CN104950357A - 保护膜、层叠件、显示装置和膜贴附件 - Google Patents

保护膜、层叠件、显示装置和膜贴附件 Download PDF

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Abstract

本发明提供了一种保护膜、层叠件、显示装置和膜贴附件。所述层叠件包括：保护膜，配置为包括粘结层；和膜贴附层，配置为包括凹凸表面，所述保护膜通过所述粘结层而被贴附到所述凹凸表面，在预处理之前，所述保护膜相对于所述凹凸表面的粘结力为3[N/25mm]或以上至20[N/25mm]或以下，而在预处理之后，所述保护膜相对于所述凹凸表面的粘结力为0.05[N/25mm]或以下。

Description

保护膜、层叠件、显示装置和膜贴附件
相关申请的交叉引用
本申请要求2014年3月31日提出申请的日本专利申请JP2014-074949的优先权，在此结合其全部内容作为参考。
技术领域
本发明涉及一种用于保护凹凸表面的保护膜、以及包括所述保护膜的层叠件(laminate)、显示装置和膜贴附件(film-attaching unit)。
背景技术
近来抗反射膜例如已广泛用于诸如液晶显示器、有机EL(电致发光)显示器和等离子显示器这样的显示器；诸如触摸屏这样的电子装置；诸如透镜这样的光学元件；和太阳能电池。这种抗反射膜一般为层叠膜，近来，已研究出称为moth-eye(蛾眼)的抗反射结构以供使用。这种抗反射结构包括通过纳米刻印、光刻等以细微间距(1μm以下)形成的大量构造体。
已经知道，这些细微间距构造体在被触摸时易于受到损坏，并易于被油脂污染且很难被清洗。因而，希望使用一种保护膜来保护这些细微间距构造体在制造和运输过程中的处理和搬运期间免受损坏或污染。然而，通过粘结层将保护膜贴附至诸如moth-eye这样的细微间距构造体会导致一些问题。即，由于细微构造体特有的毛细管作用，粘结剂渗透到细微间距构造体之间。粘结剂也可能会进入用于形成细微间距构造体的树脂中。因而，由于锚定效应，这导致很难剥离保护膜。而且，由于粘结剂的凝聚破坏，粘结剂残留在细微间距构造体的表面上，从而表面受到污染。
为了保护细微间距构造体，例如提出了以下的保护膜。
日本待审专利申请号2013-1007(之后称为专利文献1)描述了一种保护膜，该保护膜实质上不粘贴至细微间距构造体层。该保护膜是被设置在表面凹凸的细微构造体层上，由此使得易于在与细微间距构造体层的界面上剥离该保护膜。该技术目的是防止在剥离保护膜之前和之后光学性能的降低。
日本待审专利申请号2012-242803(之后称为专利文献2)描述了一种保护膜，该保护膜是通过在光学部件的功能性细微构图后的凹凸表面中填充用于该保护膜的材料、并将该材料固化，而形成在光学部件上的。该技术目的是在光学部件与保护膜之间获得紧密的接触。
然而，专利文献1和2的技术很难获得在处理、搬运等期间的粘结稳定性，同时很难防止在剥离保护膜之后的粘结剂残留。
因而，希望提供一种可获得粘结稳定性且同时可防止粘结剂残留的保护膜。还希望提供一种包括保护膜的层叠件、显示装置和膜贴附件。
发明内容
根据本发明的一个实施方式，提供了一种层叠件，包括：配置为包括粘结层的保护膜；和膜贴附层，配置为包括凹凸表面，所述保护膜通过所述粘结层而被贴附到所述凹凸表面，其中在预处理之前所述保护膜相对于所述凹凸表面的粘结力为3[N/25mm]或以上至20[N/25mm]或以下，而在所述预处理之后所述保护膜相对于所述凹凸表面的粘结力为0.05[N/25mm]或以下。
根据本发明的另一个实施方式，提供了一种显示装置，包括：配置为包括粘结层的保护膜；和显示表面，配置为包括凹凸表面，所述保护膜通过所述粘结层而被贴附所述凹凸表面，其中在预处理之前所述保护膜相对于所述凹凸表面的粘结力为3[N/25mm]或以上，而在预处理之后所述保护膜相对于所述凹凸表面粘结力为0.05[N/25mm]或以下。
根据本发明的再一个实施方式，提供了一种膜贴附件，包括：配置为包括粘结层的保护膜；和凹凸表面，所述保护膜通过所述粘结层而被贴附所述凹凸表面，其中在预处理之前所述保护膜相对于所述凹凸表面的粘结力为3[N/25mm]或以上，而在所述预处理之后所述保护膜相对于所述凹凸表面的粘结力为0.05[N/25mm]或以下。
根据本发明的再一个实施方式，提供了一种保护膜，包括：基材；和设置于所述基材上的粘结层，在预处理之前相对于膜贴附件的粘结力为3[N/25mm]或以上，而在预处理之后相对于膜贴附件的粘结力为0.05[N/25mm]或以下。
如上所述，根据本发明的实施方式，可获得粘结稳定性且同时可防止粘结剂残留。
根据随后附图中所示的最佳模式实施方式的详细描述，本发明的这些和其他目的、特点和优点将变得更加显而易见。
附图说明
图1A是本发明第一实施方式中的示例性构成的保护膜的剖面图，图1B是本发明第一实施方式中的示例性构成的层叠件的剖面图；
图2A和2B每一个是图解如何测量填充率的示图；
图3A是本发明第一实施方式的变型例1中的示例性构成的层叠件的剖面图，图3B是本发明第一实施方式的变型例2中的示例性构成的层叠件的剖面图；
图4是本发明第一实施方式的变型例3中的示例性构成的层叠件的剖面图；
图5A本发明第二实施方式中的具有示例性外观的显示装置的示意图，图5B是沿图5A中的线A-A的显示装置的剖面图。
具体实施方式
基于本申请的发明人以往的经验，降低粘结剂的粘结力确实防止了在剥离保护膜之后的粘结剂残留，因为粘结剂很难进入细微间距构造体。然而，降低粘结剂的粘结力导致在处理和搬运期间的局部粘结缺陷或膜剥落。而另一方面，增加粘结剂的粘结力确实防止了在处理和搬运期间的局部粘结缺陷或膜剥落落，但在剥离保护膜之后容易留下粘结剂残留。即，获得在处理、搬运等期间的粘结稳定性与防止在剥离保护膜之后的粘结剂残留之间存在折衷。
本申请的发明人进行了积极研究，以获得粘结稳定性并同时防止粘结剂残留，亦即上述的折衷。通过研究，本发明人发现了当将保护膜贴附到凹凸表面时用于获得粘结稳定性并同时防止粘结剂残留的保护膜的特定粘结力，即，在预处理之前粘结力为3[N/25mm]或以上至20[N/25mm]或以下，在预处理之后粘结力为0.05[N/25mm]或以下。
术语“预处理”是指在剥离保护膜之前在粘结层上进行的处理。该处理的目的是降低保护膜的粘结力。所述预处理优选为紫外线照射(之后称为“UV照射”)处理，但这并不是限制性的。用于UV照射的装置优选为例如金属卤化物灯，但这并不是限制性的。可选择地，可使用发射单波长的光的UV光源，例如UV激光器或LED(发光二极管)-UV。
保护膜被贴附到膜贴附层或贴附到膜贴附件的表面，优选的是贴附到凹凸表面以供使用。这是为了保护膜贴附层或膜贴附件的表面。更优选的是将保护膜贴附到其上以1μm或以下的间距形成有凸部或凹部的凹凸表面。
优选的是将保护膜例如贴附到光学元件的表面，贴附到显示装置等的显示表面，以及贴附到输入装置的输入表面。优选的是，通过诸如moth-eye结构这样的细微间距构造体而使这些表面变得凹凸。可选择地，可以例如将保护膜贴附到电子部件中的细微构图配线电路的表面。
膜贴附件的例子包括光学元件、电子部件、光学设备和电子设备。
光学元件的例子包括透镜、滤光器、半透射镜、调光器、棱镜、偏振元件、以及用于显示用途的前面板，但这并不是限制性的。
电子部件的例子包括成像元件封装、成像模块、以及包括细微构图配线电路的电子部件，但这并不是限制性的。包括细微构图配线电路的电子部件的例子包括诸如DMD(数字微镜器件)、RAM(随机存取存储器)和ROM(只读存储器)这样的半导体器件；诸如CCD(电荷耦合器件)和CMOS(互补金属氧化物半导体)这样的成像元件；和诸如触摸屏这样的输入装置，但这并不是限制性的。
光学设备的例子包括望远镜、显微镜、曝光装置、测量装置、探测装置和分析装置，但这并不是限制性的。
电子设备的例子包括个人电脑、移动电话、平板电脑、显示装置和成像装置，但这并不是限制性的。
显示装置的例子包括液晶显示器(LCD)、等离子显示面板(PDP)、有机EL显示器、无机EL显示器、LED显示器、场发射显示器(FED)、表面传导电子发射显示器(SED)、以及电子纸显示器，但这并不是限制性的。
成像装置的例子包括数码相机和数码摄像机，但这并不是限制性的。
之后，将参照附图按照下面的顺序描述本发明的实施方式。在实施方式的附图中，任何相似或相应的部件具有相同的参考标记。
1.第一实施方式(示例性保护膜、以及包括所述保护膜的示例性层叠件)
2.第二实施方式(示例性显示装置)
[1.第一实施方式]
[保护膜的构成]
如图1A中所示，本发明第一实施方式中的保护膜10包括基材11和设置于基材11上的粘结层12。必要时保护膜10可额外包括在粘结层12上的剥离层13。
[层叠件的构成]
如图1B中所示，本发明第一实施方式中的层叠件1包括上述保护膜10、以及细微间距构造体层(膜贴附层)20。细微间距构造体层20包括其中通过粘结层12而被贴附保护膜10的细微间距凹凸表面20s。
下面按顺序描述这些组件，即细微间距构造体层20、基材11、粘结层12和剥离层13。
[细微间距构造体层]
细微间距构造体层20包括基材21、以及设置于基材21上的多个细微间距构造体22。这些细微间距构造体22构成了细微间距凹凸表面20s。图1B显示了其中基材21与细微间距构造体22分开形成的示例性构成，但可选择地，基材21可与细微间距构造体22一体形成。
