CN105016739A - 一种高精度精密陶瓷球制造工艺 - Google Patents

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吴光武
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Abstract

本发明公开了一种高精度精密陶瓷球制造工艺,选用氮化硅为材料,由烧结、粗磨、精磨、初研、精研五大工艺构成,所述烧结为热等静压烧结法,将质量百分比为90%的氮化硅(Si3N4)与质量百分比为10%的烧结助剂混合后,在1500±50℃的温度下使用氮气作为加压介质,利用各向均等的静压力压制3~5分钟后,烧结成型,所述各向均等的静压力值在6-7MPa之间,实现了高精度精密陶瓷球制造工艺简单,成本较低,效率较高的技术效果。

Description

一种高精度精密陶瓷球制造工艺
技术领域
本发明涉及陶瓷加工制造领域,尤其涉及一种高精度精密陶瓷球制造工艺。
背景技术
瓷球分为填料瓷球,研磨瓷球两种,填料瓷球广泛用于石油、化工、化肥、天然气及环保等行业,作为反应器内催化剂的覆盖支撑材料和塔填料,它具有耐高温高压,吸水率低,化学性能稳定的特点,能经受酸、碱及其它有机溶剂的腐蚀,并能经受生产过程中出现的温度变化。
瓷球广泛用于石油、化工、化肥、天然气及环保等行业,作为反应器内催化剂的覆盖支撑材料和塔填料,它具有耐高温高压,吸水率低,化学性能稳定的特点。能经受酸、碱及其它有机溶剂的腐蚀,并能经受生产过程中出现的温度变化,其主要作用是增加气体或液体分布点,支撑和保护强度不高的活性催化剂,瓷球分类:瓷球按用途分类可分为:填料瓷球和研磨瓷球两种。
在现有技术中,现有的陶瓷球制造工艺存在成本较高、效率较低的技术问题。
发明内容
本发明提供了一种高精度精密陶瓷球制造工艺,解决了现有的陶瓷球制造工艺存在成本较高、效率较低的技术问题,实现了高精度精密陶瓷球制造工艺简单,成本较低,效率较高的技术效果。
为解决上述技术问题,本申请实施例提供了一种高精度精密陶瓷球制造工艺,选用氮化硅为材料,由烧结、粗磨、精磨、初研、精研五大工艺构成:所述烧结为热等静压烧结法,将质量百分比为90%的氮化硅(Si3N4)与质量百分比为10%的烧结助剂混合后,在1500±50℃的温度下使用氮气作为加压介质,利用各向均等的静压力压制3~5分钟后,烧结成型,所述各向均等的静压力值在6-7MPa之间。
进一步的,所述烧结助剂为AL2O3和Y2O3的混合物。
进一步的,所述烧结、粗磨、精磨、初研、精研均采用自动化生产线进行加工。
本申请实施例中提供的一个或多个技术方案,至少具有如下技术效果或优点:
由于采用了将高精度精密陶瓷球制造工艺设计为:选用氮化硅为材料,由烧结、粗磨、精磨、初研、精研五大工艺构成,所述烧结为热等静压烧结法,将质量百分比为90%的氮化硅(Si3N4)与质量百分比为10%的烧结助剂混合后,在1500±50℃的温度下使用氮气作为加压介质,利用各向均等的静压力压制3~5分钟后,烧结成型,所述各向均等的静压力值在6-7MPa之间的技术方案,所以,有效解决了现有的陶瓷球制造工艺存在成本较高、效率较低的技术问题,进而实现了高精度精密陶瓷球制造工艺简单,成本较低,效率较高的技术效果。
附图说明
图1是本申请实施例一中高精度精密陶瓷球制造工艺的流程示意图。
具体实施方式
本发明提供了一种高精度精密陶瓷球制造工艺,解决了现有的陶瓷球制造工艺存在成本较高、效率较低的技术问题,实现了高精度精密陶瓷球制造工艺简单,成本较低,效率较高的技术效果。
本申请实施中的技术方案为解决上述技术问题。总体思路如下:
采用了将高精度精密陶瓷球制造工艺设计为:选用氮化硅为材料,由烧结、粗磨、精磨、初研、精研五大工艺构成,所述烧结为热等静压烧结法,将质量百分比为90%的氮化硅(Si3N4)与质量百分比为10%的烧结助剂混合后,在1500±50℃的温度下使用氮气作为加压介质,利用各向均等的静压力压制3~5分钟后,烧结成型,所述各向均等的静压力值在6-7MPa之间的技术方案,所以,有效解决了现有的陶瓷球制造工艺存在成本较高、效率较低的技术问题,进而实现了高精度精密陶瓷球制造工艺简单,成本较低,效率较高的技术效果。
为了更好的理解上述技术方案,下面将结合说明书附图以及具体的实施方式对上述技术方案进行详细的说明。
实施例一:
在实施例一中,提供了一种高精度精密陶瓷球制造工艺,选用氮化硅为材料,由烧结、粗磨、精磨、初研、精研五大工艺构成,请参考图1:所述烧结为热等静压烧结法,将质量百分比为90%的氮化硅(Si3N4)与质量百分比为10%的烧结助剂混合后,在1500±50℃的温度下使用氮气作为加压介质,利用各向均等的静压力压制3~5分钟后,烧结成型,所述各向均等的静压力值在6-7MPa之间。
其中,在本申请实施例中,所述烧结助剂为AL2O3和Y2O3的混合物。
其中,在本申请实施例中,所述烧结、粗磨、精磨、初研、精研均采用自动化生产线进行加工。
上述本申请实施例中的技术方案,至少具有如下的技术效果或优点:
由于采用了将高精度精密陶瓷球制造工艺设计为:选用氮化硅为材料,由烧结、粗磨、精磨、初研、精研五大工艺构成,所述烧结为热等静压烧结法,将质量百分比为90%的氮化硅(Si3N4)与质量百分比为10%的烧结助剂混合后,在1500±50℃的温度下使用氮气作为加压介质,利用各向均等的静压力压制3~5分钟后,烧结成型,所述各向均等的静压力值在6-7MPa之间的技术方案,所以,有效解决了现有的陶瓷球制造工艺存在成本较高、效率较低的技术问题,进而实现了高精度精密陶瓷球制造工艺简单,成本较低,效率较高的技术效果。
尽管已描述了本发明的优选实施例,但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念,则可对这些实施例作出另外的变更和修改。所以,所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本发明范围的所有变更和修改。
显然,本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样,倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内,则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (3)

1.一种高精度精密陶瓷球制造工艺,选用氮化硅为材料,由烧结、粗磨、精磨、初研、精研五大工艺构成,其特征在于:所述烧结为热等静压烧结法,将质量百分比为90%的氮化硅(Si3N4)与质量百分比为10%的烧结助剂混合后,在1500±50℃的温度下使用氮气作为加压介质,利用各向均等的静压力压制3~5分钟后,烧结成型,所述各向均等的静压力值在6-7MPa之间。
2.根据权利要求1所述的工艺,其特征在于,所述烧结助剂为AL2O3和Y2O3的混合物。
3.根据权利要求1所述的工艺,其特征在于,所述烧结、粗磨、精磨、初研、精研均采用自动化生产线进行加工。
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