CN104900813A - 一种光电子器件的封装结构及封装方法 - Google Patents
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- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 title claims abstract description 44
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 30
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 title claims abstract description 16
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 57
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 57
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 41
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 21
- 238000012856 packing Methods 0.000 claims description 18
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 11
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 10
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N antimony pentoxide Chemical compound O=[Sb](=O)O[Sb](=O)=O LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 8
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 8
- QDOXWKRWXJOMAK-UHFFFAOYSA-N dichromium trioxide Chemical compound O=[Cr]O[Cr]=O QDOXWKRWXJOMAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 8
- 229910052976 metal sulfide Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 8
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 5
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims description 5
- 229910017083 AlN Inorganic materials 0.000 claims description 4
- PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N Aluminum nitride Chemical compound [Al]#N PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen disulfide Chemical compound SS BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- MBMLMWLHJBBADN-UHFFFAOYSA-N Ferrous sulfide Chemical compound [Fe]=S MBMLMWLHJBBADN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 claims description 4
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N ZrO2 Inorganic materials O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical group [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 claims description 4
- MMXSKTNPRXHINM-UHFFFAOYSA-N cerium(3+);trisulfide Chemical compound [S-2].[S-2].[S-2].[Ce+3].[Ce+3] MMXSKTNPRXHINM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 4
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 4
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 4
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- OMZSGWSJDCOLKM-UHFFFAOYSA-N copper(II) sulfide Chemical compound [S-2].[Cu+2] OMZSGWSJDCOLKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229960004643 cupric oxide Drugs 0.000 claims description 4
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 4
- IHBMMJGTJFPEQY-UHFFFAOYSA-N sulfanylidene(sulfanylidenestibanylsulfanyl)stibane Chemical compound S=[Sb]S[Sb]=S IHBMMJGTJFPEQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- WWNBZGLDODTKEM-UHFFFAOYSA-N sulfanylidenenickel Chemical compound [Ni]=S WWNBZGLDODTKEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 claims description 4
- CFJRPNFOLVDFMJ-UHFFFAOYSA-N titanium disulfide Chemical group S=[Ti]=S CFJRPNFOLVDFMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims description 4
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 2
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 claims description 2
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 claims description 2
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 claims description 2
- 238000001659 ion-beam spectroscopy Methods 0.000 claims description 2
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims description 2
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 claims description 2
- 230000005622 photoelectricity Effects 0.000 claims description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 claims description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 57
- 229920001800 Shellac Polymers 0.000 abstract description 26
- 239000004208 shellac Substances 0.000 abstract description 26
- ZLGIYFNHBLSMPS-ATJNOEHPSA-N shellac Chemical compound OCCCCCC(O)C(O)CCCCCCCC(O)=O.C1C23[C@H](C(O)=O)CCC2[C@](C)(CO)[C@@H]1C(C(O)=O)=C[C@@H]3O ZLGIYFNHBLSMPS-ATJNOEHPSA-N 0.000 abstract description 26
- 229940113147 shellac Drugs 0.000 abstract description 26
- 235000013874 shellac Nutrition 0.000 abstract description 26
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract description 21
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 20
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 19
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 19
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract description 19
- 229910000464 lead oxide Inorganic materials 0.000 abstract description 19
- YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N oxolead Chemical compound [Pb]=O YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 19
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 abstract description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- ZTQIQRKFHJRLAX-UHFFFAOYSA-N COC1(C(C=CC=C1)C(=O)C1C(C=CC=C1)(OC)OC)OC Chemical compound COC1(C(C=CC=C1)C(=O)C1C(C=CC=C1)(OC)OC)OC ZTQIQRKFHJRLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- ZZAGLMPBQOKGGT-UHFFFAOYSA-N [4-[4-(4-prop-2-enoyloxybutoxy)benzoyl]oxyphenyl] 4-(4-prop-2-enoyloxybutoxy)benzoate Chemical compound C1=CC(OCCCCOC(=O)C=C)=CC=C1C(=O)OC(C=C1)=CC=C1OC(=O)C1=CC=C(OCCCCOC(=O)C=C)C=C1 ZZAGLMPBQOKGGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 abstract 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Substances OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 abstract 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 124
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 54
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 31
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 27
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 150000005208 1,4-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 18
- 102100026735 Coagulation factor VIII Human genes 0.000 description 18
- 101000911390 Homo sapiens Coagulation factor VIII Proteins 0.000 description 18
- XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N copper(II) phthalocyanine Chemical compound [Cu+2].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 18
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 18
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 18
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 18
- SLIUAWYAILUBJU-UHFFFAOYSA-N pentacene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC4=CC5=CC=CC=C5C=C4C=C3C=C21 SLIUAWYAILUBJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 18
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 18
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 14
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 12
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 9
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 8
- 230000027756 respiratory electron transport chain Effects 0.000 description 8
- LOIBXBUXWRVJCF-UHFFFAOYSA-N 4-(4-aminophenyl)-3-phenylaniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1C1=CC=CC=C1 LOIBXBUXWRVJCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 7
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 7
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 7
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 7
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N C60 fullerene Chemical compound C12=C3C(C4=C56)=C7C8=C5C5=C9C%10=C6C6=C4C1=C1C4=C6C6=C%10C%10=C9C9=C%11C5=C8C5=C8C7=C3C3=C7C2=C1C1=C2C4=C6C4=C%10C6=C9C9=C%11C5=C5C8=C3C3=C7C1=C1C2=C4C6=C2C9=C5C3=C12 XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 6
- 229910003472 fullerene Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 3
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000011161 development Methods 0.000 description 3
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 3
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 3
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 3
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 235000013305 food Nutrition 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 description 2
- 241001516928 Kerria lacca Species 0.000 description 1
- 206010027146 Melanoderma Diseases 0.000 description 1
- 239000010022 Myron Substances 0.000 description 1
- 241001439614 Myron Species 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000061458 Solanum melongena Species 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000002775 capsule Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 235000009508 confectionery Nutrition 0.000 description 1
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 1
- 230000007850 degeneration Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 235000013399 edible fruits Nutrition 0.000 description 1
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000010985 leather Substances 0.000 description 1
- 235000021374 legumes Nutrition 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000000025 natural resin Substances 0.000 description 1