细微间距构造体22例如在基材21的表面上一维或二维地布置。布置图案可以是规则的或不规则的。细微间距构造体22从基材21的表面凸出(凸部)，或在基材21的表面上凹陷(凹部)。细微间距构造体22例如以1μm或以下的间距P形成，且每个细微间距构造体22具有1μm或以下的高度H。细微间距构造体22的例子包括moth-eye结构、衍射光栅、以及细微构图配线，但这并不是限制性的。可通过纳米刻印或光刻形成细微间距构造体22，但这并不是限制性的。
当细微间距凹凸表面20s是抗反射性的时，优选的是以小于光波长的间距P形成细微间距构造体22。这是为了降低光反射。为了降低光反射的光波长例如是紫外线的波长、可见光的波长或红外线的波长。紫外线的波长为10nm或以上至350nm或以下，可见光的波长为350nm或以上至850nm或以下，红外光的波长为850nm或以上至1mm或以下。
[基材]
基材11例如可由对可见光透明或不透明的材料制成。基材11例如可以是膜、片、板或块。
基材11可由无机材料或有机材料制成。无机材料例如包括石英、蓝宝石、玻璃、陶瓷或金属。有机材料包括聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚丙烯(PP)、聚乙烯(PE)、聚碳酸酯(PC)、聚醚砜(PES)、聚芳酯(PAR)等，但这些材料并不是特别限制性的。可选择地，必要时可对有机材料使用各种添加剂，例如光稳定剂、UV吸收剂、抗静电剂、阻燃剂或抗氧化剂。
[粘结层]
保护膜10的粘结层12具有以下特性：在UV照射处理(预处理)之前具有充分的粘结力，而在UV照射处理(预处理)之后粘结力变小。在第一实施方式中，描述了通过UV照射处理来降低粘结层12的粘结力的例子，但可通过除UV照射处理之外的其他预处理降低粘结层12的粘结力。
在UV照射处理之前，保护膜10相对于细微间距凹凸表面20s的粘结力为3[N/25mm]或以上至20[N/25mm]或以下，优选为5[N/25mm]或以上至20[N/25mm]或以下。当保护膜10的粘结力例如低于3[N/25mm]时，这会降低与细微间距凹凸表面20s的接触程度，由此通常导致例如在处理和搬运期间保护膜10的局部粘结缺陷和保护膜10的剥落。而另一方面，当保护膜10的粘结力高于20[N/25mm]时，在UV照射处理之后剥离保护膜10时，粘结层12中的粘结剂通常会残留在细微间距凹凸表面20s上。之后，这称为“粘结剂残留”。
在UV照射处理之后，保护膜10相对于细微间距凹凸表面20s的粘结力为0.05[N/25mm]或以下。当保护膜10的粘结力变为高于0.05[N/25mm]时，在在UV照射处理之后从细微间距凹凸表面20s剥离保护膜10时，通常会观察到粘结剂残留。
在UV照射处理之前，细微间距凹凸表面20s相对于粘结层12的填充率(具体来讲是细微间距构造体22相对于粘结层12的填充率)优选的是75％或以上。例如，当填充率低于75％时，这降低了与细微间距凹凸表面20s的接触度，由此导致例如在处理和搬运期间保护膜10的局部粘结缺陷和保护膜10的剥落。在此，如上所述的填充率成为低于75％可能是由于例如粘结层12具有高弹性系数或者粘结层12厚度较薄。
上述填充率具体如下定义。
填充率＝(D/H)×100[％]
(其中H表示细微间距构造体22的高度(参照图2B))，D表示通过细微间距构造体22转印到粘结层12的每个凹部14的深度(参照图2B)。
预处理之后的粘结层12的收缩率优选为3％或以上，更优选为5％或以上。当收缩率低于3％时，保护膜10的粘结力在UV照射之后会高于0.05[N/25mm]，由此通常导致粘结剂残留。
下面描述如何测量细微间距构造体22的高度H以及凹部14的深度D。首先，如图2A中所示，使用诸如金属卤化物灯这样的UV照射装置40，在保护膜10的粘结层12上进行UV照射处理，以降低其粘结力。之后，如图2B中所示，从细微间距凹凸表面20s剥离保护膜10。接下来，紧随保护膜10剥离之后，使用AFM(原子力显微镜)观察粘结层12的暴露表面，以测量通过细微间距构造体22转印到粘结层12的凹部14的深度D(参照图2B)。还使用AFM观察剥离之后的细微间距凹凸表面20s，以测量细微间距构造体22的高度H(参照图2B)。
粘结层包括粘结剂。粘结剂例如包括粘结树脂、交联剂和UV固化树脂。必要时粘结剂可额外包括添加剂，例如UV吸收剂、催化剂、着色剂、抗静电剂、滑爽添加剂、均染剂、消泡剂、聚合加速剂、抗氧化剂、阻燃剂、红外吸收剂、表面活性剂、表面改性剂、触变剂或塑化剂。
粘结树脂是粘结层12中的粘结成分。粘结树脂包括诸如丙烯酸酯这样的各种丙烯酸粘结树脂。交联剂的例子包括异氰酸酯交联剂和环氧树脂交联剂。
UV固化树脂的组成物包括：包含(甲基)丙烯酰-基团的化合物(之后称为“(甲基)丙烯酸酯”)、以及引发剂。在此，(甲基)丙烯酰-基团是指丙烯酰基团或甲基丙烯酰基团。(甲基)丙烯酸酯是指丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。对于(甲基)丙烯酸酯来说，可单独使用或组合使用两个或多个(甲基)丙烯酸单体、(甲基)丙烯酸低聚体等。
(甲基)丙烯酸酯的具体例子包括三甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、双三羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯等，但这些材料并不是限制性的。
引发剂的例子包括2，2-二甲氧基-1，2-二苯乙烯-1-on、1-羟基-环己基苯基酮、和2-羟基2-甲基-1-苯基丙烷-1-on。
对于每100质量份的粘结树脂，UV固化树脂的含量优选为10质量份或以上至40质量份或以下，更优选为15质量份或以上至30质量份或以下。当UV固化树脂的含量变为10质量份以上时，可通过UV照射处理获得充分的固化收缩，这是因为UV固化树脂占据粘结树脂的大部分。因此，UV照射之后的粘结层12的粘结力降低至0.05[N/25mm]或以下，从而防止粘结剂残留。另一方面，当UV固化树脂的含量为40质量份或以下时，可增加粘结树脂的交联度，从而进一步防止粘结剂残留。
UV固化树脂中的官能团的数量优选为三个或以上至五个或以下。当UV固化树脂包括包含(甲基)丙烯酰基团的化合物时，官能团的数量同(甲基)丙烯酰基团(官能团的数量)一样多。通过三个或以上的官能团，UV照射处理获得了充分的固化收缩，从而UV照射之后的粘结层的粘结力被充分降低，防止粘结剂残留。另一方面，通过五个或以下的官能团，UV固化树脂自身的粘度降低，从而改善UV固化树脂与粘结剂之间的相溶性。这在诸如丙烯酸粘结树脂这样的粘结树脂与UV固化树脂成分之间获得良好的混合。因此，当在基材11上涂布用于形成粘结层的组成物时，良好地形成基体，由此防止具有较大颗粒的海岛结构。如果在粘结层12上照射UV之后剥离保护膜10，则处于这种状态的用于形成粘结层的组成物有助于进一步防止粘结剂残留。
[剥离层]
剥离层13是所谓的分离层，例如是一种膜。剥离层13包括基材以及形成在基材上的释放剂层。基材例如为纸片、诸如PET膜这样的塑料膜、或者塑料层叠片。释放剂层由诸如硅树脂这样的释放剂制成。当将保护膜10贴附到膜贴附表面，例如细微间距凹凸表面20s时，从粘结层12剥离释放剂层13。
[保护膜的制造方法]
下面描述具有上述构成的保护膜10的制造方法。
首先，通过混合并搅拌丙烯酸粘结树脂、交联剂和UV固化树脂，制备用于形成粘结层的组成物。必要时可用溶剂稀释用于形成粘结层的组成物。用于稀释的溶剂包括甲苯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、甲基乙基酮(MEK)和甲基异丁基酮(MIBK)等，这些材料可单独使用或组合两种以上使用。
接着，为了易于粘结，必要时可对基材11的表面进行处理。为了易于粘结，基材11的表面可受到电晕放电处理、等离子处理或火焰处理，但这并不是限制性的。
接着，在基材11的表面上涂布并干燥所获得的用于形成粘结层的组成物，由此形成粘结层12。可通过模具涂布(die coating)、凹版涂布、微型凹版涂布等涂布所述组成物，但这并不是特别限制的。接着，必要时在粘结层12上贴附剥离层13，并将最终得到的结构固化预定长的时间。这获得了供使用的保护膜10。
[保护膜的用途]
下面描述具有上述构成的保护膜10的示例性用途。
首先，在制造、运输等之前，通过粘结层12将保护膜10贴附到细微间距构造体层20的细微间距凹凸表面20s，由此获得层叠件1。在贴附之后，粘结层12(UV照射处理之前)具有3[N/25mm]或以上至20[N/25mm]或以下的粘结力，优选为5[N/25mm]或以上至20[N/25mm]或以下的粘结力。通过如上贴附的保护膜10，细微间距构造体层20的细微间距凹凸表面例如在处理或搬运期间得到保护。
接着，在制造、运输等处理之后，粘结层12受到UV照射处理。通过对粘结层12执行UV照射处理，粘结层12中的UV固化树脂通过光聚合引发剂而交联，从而粘结层12被固化并收缩。以这样的方式，从表面剥离已变为细微间距构造体22的粘结剂。这使得能够容易地从细微间距凹凸表面20s剥离粘结层12。UV照射处理之后的粘结层12具有0.05[N/25mm]或以下的粘结力。接着，从细微间距构造体层20的细微间距凹凸表面20s剥离保护膜10。
[效果]
第一实施方式中的保护膜10在UV照射处理之前具有用于贴附到细微间距凹凸表面20s的3[N/25mm]或以上的粘结力，且在UV照射处理之后具有0.05[N/25mm]或以下的粘结力。因此，在处理、搬运等期间获得了粘结稳定性，且同时防止了剥离保护膜10之后的粘结剂残留。这还提供了可保护细微间距凹凸表面20s且其上没有留下或留下较少粘结剂残留的保护膜10，由此可提高产率且不需要处理之后的清洗工艺。
