CN105039985A - 一种铜蚀刻液 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种铜蚀刻液，其特征在于：？包含作为基本成分的乙二胺和与之配合的氯酸盐，所述铜蚀刻液的铜浓度为1-150克/升。本发明的铜蚀刻液，蚀刻干净，污染小，易于制备，生产成本低，值得推广。
Description
技术领域
本发明涉及化工领域，尤其涉及一种铜蚀刻液。
背景技术
现有的铜蚀刻液通常污染大，成本高，蚀刻速率或者蚀刻程度较难控制，人们一直在追求更好的铜蚀刻液。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种蚀刻效果好、成本低，污染小的铜蚀刻液。
本发明是通过以下技术方案来实现：
一种铜蚀刻液，其特征在于：包含作为基本成分的乙二胺和与之配合的氯酸盐，所述铜蚀刻液的铜浓度为1-150克/升。
作为优选，所述铜蚀刻液的铜浓度保持方法为选择性分离铜的方法。
本发明的有益效果是：本发明的铜蚀刻液，蚀刻干净，污染小，易于制备，生产成本低，值得推广。
具体实施方式
下面结合具体实施方式，对本发明作进一步说明，但本发明的保护范围并不限于所述内容。
一种铜蚀刻液，其特征在于：包含作为基本成分的乙二胺和与之配合的氯酸盐，所述铜蚀刻液的铜浓度为1-150克/升。所述铜蚀刻液的铜浓度保持方法为选择性分离铜的方法。
本发明的有益效果是：本发明的铜蚀刻液，工序少、制作成本低、冷却效果好。
本发明的铜蚀刻液，工序少、制作成本低、冷却效果好。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何不经过创造性劳动想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应该以权利要求书所限定的保护范围为准。
Claims (2)
1.一种铜蚀刻液，其特征在于：包含作为基本成分的乙二胺和与之配合的氯酸盐，所述铜蚀刻液的铜浓度为1-150克/升。
2.根据权利要求1所述的铜蚀刻液，其特征在于，所述铜蚀刻液的铜浓度保持方法为选择性分离铜的方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201510400423.7A CN105039985A (zh) | 2015-07-10 | 2015-07-10 | 一种铜蚀刻液 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201510400423.7A CN105039985A (zh) | 2015-07-10 | 2015-07-10 | 一种铜蚀刻液 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN105039985A true CN105039985A (zh) | 2015-11-11 |
Family
ID=54446949
Family Applications (1)
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| CN201510400423.7A Pending CN105039985A (zh) | 2015-07-10 | 2015-07-10 | 一种铜蚀刻液 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN105039985A (zh) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107236958A (zh) * | 2017-06-21 | 2017-10-10 | 合肥市惠科精密模具有限公司 | 一种用于液晶显示屏玻璃基板的铜蚀刻液 |
| WO2017219395A1 (zh) * | 2016-06-20 | 2017-12-28 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 铜蚀刻液添加剂以及铜蚀刻液的生成方法 |
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2015
- 2015-07-10 CN CN201510400423.7A patent/CN105039985A/zh active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| WO2017219395A1 (zh) * | 2016-06-20 | 2017-12-28 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 铜蚀刻液添加剂以及铜蚀刻液的生成方法 |
| US10246783B2 (en) | 2016-06-20 | 2019-04-02 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd | Copper etchant solution additives and method for producing copper etchant solution |
| CN107236958A (zh) * | 2017-06-21 | 2017-10-10 | 合肥市惠科精密模具有限公司 | 一种用于液晶显示屏玻璃基板的铜蚀刻液 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20151111 |
|
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |