时的温度较高,一般都在1050℃左右,而热作模具钢H13在1050℃已经是淬火温度,所以采用先涂层后热处理的方法进行,但是模具在精加工完成后在热处理的过程中容易产生变形,导致产品报废。
等离子气相沉积(PCVD)是离子镀膜的一种新技术。PCVD所使用的等离子体是由低压辉光放电所产生,这些等离子体的内能很大,该能量将会轻松的使沉淀物质粒子激发或者电离,从而代替了传统方法的外加热源。同时,当沉积过程至于等离子场中时,许多新的、复杂的反应渠道被打开,如电子参加的反应、离子参加的反应以及其他激发类物质参加的反应,甚至等离子体内部也存在交互作用,从而大大加快了PCVD反应的速率。此外,等离子体产生的辐射和电子、离子、光子等对衬底表面的激发作用(轰击、辐照)作用,同样也能促使化学反应的继续进行。同时,其能量也被生长中的薄膜吸收,改善薄膜的结构和性能。
PCVD技术在低温下不仅有较大的沉积速率,而且生成的镀层结构较为稳定,其镀层密度大,应力大。
目前,应用PCVD技术处理的高温耐磨镀层主要为单一的镀层。PCVD硬质膜多为陶瓷材料,其厚度通常只有几微米,而基体一般是金属或合金,二者的硬度、弹性模量及热膨胀系数相差较远,加之晶格类型也不尽相同,这样会使PCVD硬质膜中缺陷增多,残留应力增加,硬度和结合力下降。
发明内容
针对现有技术存在的不足,本发明的目的在于提供一种基于PCVD处理的铝合金空心管挤出模具,该挤出模具表面覆盖若干镀层,提高膜基体系的综合性能,如硬度、断裂韧度及界面结合力等,寿命大大提高。
为实现上述目的,本发明提供了如下技术方案:
一种基于PCVD处理的铝合金空心管挤出模具,包括基体及经PCVD处理镀在基体预定位置的镀膜,镀膜为依次覆着的2~5层,每层的镀膜材料为各自独立的氮化钛(TiN)、碳化钛(TiC)、碳氮化钛(TiCN)、氧化铝(Al2O3)、氮化硅钛(TiSiN)中的一种。
在挤出模具表面覆盖多层PCVD镀膜,提高膜基体系的硬度、断裂韧度及界面结合力,防止镀膜在压应力的作用下断裂或剥落,延长挤出模具的使用寿命。
作为优选,镀膜为依次覆着的4层,每层的镀膜材料为各自独立的氮化钛、碳化钛、碳氮化钛、氧化铝、氮化硅钛中的一种。
作为优选,镀膜为依次覆着的4层,由内至外依次为第一层、第二层、第三层、第四层,第一层的镀膜材料为氮化钛,第二层、第三层、第四层的镀膜材料为各自独立的碳化钛、碳氮化钛、氧化铝、氮化硅钛中的一种。最靠近基体的镀膜为第一层,向外依次为第二层、第三层、第四层。
作为优选,第一层的镀膜材料为氮化钛,第四层的镀膜材料为碳化钛、氧化铝、碳氮化钛中的一种,第二层、第三层的镀膜材料为各自独立的氮化硅钛、碳氮化钛、氧化铝中的一种。
氮化钛镀膜硬度不高但结合力强度较大,适合镀设在基体表面,增强镀层与基体之间的结合强度;而碳化钛镀膜硬度虽高,但其与基体的结合力较弱,不适于镀设在基体表面;氮化硅铝镀膜是多元复合膜层,其既具有接近碳化钛的高硬度耐磨性,又具有与氮化钛膜层相当的结合强度,大大改善了膜层的性能。
作为优选,第一层的镀膜材料为氮化钛,第二层的镀膜材料为氮化硅钛,第四层的镀膜材料为碳化钛,第三层的镀膜材料为碳氮化钛或氧化铝。
作为优选,第一层的镀膜材料为氮化钛,第二层的镀膜材料为氮化硅钛,第三层的镀膜材料为碳氮化钛,第四层的镀膜材料为碳化钛。
作为优选,所述镀膜所有层总厚度为5~20μm。进一步优选的,所述镀膜所有层总厚度为8~10μm。
作为优选,由内而外各层的厚度比为:0.1~0.3∶1∶0.1~0.5∶0.1~0.7。进一步优选的,由内而外各层的厚度比为:0.1∶1∶0.2∶0.3。
一种优选的技术方案为:
一种基于PCVD处理的铝合金空心管挤出模具,包括基体及经PCVD处理镀在基体预定位置的镀膜,镀膜为依次覆着的4层,每层的镀膜材料为各自独立的氮化钛、碳化钛、碳氮化钛、氧化铝、氮化硅钛中的一种;由内而外各层的厚度比为:0.1~0.3∶1∶0.1~0.5∶0.1~0.7。
作为优选,镀膜为依次覆着的4层,每层的镀膜材料为各自独立的氮化钛、碳化钛、碳氮化钛、氧化铝、氮化硅钛中的一种;由内而外各层的厚度比为:0.1∶1∶0.2∶0.3。
作为优选,镀膜为依次覆着的4层,由内至外依次为第一层、第二层、第三层、第四层,第一层的镀膜材料为氮化钛,第二层、第三层、第四层的镀膜材料为各自独立的碳化钛、碳氮化钛、氧化铝、氮化硅钛中的一种;由内而外各层的厚度比为:0.1∶1∶0.2∶0.3。
作为优选,第一层的镀膜材料为氮化钛,第四层的镀膜材料为碳化钛、氧化铝、碳氮化钛中的一种,第二层、第三层的镀膜材料为各自独立的氮化硅钛、碳氮化钛、氧化铝中的一种;由内而外各层的厚度比为:0.1∶1∶0.2∶0.3。
作为优选,第一层的镀膜材料为氮化钛,第二层的镀膜材料为氮化硅钛,第四层的镀膜材料为碳化钛,第三层的镀膜材料为碳氮化钛或氧化铝;由内而外各层的厚度比为:0.1∶1∶0.2∶0.3。
作为优选,第一层的镀膜材料为氮化钛,第二层的镀膜材料为氮化硅钛,第三层的镀膜材料为碳氮化钛,第四层的镀膜材料为碳化钛;由内而外各层的厚度比为:0.1∶1∶0.2∶0.3。
最优选的,第一层的镀膜材料为氮化钛,第二层的镀膜材料为氮化硅钛,第三层的镀膜材料为碳氮化钛,第四层的镀膜材料为碳化钛;由内而外各层的厚度比为:0.1∶1∶0.2∶0.3;所述镀膜所有层总厚度为8~10μm。
作为优选,所述基体的材料为热作模具刚H13,其硬度为HRC52~54。
作为优选,所述镀膜的硬度为Hv2000~3000。
上述铝合金空心管挤出模具的PCVD处理方法,包括:将铝合金空心管挤出模具经热处理后在预定位置通过PCVD进行镀膜。
作为优选,镀膜温度为500~600℃,镀膜时间为8~10小时。
作为优选,所述热处理为依次进行的淬火和回火,淬火温度为900~1200℃,回火温度为400~600℃。进一步优选的,淬火温度为1120℃,回火温度为550℃。
与现有技术相比,本发明的有益效果为:
在挤出模具表面覆盖多层PCVD镀膜,缩小镀膜与基体二者之间的硬度、弹性模量及热膨胀系数的差异,减小镀膜中的缺陷,提高膜基体系的硬度、断裂韧度及界面结合力,防止镀膜在压应力的作用下断裂或剥落,延长挤出模具的使用寿命。经传统渗氮表面处理的铝合金空心管挤出模具可生产空心管1~2吨,经经本发明的表面处理方法处理后的铝合金空心管挤出模具可生产空心管8~10吨,经本发明的表面处理方法处理后的铝合金空心管挤出模具的使用寿命是经传统渗氮表面处理的铝合金空心管挤出模具的4~10倍,大大延长了挤出模具的使用寿命。
具体实施方式
氮化钛(TiN)镀膜的工艺条件:脉冲电压700V,占空比1∶1,脉冲频率17KHz,温度520℃,气压200Pa,N2180ml/min,H2800~1000ml/min,Ar70ml/min,TiCl4(载气H2)20~40ml/min;
碳化钛(TiC)镀膜的工艺条件:脉冲电压700V,占空比1∶1,脉冲频率17KHz,温度520℃,气压200Pa,CH4180ml/min,H2800~1000ml/min,Ar70ml/min,TiCl4(载气H2)20~40ml/min;
碳氮化钛(TiCN)镀膜的工艺条件:脉冲电压700V,占空比1∶1,脉冲频率17KHz,温度520℃,气压200Pa,N230ml/min,CH4120ml/min,H2800~1000ml/min,Ar70ml/min,TiCl4(载气H2)20~40ml/min;
氮化硅钛(TiSiN)镀膜的工艺条件:脉冲电压700V,占空比1∶1,脉冲频率17KHz,温度520℃,气压200Pa,N2180ml/min,H2800~1000ml/min,Ar70ml/min,TiCl4、SiCl4(载气H2)20~40ml/min。
镀膜的厚度可根据需要实时监测控制。
实施例1
采用下列步骤对热作模具钢H13材料制成的铝合金空心管挤出模具进行表面处理:
(1)对挤出模具进行热处理:淬火温度为1120℃,回火温度为550℃(HRC=52~54),然后进行除油、剖光、脱水;
(2)采用PCVD依次进行TiN、TiC、TiCN、TiSiN镀膜,各层镀膜的厚度分别为0.5μm、5μm、1μm、1.5μm。
经上述表面处理的挤出模具,在其正常使用周期内,可生产铝合金空心管6吨,镀膜的硬度为Hv2900。
实施例2
采用下列步骤对热作模具钢H13材料制成的铝合金空心管挤出模具进行表面处理:
(1)对挤出模具进行热处理:淬火温度为1120℃,回火温度为550℃(HRC=52~54),然后进行除油、剖光、脱水;
(2)采用PCVD依次进行TiC、TiN、TiCN、TiSiN镀膜,各层镀膜的厚度分别为0.5μm、5μm、1μm、1.5μm。
经上述表面处理的挤出模具,在其正常使用周期内,可生产铝合金空心管5.3吨,镀膜的硬度为Hv2900。
实施例3
采用下列步骤对热作模具钢H13材料制成的铝合金空心管挤出模具进行表面处理:
(1)对挤出模具进行热处理:淬火温度为1120℃,回火温度为550℃(HRC=52~54),然后进行除油、剖光、脱水;
(2)采用PCVD依次进行TiN、Al2O3、TiCN、TiSiN镀膜,各层镀膜的厚度分别为0.5μm、5μm、1μm、1.5μm。
经上述表面处理的挤出模具,在其正常使用周期内,可生产铝合金空心管5.1吨,镀膜的硬度为Hv2800。
实施例4
采用下列步骤对热作模具钢H13材料制成的铝合金空心管挤出模具进行表面处理:
(1)对挤出模具进行热处理:淬火温度为1120℃,回火温度为550℃(HRC=52~54),然后进行除油、剖光、脱水;
(2)采用PCVD依次进行TiN、Al2O3、TiCN、TiC镀膜,各层镀膜的厚度分别为0.5μm、5μm、1μm、1.5μm。
经上述表面处理的挤出模具,在其正常使用周期内,可生产铝合金空心管6.6吨,镀膜的硬度为Hv2800。
实施例5
采用下列步骤对热作模具钢H13材料制成的铝合金空心管挤出模具进行表面处理:
(1)对挤出模具进行热处理:淬火温度为1120℃,回火温度为550℃(HRC=52~54),然后进行除油、剖光、脱水;
(2)采用PCVD依次进行TiN、TiCN、TiSiN、TiC镀膜,各层镀膜的厚度分别为0.5μm、5μm、1μm、1.5μm。
经上述表面处理的挤出模具,在其正常使用周期内,可生产铝合金空心管9.3吨,镀膜的硬度为Hv3000。
实施例6
采用下列步骤对热作模具钢H13材料制成的铝合金空心管挤出模具进行表面处理:
(1)对挤出模具进行热处理:淬火温度为1120℃,回火温度为550℃(HRC=52~54),然后进行除油、剖光、脱水;
(2)采用PCVD依次进行TiN、TiCN、TiSiN、TiC镀膜,各层镀膜的厚度分别为0.5μm、5μm、1μm、1.5μm。
经上述表面处理的挤出模具,在其正常使用周期内,可生产铝合金空心管9.5吨,镀膜的硬度为Hv3000。
实施例7
采用下列步骤对热作模具钢H13材料制成的铝合金空心管挤出模具进行表面处理:
(1)对挤出模具进行热处理:淬火温度为1120℃,回火温度为550℃(HRC=52~54),然后进行除油、剖光、脱水;
(2)采用PCVD依次进行TiN、TiCN、TiSiN、TiC镀膜,各层镀膜的厚度分别为0.6μm、6μm、1.2μm、1.8μm。
经上述表面处理的挤出模具,在其正常使用周期内,可生产铝合金空心管9.8吨,镀膜的硬度为Hv3000。
实施例8
采用下列步骤对热作模具钢H13材料制成的铝合金空心管挤出模具进行表面处理:
(1)对挤出模具进行热处理:淬火温度为1120℃,回火温度为550℃(HRC=52~54),然后进行除油、剖光、脱水;
(2)采用PCVD依次进行TiN、TiCN、TiSiN、TiC镀膜,各层镀膜的厚度分别为1μm、10μm、2μm、3μm。
经上述表面处理的挤出模具,在其正常使用周期内,可生产铝合金空心管8吨,镀膜的硬度为Hv3000。
对比例1
采用下列步骤对热作模具钢H13材料制成的铝合金空心管挤出模具进行表面处理:
(1)对挤出模具进行热处理:淬火温度为1120℃,回火温度为550℃(HRC=52~54),然后进行除油、剖光、脱水;
(2)采用PCVD依次进行TiN、TiC镀膜,各层镀膜的厚度分别为3μm、5μm。
经上述表面处理的挤出模具,在其正常使用周期内,可生产铝合金空心管4吨,镀膜的硬度为Hv3000。
对比例2
采用下列步骤对热作模具钢H13材料制成的铝合金空心管挤出模具进行表面处理:
(1)对挤出模具进行热处理:淬火温度为1120℃,回火温度为550℃(HRC=52~54),然后进行除油、剖光、脱水;
(2)采用PCVD依次进行TiN镀膜,镀膜的厚度为8μm。
经上述表面处理的挤出模具,在其正常使用周期内,可生产铝合金空心管3.5吨,镀膜的硬度为Hv2300。
Claims (8)
1.一种基于PCVD处理的铝合金空心管挤出模具,其特征在于,包括基体及经PCVD处理镀在基体预定位置的镀膜,镀膜为依次覆着的2~5层,每层的镀膜材料为各自独立的氮化钛、碳化钛、碳氮化钛、氧化铝、氮化硅钛中的一种。
2.根据权利要求1所述的基于PCVD处理的铝合金空心管挤出模具,其特征在于,所述镀膜为依次覆着的4层,每层的镀膜材料为各自独立的氮化钛、碳化钛、碳氮化钛、氧化铝、氮化硅钛中的一种。
3.根据权利要求1所述的基于PCVD处理的铝合金空心管挤出模具,其特征在于,所述镀膜所有层总厚度为5~20μm。
4.根据权利要求3所述的基于PCVD处理的铝合金空心管挤出模具,其特征在于,所述镀膜所有层总厚度为8~10μm。
5.根据权利要求1所述的基于PCVD处理的铝合金空心管挤出模具,其特征在于,由内而外各层的厚度比为:0.1~0.3∶1∶0.1~0.5∶0.1~0.7。
6.根据权利要求5所述的基于PCVD处理的铝合金空心管挤出模具,其特征在于,由内而外各层的厚度比为:0.1∶1∶0.2∶0.3。
7.根据权利要求1所述的基于PCVD处理的铝合金空心管挤出模具,其特征在于,所述镀膜的硬度为Hv2000~3000。
8.根据权利要求1所述的基于PCVD处理的铝合金空心管挤出模具,其特征在于,所述基体的材料为热作模具刚H13,其硬度为HRC52~54。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201510599953.9A CN105080988B (zh) | 2015-09-18 | 2015-09-18 | 一种基于pcvd处理的铝合金空心管挤出模具 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201510599953.9A CN105080988B (zh) | 2015-09-18 | 2015-09-18 | 一种基于pcvd处理的铝合金空心管挤出模具 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN105080988A true CN105080988A (zh) | 2015-11-25 |
CN105080988B CN105080988B (zh) | 2017-09-19 |
Family
ID=54562843
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201510599953.9A Expired - Fee Related CN105080988B (zh) | 2015-09-18 | 2015-09-18 | 一种基于pcvd处理的铝合金空心管挤出模具 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN105080988B (zh) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN86106364A (zh) * | 1986-09-12 | 1988-03-23 | 青岛化工学院 | 等离子体沉积保护膜的方法和装置 |
CN1128301A (zh) * | 1995-11-07 | 1996-08-07 | 北京航空航天大学 | 复合渗镀方法 |
US5652061A (en) * | 1995-05-22 | 1997-07-29 | Lucent Technologies Inc. | Devices comprising films of β-C3 N4 |
CN1263953A (zh) * | 1999-12-29 | 2000-08-23 | 西安交通大学 | 工业型脉冲直流等离子体化学气相沉积工模具表面强化设备 |
CN1392285A (zh) * | 2002-03-25 | 2003-01-22 | 西安交通大学 | 精密叶片热锻模具pcvd等离子体渗镀复合强化方法 |
-
2015
- 2015-09-18 CN CN201510599953.9A patent/CN105080988B/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN86106364A (zh) * | 1986-09-12 | 1988-03-23 | 青岛化工学院 | 等离子体沉积保护膜的方法和装置 |
US5652061A (en) * | 1995-05-22 | 1997-07-29 | Lucent Technologies Inc. | Devices comprising films of β-C3 N4 |
CN1128301A (zh) * | 1995-11-07 | 1996-08-07 | 北京航空航天大学 | 复合渗镀方法 |
CN1263953A (zh) * | 1999-12-29 | 2000-08-23 | 西安交通大学 | 工业型脉冲直流等离子体化学气相沉积工模具表面强化设备 |
CN1392285A (zh) * | 2002-03-25 | 2003-01-22 | 西安交通大学 | 精密叶片热锻模具pcvd等离子体渗镀复合强化方法 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
周书助: "《硬质材料与工具》", 31 August 2015, 冶金工业出版社 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN105080988B (zh) | 2017-09-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Rousseau et al. | Microstructural and tribological characterisation of a nitriding/TiAlN PVD coating duplex treatment applied to M2 High Speed Steel tools | |
Chang et al. | Growth (AlCrNbSiTiV) N thin films on the interrupted turning and properties using DCMS and HIPIMS system | |
CN106011738B (zh) | 一种模具用表面渗镀复合涂层工艺 | |
US20120315453A1 (en) | Coating layer structure of basic material of mold | |
US20140093642A1 (en) | Coating material for aluminum die casting mold and method of manufacturing the coating material | |
CN103370438B (zh) | 具有Cr-Si-N涂层的热金属板材成型或冲压工具 | |
KR20140019673A (ko) | 멀티 코팅층을 갖는 초고장력 강판 성형용 금형 | |
US8741111B2 (en) | Coated article and method for making said article | |
KR101626605B1 (ko) | 알루미늄-마그네슘 코팅 강판 및 그 제조 방법 | |
CN104911552A (zh) | 一种热挤压模具渗镀复合表面强化方法 | |
KR101527144B1 (ko) | 마그네슘-알루미늄 코팅 강판 및 그 제조 방법 | |
CN212335269U (zh) | 一种沉积在立方氮化硼刀具表面的复合涂层及真空镀膜装置 | |
CN103215544A (zh) | 一种应用于挤压丝锥的涂层 | |
US20160186306A1 (en) | TiB2 LAYERS AND MANUFACTURE THEREOF | |
CN1651597A (zh) | 冷锻模型面硬质覆膜强化处理方法 | |
KR20170128675A (ko) | 다원계 합금 복합 박막 형성공법 | |
CN105112884B (zh) | 一种铝合金空心管挤出模具的pcvd表面处理方法 | |
JP2011225982A (ja) | 皮膜密着性に優れた被覆部材およびその製造方法 | |
CN105080988A (zh) | 一种基于pcvd处理的铝合金空心管挤出模具 | |
US8592031B2 (en) | Coated article and method for making the same | |
KR20150116523A (ko) | 지르코늄 복합소재 코팅층 및 상기 코팅층의 형성 방법 | |
CN103045998A (zh) | 一种含有CrNiTiAlN五元涂层的制品及制备方法 | |
JP5464494B2 (ja) | 硬質被覆層の耐欠損性、耐剥離性に優れる表面被覆切削工具 | |
US8722180B2 (en) | Coated article and method for making said article | |
JP2005068499A (ja) | 密着性に優れた硬質膜を備えている金属製品、同金属製品の製造方法及び同硬質膜を施した切削工具及び金型 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
CB02 | Change of applicant information | ||
CB02 | Change of applicant information |
Address after: 312300 Zhejiang Province, Shaoxing city Shangyu District Baiguan Street Road East Industrial Zone Applicant after: ZHEJIANG CBT INTELLIGENT EQUIPMENT TECHNOLOGY CO.,LTD. Address before: 312300 Zhejiang Province, Shaoxing city Shangyu District Baiguan Street Road East Industrial Zone Applicant before: SHANGYU HONG'EN PRECISION MACHINERY Co.,Ltd. |
|
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20170919 |