因为UV照射处理之前粘结力充分大，所以即使层叠件1例如受到切割、冲压或切块的处理，保护膜10也不会剥落。因而，保护膜10可保护细微间距构造体层20的细微间距凹凸表面20s。更具体地说，即使例如遭受到处理过程中的剪切力或处理过程中的冷却水的强有力流动，保护膜10也不会从细微间距构造体层20的细微间距凹凸表面20s剥落。
对于第一实施方式中的保护膜10，在保护膜10从细微间距凹凸表面20s剥离之前，粘结层12受到UV照射处理。这是为了降低粘结层12的粘结力，以便在膜剥离时防止粘结剂残留。另一方面，当由于未对粘结层12执行UV照射处理而使得粘结层12保持粘结力很高时，这意味粘结剂通过毛细管现象进入了细微间距构造体22。如果从具有处于这种状态的粘结层12的细微间距凹凸表面20s剥离保护膜10，则在膜剥离时锚定效应会导致粘结剂的凝聚破坏，因而粘结剂残留在细微间距构造体22内。如上残留的粘结剂最终会填埋细微间距构造体22之间的凹部，完全无法实现任何期望的特性。这也是包括粘结层的一般保护膜常见的现象。
[变型例]
[变型例1]
如图3A中所示，第一实施方式的变型例1中的层叠件1a包括保护膜10以及导电性的细微间距构造体层30。导电性的细微间距构造体层30包括贴附有保护膜10的导电性细微间距凹凸表面30s。导电性的细微间距构造体层30还包括细微间距构造体层20、以及沿细微间距构造体层20的细微间距凹凸表面20s设置的导电层31。导电层31例如可以是抗静电层或电极，并可被构图为任意期望形状。
导电层31例如是金属层或透明导电层。金属层包括选自Ag(银)、Al(铝)、Cu(铜)、Ti(钛)、Au(金)、Pt(铂)、Nb(铌)等中的至少一种。透明导电层包括选自导电聚合物、金属纳米粒子、碳纳米管、透明氧化物半导体等中的至少一种。
[变型例2]
如图3B中所示，第一实施方式的变型例2中的层叠件1b包括两个保护膜10、以及细微间距构造体层20b。在细微间距构造体层20b中，在基材21的两侧上设置细微间距凹凸表面20s。基材21两侧上的细微间距凹凸表面20s每一个都贴附有保护膜10。
[变型例3]
如图4中所示，第一实施方式的变型例3中的层叠件1c包括多个细微间距构造体层20、以及设置于每两个细微间距构造体层20之间的粘结层12。层叠件1c优选的是额外包括贴附到最上方细微间距构造体层20的细微间距凹凸表面20s的保护膜10。层叠件1c被构造为，不仅细微间距构造体层20而且下方的粘结层12都被同时剥离。即，相比于细微间距构造体层20的细微间距凹凸表面与粘结层12之间的粘结力，细微间距构造体层20的后表面与粘结层12之间的粘结力更大。在粘结层12与细微间距构造体层20的后表面之间，可额外设置包含硅树脂等的释放剂层。在此，细微间距构造体层20的后表面是指与细微间距凹凸表面20s相对的表面。
[2.第二实施方式]
在第二实施方式中，描述了将第一实施方式中的保护膜10提供到作为膜贴附件的显示装置的显示表面(细微凹凸表面)的例子。
如图5A和5B中所示，显示装置101包括框架102、显示面板103、细微间距构造体层20和保护膜10。显示面板103容纳在框架102中，细微间距构造体层20设置于显示面板103的显示表面103s上。保护膜10设置于细微间距构造体层20的细微间距凹凸表面20s上。在第二实施方式中，描述了其中显示装置101(更具体地说，显示面板103)为膜贴附件的情形。然而，被贴附保护膜10的膜贴附体不限于这种例子。
细微间距凹凸表面20s优选为moth-eye结构。细微间距构造体层20的后表面例如通过粘结层(未示出)而贴附到显示面板103的显示表面103s。在保护膜10的外周边缘上设置有捏取部10a，捏取部10a被捏取，以向前拖拉保护膜10，从而保护膜10从细微间距构造体层20的细微间距凹凸表面20s剥离。
在第二实施方式的显示装置101中，保护膜10被贴附到在作为膜贴附件的显示装置101上设置的细微间距凹凸表面20s。因此，这例如防止了在显示装置101的组装或搬运期间保护膜10从细微间距凹凸表面20s剥落或防止产生局部粘结缺陷。此外，这消除或减少了在剥离保护膜10之后细微间距凹凸表面20s上的粘结剂残留。
[实施例]
下面，具体描述本发明的示例，这些实施例并不是限制性的。
[实施例1]
[光学元件的制造工艺]
通过利用UV纳米刻印在玻璃基板上形成moth-eye结构，来制造光学元件。
[保护膜的制造工艺]
首先，混合并搅拌下面的材料，以获得用于形成粘结层的组成物。
丙烯酸粘结树脂(由Soken Chemical&Engineering Co.，Ltd.制造的SK-1223)：100质量份
交联剂(由Nippon Polyurethane Industry Co.，Ltd.制造的CORONATE(商标)L)：5质量份
