CN104932750A - 一种触摸屏及其制造方法和一种触摸显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种触摸屏及其制造方法和一种触摸显示装置。所述触摸屏依次包括：偏光膜，用于使入射光偏振，透射与所述触摸屏垂直方向的分量；λ/4波片，用于使入射光产生λ/4的相位延迟；聚合物薄膜；和触摸传感器。本发明能够使用偏振膜和λ/4膜改变环境光的光路，降低环境光对显示模组显示效果的影响，提高对比度，改善人眼观看的效果，实现触摸屏的防反射功能。

Description

一种触摸屏及其制造方法和一种触摸显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种触摸屏及其制造方法和一种触摸显示装置。
背景技术
由于目前触摸屏产品的结构和材料原因，当触摸屏在太阳等强光下使用时，具有反射效果的屏幕会把强反射光反射到使用者的眼部，导致使用者无法看清触摸屏内显示的信息，并对使用者眼睛产生伤害。为此，为满足防反射的需要，目前市场上一般采用防反射膜，这种防反射膜需要贴在手机显示设备的触摸显示屏上。它在一定程度上可以起到防反射作用，但由于这种防反射膜是后期贴上去的，不仅影响屏幕透光率，造成视觉发暗和触摸灵敏度下降，从而影响正常使用，而且对黏贴技术要求较高，否则容易导致产生气泡和易脱落影响美观等缺点，另外还增加了显示模组的厚度以及成本。为此，随着触摸屏的应用范围变得越来越广泛，特别需要一种全新的设计，能够既具有防反射偏光效果，又不影响触摸屏的正常使用，以满足市场和广大用户的需求。
发明内容
本发明提供一种触摸屏及其制造方法和一种触摸显示装置，以解决或缓解现有技术中触摸屏在强光下使用时，因触摸屏对光的反射而造成使用者无法看清触摸屏内显示的信息的技术问题。
为解决上述技术问题，本发明提供一种触摸屏，依次包括：
偏光膜，用于使入射光偏振，透射与所述触摸屏垂直方向的分量；
λ/4波片，用于使入射光产生λ/4的相位延迟；
聚合物薄膜；和
触摸传感器。
进一步地，
所述偏光膜、λ/4波片、聚合物薄膜和触摸传感器两两之间采用光学胶贴合。
进一步地，
所述偏光膜表面还包括：保护膜，用于防眩光、防反射和/或抗静电。
进一步地，
在所述λ/4波片和所述聚合物薄膜之间还包括：半透半反金属屏蔽膜。
进一步地，
所述偏光膜和λ/4波片之间为含酸的光学胶；
所述λ/4波片、半透半反金属屏蔽膜、聚合物薄膜、触摸传感器之间为不含酸且含有抗静电粒子的光学胶。
进一步地，
所述光学胶为：光学压敏胶。
进一步地，
所述触摸传感器为柔性触摸传感器。
进一步地，
所述触摸传感器由导电玻璃、氟掺杂锡氧化物、碳纳米管、纳米银、石墨烯、高分子材料中的一种或多种制备。
进一步地，
所述触摸屏为全贴方式或框贴方式。
另一方面，本发明还提供一种制造触摸屏的方法，包括：
将触摸传感器、聚合物薄膜、λ/4波片和偏光膜之间依次贴合；
其中：所述偏光膜，用于使入射光偏振，透射与所述触摸屏垂直方向的分量；
所述λ/4波片，用于使入射光产生λ/4的相位延迟。
进一步地，
所述触摸传感器、聚合物薄膜、λ/4波片和偏光膜之间采用光学胶依次贴合。
进一步地，
所述方法还包括：在所述偏光膜表面采用光学胶与保护膜贴合，所述保护膜用于防眩光、防反射和/或抗静电。
进一步地，所述方法还包括：
在所述λ/4波片和所述聚合物薄膜之间采用光学胶贴合半透半反金属屏蔽膜。
进一步地，所述方法还包括：
在所述偏光膜和λ/4波片之间采用含酸的光学胶；
在所述λ/4波片、半透半反金属屏蔽膜、聚合物薄膜、触摸传感器之间采用不含酸且含有抗静电粒子的光学胶。
进一步地，
所述光学胶为：光学压敏胶。
进一步地，
所述触摸传感器为柔性触摸传感器。
进一步地，
所述触摸传感器由导电玻璃、氟掺杂锡氧化物、碳纳米管、纳米银、石墨烯、高分子材料中的一种或多种制备。
进一步地，
所述触摸屏采用全贴方式或框贴方式制备。
再一方面，本发明还提供一种触摸显示装置，包括显示屏和如上任一项所述的触摸屏，所述触摸屏贴合在所述显示屏上。
可见，在本发明所提供的尤其涉及触摸屏及其制造方法和触摸显示装置中，能够使用偏振膜和λ/4膜改变环境光的光路，降低环境光对显示模组显示效果的影响，提高对比度，改善人眼观看的效果，实现触摸屏的防反射功能。另外，本发明采用触摸屏和偏光片一体化设计，结构简单，生产工艺成熟，并且不会影响透光率及触摸灵敏度；而柔性材料的使用也可以结合AMOLED显示屏来制备可触控柔性显示器。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明实施例1的触摸屏结构示意图；