- 231100000252 nontoxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000003000 nontoxic effect Effects 0.000 description 1
- 235000015097 nutrients Nutrition 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000006187 pill Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 230000003248 secreting effect Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
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Abstract
本发明公开了一种光电子器件的封装结构及封装方法,包括用于包覆光电子器件的薄膜封装层,薄膜封装层由无机封装材料层和紫外光固化树脂层以周期数n交替重叠组成,其中,1≤n≤20,所述紫外光固化树脂由以下质量百分比的组份组成:虫胶、丙三醇、氧化铅、甲苯二异氰酸酯、三甲醇基丙烷、对苯二酚、四氢呋喃、2-羟乙基甲基丙烯酸酯、二月桂酸二丁基锡、2,2-二甲氧基-苯基甲酮和二丙烯酸1,6-乙二醇酯。该封装结构能够有效地阻挡周围环境中的氧气和水,有利于提高器件的稳定性,延长器件的寿命;同时,该封装方法具有制备工艺简单、成本低的特点。
Description
技术领域
本发明涉及光电子技术领域,具体涉及一种光电子器件的封装结构及封装方法。
背景技术
光电子技术是继微电子技术之后迅速发展的科技含量很高的产业。随着光电子技术的快速发展,发光二极管、有机发光二极管、太阳能电池、薄膜晶体管等光电子产品都逐渐发展成熟,它们大大改善了人们的生活。同时,光电子信息技术在社会生活各个领域的广泛应用,也创造了日益增长的巨大市场,光电子信息领域的竞争正在世界范围展开。
目前的光电子器件,包括有机电致发光器件、无机发光二极管、有机太阳能电池、无机太阳能电池、有机薄膜晶体管、无机薄膜晶体管、紫外光探测器、红外光探测器等,特别是有机光电子器件的快速发展,适合全球社会低碳环保,绿色生活的最具发展潜力和应用市场的光电子器件,其组成部分大都是采用有机材料制备在刚性(如玻璃或硅片)或柔性基板上。它们虽然具有优良的器件性能,但是由于器件对外界环境具有很强的敏感性,尤其是在有机光电子器件中,大气环境中的水和氧等成分会对材料产生严重的负面作用。从而未封装的器件在大气环境中放置后会使得器件性能逐渐降低,甚至完全失去性能。氧气使有机材料产生氧化而会生成羰基化合物,此化合物是严重的淬灭剂,另外,材料变质就会形成黑斑,并伴随器件性能下降。水汽的影响更显而易见,它的主要破坏方式是导电电极对有机层化合物的水解作用,使稳定性大大下降。为此,要使器件在长期工作过程中的退化与失效得到抑制,稳定工作达到足够的寿命,必须对器件进行封装,而采用何种封装材料以及何种封装方法也就成了解决问题的另一个突破点。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是如何提供一种光电子器件的封装方法,该封装方法解决了光电子器件对水和氧气等的敏感性问题,能够增强器件对水和氧的阻隔能力,提高了器件的稳定性和寿命。
本发明的技术方案为:
一种光电子器件的封装结构,包括用于包覆光电子器件的薄膜封装层,薄膜封装层由无机封装材料层和紫外光固化树脂层以周期数n交替重叠组成,其中,1≤n≤20,所述紫外光固化树脂由以下质量百分比的组份组成:
本发明的封装结构中,所述无机封装材料为金属氧化物或金属硫化物或金属氮化物,金属氧化物为氧化钙、五氧化二钽、二氧化钛、二氧化锆、氧化铜、氧化锌、三氧化二铝、三氧化二铬、二氧化锡、氧化镍或五氧化二锑中的一种或多种,金属硫化物为二硫化钛、硫化铁、三硫化二铬、硫化铜、硫化锌、二硫化锡、硫化镍、三硫化二钴、三硫化二锑、硫化铅、三硫化二镧、硫化铈或二硫化锆中的一种或多种,金属氮化物为氮化硅或氮化铝中的一种或两种。
本发明还公开了一种光电子器件的封装方法,包括以下步骤:
①制备光电子器件;
②在所制备的光电子器件上制备无机封装材料层;
③在无机封装材料层上制备紫外光固化树脂层;
④对步骤③处理后的光电子器件表面进行紫外光固化处理30秒;
⑤对紫外光固化后的器件,继续重复步骤②、③和④的操作,连续重复n-1次,1≤n≤20;
⑥测试封装后器件的寿命以及其他各项参数。
本发明的封装方法中,所述无机封装材料层和紫外光固化树脂层是通过真空蒸镀、离子团束沉积、离子镀、直流溅射镀膜、RF溅射镀膜、离子束溅射镀膜、离子束辅助沉积、等离子增强化学气相沉积、高密度电感耦合式等离子体源化学气相沉积、触媒式化学气相沉积、磁控溅射、喷墨打印、电镀、喷涂、旋涂、浸涂、辊涂或LB膜中的一种或者几种方式而形成。
本发明的封装方法中,所述光电子器件是一种光电之间、电电之间或电光之间可以进行信号和能量转换的器件。
本发明的封装方法中,光电子器件为有机电致发光二极管、无机发光二极管、有机太阳能电池、无机太阳能电池、有机薄膜晶体管、无机薄膜晶体管或光探测器。
本发明的封装方法中,紫外光固化树脂由以下质量百分比的组份组成:
本发明的封装方法中,所述无机封装材料为金属氧化物或金属硫化物或金属氮化物,金属氧化物为氧化钙、五氧化二钽、二氧化钛、二氧化锆、氧化铜、氧化锌、三氧化二铝、三氧化二铬、二氧化锡、氧化镍或五氧化二锑中的一种或多种,金属硫化物为二硫化钛、硫化铁、三硫化二铬、硫化铜、硫化锌、二硫化锡、硫化镍、三硫化二钴、三硫化二锑、硫化铅、三硫化二镧、硫化铈或二硫化锆中的一种或多种,金属氮化物为氮化硅或氮化铝中的一种或两种。
本发明的有益效果:本发明的光电子器件的封装材料中,有机封装材料较为稀缺,本发明提供一种常规的、有效的有机封装材料,由于有机封装材料具备良好的紫外敏感特性,在制备光电子器件后对衬底进行适当的紫外处理。有机紫外光固化树脂具有良好的固化剂性、稳定性、粘结强度、透光度和高纯度,采用本发明中提供的各种优选比例和工艺参数,能够获得更优的器件性能。本发明的封装层采用无机封装材料层和所述的有机紫外光固化树脂层交替重叠组成,不仅能够降低成本,简化工艺,重要的是可以很好地提高器件稳定性,延长器件寿命。
本发明采用薄膜封装技术,提出一种低成本且工艺简单的封装方法,能够大大提高器件对氧气和水汽等的阻隔作用,降低工艺难度和提高器件稳定性。通过解决上述这些问题,将会使光电子器件得到更为广泛的应用和更加快速的发展。
附图说明
图1是本发明所提供的实施例1、2、3、4、5、6的光电子器件封装结构示意图;
图2是本发明所提供的实施例7、8、9、10、11、12的光电子器件封装结构示意图;
图3是本发明所提供的实施例13、14、15、16、17、18的光电子器件封装结构示意图;
图4是本发明所提供的对比实施例1的光电子器件结构示意图;