UV固化树脂(由Nippon Kayaku.Co.，Ltd.制造的KAYARAD(商标)THE-330)：15质量份
光聚合引发剂(由BASF SE制造的IRGACURE(商标)184)：5质量份
溶剂(乙酸乙酯)：150质量份
接着，通过模具涂布，在PET膜(基材)上以10μm的厚度涂布并干燥最终得到的用于形成粘结层的组成物，从而获得粘结层。接着，将PET剥离膜(剥离层)贴附到该粘结层上，然后在室温下将该结构固化七天。这获得了供使用的保护膜。
[层叠工艺]
将最终得到的保护膜以下述方式设置在光学元件上，即，使保护膜的粘结层面对光学元件的moth-eye表面。之后，使用加压辊将9.8N/mm2的压力施加到保护膜，以将其贴附到光学元件。在贴附之后，将该结构放置1小时。这获得了供使用的层叠件。
[实施例2]
除了将UV固化树脂的量变为25质量份之外，与实施例1类似地获得层叠件。
[实施例3]
除了将UV固化树脂的量变为30质量份之外，与实施例1类似地获得层叠件。
[实施例4]
除了将丙烯酸粘结树脂变为由Soken Chemical&Engineering Co.，Ltd.制造的SK-1633、且其量变为30质量份之外，与实施例1类似地获得层叠件。
[比较例1]
除了将丙烯酸粘结树脂变为由Soken Chemical&Engineering Co.，Ltd.制造的SK-1760、且其量变为30质量份之外，与实施例1类似地获得层叠件。
[比较例2]
除了将丙烯酸粘结树脂变为由Soken Chemical&Engineering Co.，Ltd.制造的SK-1499M、且其量变为30质量份之外，与实施例1类似地获得层叠件。
[比较例3]
除了将UV固化树脂的量变为10质量份之外，与实施例1类似地获得层叠件。
[比较例4]
除了将UV固化树脂的量变为0之外，与实施例1类似地获得层叠件。
[实施例5]
除了将UV固化树脂的量变为45质量份之外，与实施例1类似地获得层叠件。
[比较例5]
除了将UV固化树脂变为由Nippon Kayaku.Co.，Ltd.制造的KAYARAD(商标)R-712、且其量变为30质量份之外，与实施例1类似地获得层叠件。
[实施例6]
除了将UV固化树脂变为由Nippon Kayaku.Co.，Ltd.制造的KAYARAD(商标)DPCA-20、且其量变为30质量份之外，与实施例1类似地获得层叠件。
[评估]
如下对如上获得的实施例1到5的层叠件以及比较例1到5的层叠件进行评估。注意，对于比较例4的层叠件的评估被部分跳过，因为其粘结层不包括UV固化树脂。
[UV照射之前的张力测试]
使用张力测试仪(由Shimadzu Corporation制造的Autograph-AG-20)在剥离角度为180°、剥离速度为300mm/sec的条件下测量保护膜对于光学元件的粘结力。表1显示了其结果。
[UV照射之后的张力测试]
通过使用UV照射装置(金属卤化物灯)，将层叠件从保护膜一侧暴露于1000mJ的UV光。之后，与上述“UV照射之前的张力测试”类似地测量保护膜10的粘结力。表1显示了其结果。
[固化收缩率]
首先，在UV照射之前，在两个点处标记保护膜的粘结层，并测量这两个点之间的距离，即距离Da。接着，通过使用UV照射装置(金属卤化物灯)，将层叠件从保护膜一侧暴露于1000mJ的UV光，然后再次测量所述两个标记之间的距离，即距离Db。接着，计算UV照射之后的距离Db相对于UV照射之前的距离Da的比率，即(Db/Da)×100[％]。最终得到的比率被用作固化收缩率。表1显示了其结果。
[填充率]
首先，通过使用UV照射装置(金属卤化物灯)，将层叠件从保护膜一侧暴露于1000mJ的UV光，然后剥离保护膜。接着，紧随保护膜剥离之后，通过AFM观察粘结层的表面，以测量通过moth-eye结构转印到粘结层的凹部的深度D。接着，同样在保护膜剥离之后，通过AFM观察moth-eye结构，以测量其高度H。接着，计算凹部的深度D相对于moth-eye结构的高度H的比率，即(D/H)×100[％]，最终得到的比率被用作填充率。表1显示了其结果。
[保护膜的局部粘结缺陷]
基于上述“填充率”的计算结果，使用下面的标准进行评估，以确定是否存在保护膜的局部粘结缺陷。
存在保护膜的局部粘结缺陷：当填充率低于75％时
不存在保护膜的局部粘结缺陷：当填充率等于或高于75％时
[粘结剂残留]
首先，通过使用UV照射装置(金属卤化物灯)，将层叠件从保护膜一侧暴露于1000mJ的UV光，然后剥离保护膜。接着，使用暗视野观察的光学显微镜观察层叠件，以检查粘结剂是否转移到光学元件的moth-eye表面。表1通过“A”、“B”和“C”显示了其结果，其含义如下。
“A”：没有观察到粘结剂转移到moth-eye表面，对moth-eye结构的抗反射特性没有影响。