图2是本发明实施例1的触摸屏反射光线路径示意图；
图3是本发明实施例2的全贴方式触摸屏结构示意图；
图4是本发明实施例2的全贴方式触摸屏防反射原理示意图；
图5是本发明实施例2的框贴方式触摸屏结构示意图；
图6是本发明实施例2的框贴方式触摸屏防反射原理示意图。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例1：
本发明实施例1首先提供一种触摸屏，参见图1，依次包括：
偏光膜2，用于使入射光偏振，透射与所述触摸屏垂直方向的分量；
λ/4波片4，用于使入射光产生λ/4的相位延迟，应该理解，这里λ为入射光的波长；
聚合物薄膜6；和
触摸传感器7。
其中，采用偏光膜2结合1/4λ波片(位相差膜)4相结合的方式有助于减少环境光的反射，提高使用效果。图2是本发明实施例的触摸屏反射光线路径示意图。偏光膜2可以是聚乙烯醇PVA偏光膜，由PVA膜层经染色拉伸后制成，偏光膜2是形成偏振光的主要部分，通过拉伸聚乙烯醇膜将嵌入其中的碘分子定向，使之具有二向色性，以吸收偏振方向与拉伸方向相同的光分量，透射与拉伸方向也即与触摸屏垂直的光分量。1/4λ波片4可以是环烯烃聚合物，聚碳酸酯膜，三醋酸纤维素膜中的一种，用于使入射光产生λ/4的相位延迟，从而使得反射光与入射光之间由于相位延迟而相互抵消。
可选地，偏光膜2、λ/4波片4、聚合物(PET)薄膜6和触摸传感器7可以两两之间采用光学胶贴合，以形成一体化式的防反射触摸屏，减小显示模组的厚度，易于制备超薄模组显示屏。
实施例2：
本发明实施例2在本发明实施例1所示触摸屏的基础上制备，如图3所示，偏光膜2的表面还可以包括：保护膜1，用于防眩光、防反射和/或抗静电。保护膜1可以是减反三醋酸纤维保护膜，利用光学均匀和透明性良好的TAC膜层来隔绝水分和空气，避免偏光膜2因吸水褪色而丧失偏光性能，同时可以对保护膜1进行防眩光、防反射、防紫外和/或抗静电涂层等处理，成为功能性保护膜。
可选地，在λ/4波片4和聚合物薄膜6之间还可以包括：半透半反金属屏蔽膜5，可以是镀金膜，镀银膜，镀铝膜等其它半透半反金属膜，可以降低干扰，提高触摸屏的触摸灵敏度。
可选地，光学胶可以为：光学压敏胶。制备压敏胶所使用的聚合单体包括粘性单体，内聚单体以及改性单体，用于偏光片的光学压敏胶主要是聚丙烯酸酯溶剂型压敏胶。采用含酸的光学压敏胶可以具有高的粘合度，采用不含酸的光学压敏胶可以与金属进行贴合，同时在光学胶中加入抗静电粒子可以降低干扰，提高触摸屏的灵敏度，也即偏光膜2和λ/4波片4之间可以为含酸的光学胶3a；λ/4波片4、半透半反金属屏蔽膜5、聚合物薄膜6、触摸传感器7之间可以为不含酸且含有抗静电粒子的光学胶3b。
可选地，触摸传感器7可以为柔性触摸传感器，以用于制备柔性触摸屏。触摸传感器7可以由导电玻璃(ITO)、氟掺杂锡氧化物(FTO)、碳纳米管、纳米银、石墨烯、高分子材料中的一种或多种制备。其中，柔性触摸传感器可以采用碳纳米管制备，也可以采用碳纳米管结合高分子材料制备，以利用其各向异性导电性实现较好的触摸功能，同时实现柔性触摸。
可选地，触摸屏可以为全贴方式或框贴方式。其中，图3所示为全贴方式制备的触摸屏结构示意图，图4所示为采用全贴方式制备的触摸屏的防反射原理示意图；图5为框贴方式制备的触摸屏结构示意图，图6为相应的框贴方式制备的触摸屏防反射原理示意图。其中，采用全贴方式可以增加触摸屏的机械强度；而采用框贴方式对于有源矩阵有机发光二极体(AMOLED)高对比度显示屏来说可以利用空气的反射来对光进行衰减处理，降低偏光片的制造成本。
实施例3：
本发明实施例3提供一种触摸显示装置，其包括显示屏和如上任一项所述的触摸屏，其中触摸屏贴合在显示屏上。
可选地，显示屏可以为AMOLED显示模组。
实施例4：
本发明实施例4提供一种制造触摸屏的方法，包括：
将触摸传感器、聚合物薄膜、λ/4波片和偏光膜之间依次贴合；
其中：所述偏光膜，用于使入射光偏振，透射与所述触摸屏垂直方向的分量；
所述λ/4波片，用于使入射光产生λ/4的相位延迟。
其中，触摸传感器、聚合物薄膜、λ/4波片和偏光膜之间可以采用光学胶依次贴合。
可选地，方法还可以包括：在偏光膜表面采用光学胶与保护膜贴合，保护膜用于防眩光、防反射和/或抗静电。