“B”：观察到少量粘结剂转移到moth-eye表面，但对moth-eye结构的抗反射特性几乎没有影响。
“C”：观察到粘结剂转移到moth-eye表面，损害了moth-eye结构的抗反射特性。
[结果]
表1显示了实施例1到6以及比较例1到5中的保护膜的构成和评估结果。
表2显示了用于制造实施例1到6以及比较例1到5中的保护膜的丙烯酸粘结树脂本身的粘结力。
[表2]
从表1发现：
-在实施例1到6中，UV照射之前的保护膜具有3[N/25mm]或以上至20[N/25mm]或以下的粘结力，UV照射之后的保护膜具有0.05[N/25mm]或以下的粘结力。这些保护膜获得了粘结稳定性且同时防止了粘结剂残留。
-在比较例1中，使用的丙烯酸粘结树脂具有大大高于实施例1到6的粘结力。因此，UV照射之前的保护膜具有高于20[N/25mm]的粘结力，UV照射之后的保护膜具有高于0.05[N/25mm]的粘结力。这种在UV照射之后粘结力较高的保护膜会留下粘结剂残留。
-在比较例2中，使用的丙烯酸粘结树脂具有低于实施例1到6的粘结力。因此，UV照射之前的保护膜具有低于3[N/25mm]的粘结力。对于这种在UV照射之前粘结力较低的保护膜来说，填充率低于75％。即，该保护膜会导致局部粘结缺陷。
-在比较例3中，与实施例1到6相比，UV固化树脂的量减小至10质量份，从而固化收缩率低于3％。因此，UV照射之后的保护膜的粘结力超过0.05[N/25mm]，由此导致粘结剂残留。
-在比较例4中，不使用UV固化树脂作为用于形成粘结层的组成物，由此导致局部粘结缺陷。
-在实施例5中，与实施例1到4相比，UV固化树脂的量增加至45质量份，从而观察到轻微的粘结剂残留。然而，因为moth-eye结构的抗反射特性没有由此受到太大影响，所以这是可接受的。
-在比较例5中，UV固化树脂中官能团的数量在三个以下。因此，因为保护膜没有充分固化和收缩，所以固化收缩率低于3％。结果，UV照射之后的保护膜的粘结力超过0.05[N/25mm]，由此导致粘结剂残留。
-在实施例6中，UV固化树脂中官能团的数量在5个以上。因此，观察到轻微的粘结剂残留，但因为moth-eye结构的抗反射特性没有受到太大影响，所以这是可接受的。
尽管详细描述了本发明的第一实施方式、其变型例和第二实施方式，但前面的描述在所有方面都是示例性的而不是限制性的。应当理解，在不脱离本发明范围的情况下可设计出多个其他修改例和变型例。
例如，本发明的第一实施方式、其变型例和第二实施方式中所提到的构成、方法、工艺、形状、材料和数值是举例性的，可适当进行变化。
此外，在不脱离本发明范围的情况下，本发明的第一实施方式、其变型例和第二实施方式中所提到的构成、方法、工艺、形状、材料和数值可组合使用。
本发明还可以是下面的结构。
(1)一种层叠件，包括：
保护膜，配置为包括粘结层；和
膜贴附层，配置为包括凹凸表面，所述保护膜通过所述粘结层而被贴附到所述凹凸表面，
在预处理之前，所述保护膜相对于所述凹凸表面的粘结力为3[N/25mm]或以上至20[N/25mm]或以下，而在预处理之后，所述保护膜相对于所述凹凸表面的粘结力为0.05[N/25mm]或以下。
(2)根据(1)所述的层叠件，其中
在预处理之前，所述保护膜相对于所述凹凸表面的粘结力为5[N/25mm]或以上至20[N/25mm]或以下。
(3)根据(1)所述的层叠件，其中
所述凹凸表面以1μm或以下的间距形成有凹部或凸部。
(4)根据(3)所述的层叠件，其中
所述凹凸表面以1μm或以下的高度形成有凹部或凸部
(5)根据(1)到(3)任意一个所述的层叠件，其中
所述预处理之后的所述粘结层的收缩率为3％以上。
(6)根据(1)到(5)任意一个所述的层叠件，其中
在预处理之前，所述凹凸表面相对于所述粘结层的填充率为75％或以上。
(7)根据(6)所述的层叠件，其中
所述填充率如下定义，
填充率＝(D/H)×100[％]
其中，H表示所述凹凸表面的凹部或凸部的高度，D表示通过所述凹凸表面转印到所述粘结层的每个凹部的深度。
(8)根据(1)到(7)任意一个所述的层叠件，其中
所述粘结层包含粘结树脂、交联剂和紫外线固化树脂。
(9)根据(8)所述的层叠件，其中
所述紫外线固化树脂中官能团的数量为三个或以上至五个或以下。
(10)根据(8)或(9)所述的层叠件，其中
其中每100质量份的所述粘结树脂，所述紫外线固化树脂的含量为10质量份或以上至40质量份或以下。
(11)根据(10)所述的层叠件，其中
对于每100质量份的所述粘结树脂，所述紫外线固化树脂的含量为15质量份或以上至30质量份或以下。
(12)根据(1)到(11)任意一个所述的层叠件，其中
所述预处理为照射紫外线。
(13)一种显示装置，包括：
保护膜，配置为包括粘结层；和