可选地，方法还可以包括：在λ/4波片和聚合物薄膜之间采用光学胶贴合半透半反金属屏蔽膜。
可选地，方法还可以包括：
在偏光膜和λ/4波片之间采用含酸的光学胶；
在λ/4波片、半透半反金属屏蔽膜、聚合物薄膜、触摸传感器之间采用不含酸且含有抗静电粒子的光学胶。
可选地，光学胶可以为：光学压敏胶。
可选地，触摸传感器可以为柔性触摸传感器。
可选地，触摸传感器可以由导电玻璃、氟掺杂锡氧化物、碳纳米管、纳米银、石墨烯、高分子材料中的一种或多种制备。
可选地，触摸屏可以采用全贴方式或框贴方式制备。
可见，在本发明实施例所提供的尤其涉及触摸屏及其制造方法和触摸显示装置中，能够使用偏振膜和λ/4膜改变环境光的光路，降低环境光对显示模组显示效果的影响，提高对比度，改善人眼观看的效果，实现触摸屏的防反射功能。另外，本发明实施例采用触摸屏和偏光片一体化设计，结构简单，生产工艺成熟，并且不会影响透光率及触摸灵敏度；而柔性材料的使用也可以结合AMOLED显示屏来制备可触控柔性显示器。
最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围。

Claims (19)

1.一种触摸屏，其特征在于，依次包括：
偏光膜，用于使入射光偏振，透射与所述触摸屏垂直方向的分量；
λ/4波片，用于使入射光产生λ/4的相位延迟；
聚合物薄膜；和
触摸传感器。
2.根据权利要求1所述的触摸屏，其特征在于：
所述偏光膜、λ/4波片、聚合物薄膜和触摸传感器两两之间采用光学胶贴合。
3.根据权利要求1所述的触摸屏，其特征在于：
所述偏光膜表面还包括：保护膜，用于防眩光、防反射和/或抗静电。
4.根据权利要求2所述的触摸屏，其特征在于：
在所述λ/4波片和所述聚合物薄膜之间还包括：半透半反金属屏蔽膜。
5.根据权利要求4所述的触摸屏，其特征在于：
所述偏光膜和λ/4波片之间为含酸的光学胶；
所述λ/4波片、半透半反金属屏蔽膜、聚合物薄膜、触摸传感器之间为不含酸且含有抗静电粒子的光学胶。
6.根据权利要求2所述的触摸屏，其特征在于：
所述光学胶为：光学压敏胶。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的触摸屏，其特征在于：
所述触摸传感器为柔性触摸传感器。
8.根据权利要求1至6中任一项所述的触摸屏，其特征在于：
所述触摸传感器由导电玻璃、氟掺杂锡氧化物、碳纳米管、纳米银、石墨烯、高分子材料中的一种或多种制备。
9.根据权利要求1至6中任一项所述的触摸屏，其特征在于：
所述触摸屏为全贴方式或框贴方式。
10.一种制造触摸屏的方法，其特征在于，包括：
将触摸传感器、聚合物薄膜、λ/4波片和偏光膜之间依次贴合；
其中：所述偏光膜，用于使入射光偏振，透射与所述触摸屏垂直方向的分量；
所述λ/4波片，用于使入射光产生λ/4的相位延迟。
11.根据权利要求10所述的制造触摸屏的方法，其特征在于：
所述触摸传感器、聚合物薄膜、λ/4波片和偏光膜之间采用光学胶依次贴合。
12.根据权利要求10所述的制造触摸屏的方法，其特征在于：
所述方法还包括：在所述偏光膜表面采用光学胶与保护膜贴合，所述保护膜用于防眩光、防反射和/或抗静电。
13.根据权利要求11所述的制造触摸屏的方法，其特征在于，所述方法还包括：
在所述λ/4波片和所述聚合物薄膜之间采用光学胶贴合半透半反金属屏蔽膜。
14.根据权利要求13所述的制造触摸屏的方法，其特征在于，所述方法还包括：
在所述偏光膜和λ/4波片之间采用含酸的光学胶；
在所述λ/4波片、半透半反金属屏蔽膜、聚合物薄膜、触摸传感器之间采用不含酸且含有抗静电粒子的光学胶。
15.根据权利要求11所述的制造触摸屏的方法，其特征在于：
所述光学胶为：光学压敏胶。
16.根据权利要求10至15中任一项所述的制造触摸屏的方法，其特征在于：
所述触摸传感器为柔性触摸传感器。
17.根据权利要求10至15中任一项所述的制造触摸屏的方法，其特征在于：
所述触摸传感器由导电玻璃、氟掺杂锡氧化物、碳纳米管、纳米银、石墨烯、高分子材料中的一种或多种制备。
18.根据权利要求10至15中任一项所述的制造触摸屏的方法，其特征在于：
所述触摸屏采用全贴方式或框贴方式制备。
19.一种触摸显示装置，其特征在于：包括显示屏和如权利要求1至9中任一项所述的触摸屏，所述触摸屏贴合在所述显示屏上。
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