显示表面，配置为包括凹凸表面，所述保护膜通过所述粘结层而被贴附到所述凹凸表面，
在预处理之前，所述保护膜相对于所述凹凸表面的粘结力为3[N/25mm]或以上，而在预处理之后，所述保护膜相对于所述凹凸表面的粘结力为0.05[N/25mm]或以下。
(14)根据(13)所述的显示装置，其中
在预处理之前，所述保护膜相对于所述凹凸表面的粘结力为3[N/25mm]或以上至20[N/25mm]或以下。
(15)一种膜贴附件，包括：
保护膜，配置为包括粘结层；和
凹凸表面，所述保护膜通过所述粘结层而被贴附到所述凹凸表面，
在预处理之前，所述保护膜相对于所述凹凸表面的粘结力为3[N/25mm]或以上，且在预处理之后，所述保护膜相对于所述凹凸表面的粘结力为0.05[N/25mm]或以下。
(16)根据(15)所述的显示装置，其中
在预处理之前，所述保护膜相对于所述凹凸表面的粘结力为3[N/25mm]或以上至20[N/25mm]或以下。
(17)一种保护膜，包括：
基材；和
设置于所述基材上的粘结层，在预处理之前相对于膜贴附件的粘结力为3[N/25mm]或以上，而在预处理之后相对于膜贴附件的粘结力为0.05[N/25mm]或以下。
(18)根据(17)所述的显示装置，其中
在预处理之前，相对于膜贴附件的粘结力为3[N/25mm]或以上至20[N/25mm]或以下。

Claims (18)

1.一种层叠件，包括：
保护膜，配置为包括粘结层；和
膜贴附层，配置为包括凹凸表面，所述保护膜通过所述粘结层而被贴附到所述凹凸表面，
在预处理之前，所述保护膜相对于所述凹凸表面的粘结力为3[N/25mm]或以上至20[N/25mm]或以下，而在预处理之后，所述保护膜相对于所述凹凸表面的粘结力为0.05[N/25mm]或以下。
2.根据权利要求1所述的层叠件，其中
在预处理之前，所述保护膜相对于所述凹凸表面的粘结力为5[N/25mm]或以上至20[N/25mm]或以下。
3.根据权利要求1所述的层叠件，其中
所述凹凸表面以1μm或以下的间距形成有凹部或凸部。
4.根据权利要求3所述的层叠件，其中
所述凹凸表面以1μm或以下的高度形成有凹部或凸部。
5.根据权利要求1所述的层叠件，其中
预处理之后的所述粘结层的收缩率为3％或以上。
6.根据权利要求1所述的层叠件，其中
在预处理之前，所述凹凸表面相对于所述粘结层的填充率为75％或以上。
7.根据权利要求6所述的层叠件，其中
所述填充率如下定义，
填充率＝(D/H)×100[％]
其中，H表示所述凹凸表面的凹部或凸部的高度，D表示通过所述凹凸表面转印到所述粘结层的每个凹部的深度。
8.根据权利要求1所述的层叠件，其中
所述粘结层包含粘结树脂、交联剂和紫外线固化树脂。
9.根据权利要求8所述的层叠件，其中
所述紫外线固化树脂中官能团的数量为三个或以上至五个或以下。
10.根据权利要求8所述的层叠件，其中
对于每100质量份的所述粘结树脂，所述紫外线固化树脂的含量为10质量份或以上至40质量份或以下。
11.根据权利要求10所述的层叠件，其中
对于每100质量份的所述粘结树脂，所述紫外线固化树脂的含量为15质量份或以上至30质量份或以下。
12.根据权利要求1所述的层叠件，其中
所述预处理为紫外线照射。
13.一种显示装置，包括：
保护膜，配置为包括粘结层；和
显示表面，配置为包括凹凸表面，所述保护膜通过所述粘结层而被贴附到所述凹凸表面，
在预处理之前，所述保护膜相对于所述凹凸表面的粘结力为3[N/25mm]或以上，而在预处理之后，所述保护膜相对于所述凹凸表面的粘结力为0.05[N/25mm]或以下。
14.根据权利要求13所述的显示装置，其中
在预处理之前，所述保护膜相对于所述凹凸表面的粘结力为3[N/25mm]或以上至20[N/25mm]或以下。
15.一种膜贴附件，包括：
保护膜，配置为包括粘结层；和
凹凸表面，所述保护膜通过所述粘结层而被贴附到所述凹凸表面，
在预处理之前，所述保护膜相对于所述凹凸表面的粘结力为3[N/25mm]或以上，且在预处理之后，所述保护膜相对于所述凹凸表面的粘结力为0.05[N/25mm]或以下。
16.根据权利要求15所述的显示装置，其中
在预处理之前，所述保护膜相对于所述凹凸表面的粘结力为3[N/25mm]或以上至20[N/25mm]或以下。
17.一种保护膜，包括：
基材；和
设置于所述基材上的粘结层，在预处理之前相对于膜贴附件的粘结力为3[N/25mm]或以上，而在预处理之后相对于膜贴附件的粘结力为0.05[N/25mm]或以下。
18.根据权利要求17所述的显示装置，其中
在预处理之前，相对于膜贴附件的粘结力为3[N/25mm]或以上至20[N/25mm]或以下。
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