其中,1是光电子器件,11、衬底,12、阳极层,13、空穴传输层,14、电子传输层,15、阴极层,16、电子给体层,17、电子受体层,18、底电极,19、绝缘层,20、载流子传输层,23、顶电极,2是本发明的薄膜封装层,由无机封装材料层21和紫外光固化树脂层22以一定的周期数n交替重叠构成。
具体实施方式
虫胶是由一种紫胶虫寄生于一些豆科植物树枝上吸食树汁后分泌的一种紫红色天然树脂,也被称为紫胶,具有独特的优良特性,被广泛应用于食品、医药、塑料、军事、电气、橡胶、油墨、皮革、涂料、染料和粘合剂等行业。虫胶无毒,目前在医药工业中主要用于药丸药片的防潮糖衣、药品密封、上光、肠溶药包衣和近年发展起来的营养物与化妆品的胶囊等。虫胶涂料同样可用于食品工业的很多方面,可被人体吸收、可自然降解,例如糖果和糕点涂了虫胶涂料之后,可变得甚为美观、光亮,可以防潮、防结块、防变质和延长贮存时间等。水果用虫胶涂料涂膜后,能在一定时期内抑制水分蒸发,保持新鲜,减少腐烂,改善外观,产生提高经济效益的效果。虫胶产品具有较好的抗张强度、耐磨性、回弹性和硬度,具有理想的机械性能。电学性能方面,虫胶的介电强度高,介电常数低,且在受电弧支配后,无导电性,加上它有良好的粘着性和热塑性,在电器绝缘上有特殊的用途。
下面结合附图对本发明作进一步描述:
实施例1
如图1所示,1为有机电致发光器件,阳极层12为ITO,空穴传输层13为N,N’-二(萘亚甲基-1-yl)-N,N’-二(苯基)-联苯胺(NPB),电子传输层14为1,3,5-(三N-苯基-2-苯并咪唑-2)苯41(TPBi),阴极层15为Mg:Ag合金,无机膜封装材料层21为Al2O3,紫外光固化树脂层22包括53%的虫胶、6%的丙三醇、0.98%的氧化铅、4%的甲苯二异氰酸酯、9%的三甲醇基丙烷、0.01%的对苯二酚、10%的四氢呋喃、8%的2-羟乙基甲基丙烯酸酯、0.01%的二月桂酸二丁基锡、2%的2,2-二甲氧基-苯基甲酮和7%的二丙烯酸1,6-乙二醇酯,周期数n为20,器件结构为:
玻璃衬底/ITO/NPB(50nm)/TPBi(30nm)/Mg:Ag(200nm)/[Al2O3(200nm)/紫外光固化树脂(100nm)]20
制备方法如下:
①利用洗涤剂、丙酮溶液、乙醇溶液和去离子水超声清洗基片并用氮气吹干;
②将干净的基片传至高真空蒸发室,分别保持有机腔和金属腔的压强为3.0×10-4Pa和3.0×10-3Pa以下,利用高真空蒸镀方法制备各有机功能层以及阴极金属层;
③对上述制备的有机电致发光器件,利用等离子增强型化学气象沉积(以下简称PECVD)方法制备无机薄膜封装材料Al2O3,沉积的厚度为200nm;
④将器件传至具有紫外光固化树脂的腔体内,并喷涂紫外光固化树脂,喷
涂的厚度为100nm;
⑤对器件进行紫外光固化处理30秒;
⑥重复上述步骤③~⑤,再制备周期数为(n-1)的无机薄膜封装材料和紫外光固化树脂交替组成的薄膜层;
⑦测试器件的寿命及其各项参数。
实施例2
如图1所示,1为有机电致发光器件,阳极层12为ITO,空穴传输层13为N,N’-二(萘亚甲基-1-yl)-N,N’-二(苯基)-联苯胺(NPB),电子传输层14为1,3,5-(三N-苯基-2-苯并咪唑-2)苯41(TPBi),阴极层15为Mg:Ag合金,无机膜封装材料层21为Al2O3,紫外光固化树脂层22包括53%的虫胶、6%的丙三醇、0.01%的氧化铅、4%的甲苯二异氰酸酯、9%的三甲醇基丙烷、0.98%的对苯二酚、10%的四氢呋喃、8%的2-羟乙基甲基丙烯酸酯、0.01%的二月桂酸二丁基锡、2%的2,2-二甲氧基-苯基甲酮和7%的二丙烯酸1,6-乙二醇酯,周期数n为16,器件结构为:
玻璃衬底/ITO/NPB(50nm)/TPBi(30nm)/Mg:Ag(200nm)/[Al2O3(200nm)/紫外光固化树脂(100nm)]16
制备方法与实施例1相似。
实施例3
如图1所示,1为有机电致发光器件,阳极层12为ITO,空穴传输层13为N,N’-二(萘亚甲基-1-yl)-N,N’-二(苯基)-联苯胺(NPB),电子传输层14为1,3,5-(三N-苯基-2-苯并咪唑-2)苯41(TPBi),阴极层15为Mg:Ag合金,无机膜封装材料层21为Al2O3,紫外光固化树脂层22包括30%的虫胶、5%的丙三醇、2%的氧化铅、5%的甲苯二异氰酸酯、10%的三甲醇基丙烷、2%的对苯二酚、15%的四氢呋喃、10%的2-羟乙基甲基丙烯酸酯、2%的二月桂酸二丁基锡、9%的2,2-二甲氧基-苯基甲酮和10%的二丙烯酸1,6-乙二醇酯,周期数n为12,器件结构为:
玻璃衬底/ITO/NPB(50nm)/TPBi(30nm)/Mg:Ag(200nm)/[Al2O3(200nm)/紫外光固化树脂(100nm)]12
制备方法与实施例1相似。
实施例4
如图1所示,1为有机电致发光器件,阳极层12为ITO,空穴传输层13为N,N’-二(萘亚甲基-1-yl)-N,N’-二(苯基)-联苯胺(NPB),电子传输层14为1,3,5-(三N-苯基-2-苯并咪唑-2)苯41(TPBi),阴极层15为Mg:Ag合金,无机膜封装材料层21为Si3N4,紫外光固化树脂层22包括8%的虫胶、42%的丙三醇、0.9%的氧化铅、7%的甲苯二异氰酸酯、9%的三甲醇基丙烷、0.05%的对苯二酚、10%的四氢呋喃、10%的2-羟乙基甲基丙烯酸酯、0.05%的二月桂酸二丁基锡、6%的2,2-二甲氧基-苯基甲酮和7%的二丙烯酸1,6-乙二醇酯,周期数n为8,器件结构为:
玻璃衬底/ITO/NPB(50nm)/TPBi(30nm)/Mg:Ag(200nm)/[Si3N4(500nm)/紫外光固化树脂(500nm)]8
制备方法与实施例1相似。
实施例5
如图1所示,1为有机电致发光器件,阳极层12为ITO,空穴传输层13为N,N’-二(萘亚甲基-1-yl)-N,N’-二(苯基)-联苯胺(NPB),电子传输层14为1,3,5-(三N-苯基-2-苯并咪唑-2)苯41(TPBi),阴极层15为Mg:Ag合金,无机膜封装材料层21为Si3N4,紫外光固化树脂层22包括8%的虫胶、6%的丙三醇、0.5%的氧化铅、29%的甲苯二异氰酸酯、10%的三甲醇基丙烷、1%的对苯二酚、12%的四氢呋喃、17%的2-羟乙基甲基丙烯酸酯、0.5%的二月桂酸二丁基锡、6%的2,2-二甲氧基-苯基甲酮和10%的二丙烯酸1,6-乙二醇酯,周期数n为4,器件结构为:
玻璃衬底/ITO/NPB(50nm)/TPBi(30nm)/Mg:Ag(200nm)/[Al2O3(500nm)/紫外光固化树脂(500nm)]4
制备方法与实施例1相似。
实施例6
如图1所示,1为有机电致发光器件,阳极层12为ITO,空穴传输层13为N,N’-二(萘亚甲基-1-yl)-N,N’-二(苯基)-联苯胺(NPB),电子传输层14为1,3,5-(三N-苯基-2-苯并咪唑-2)苯41(TPBi),阴极层15为Mg:Ag合金,无机膜封装材料层21为Si3N4,紫外光固化树脂层22包括8%的虫胶、8%的丙三醇、2%的氧化铅、5%的甲苯二异氰酸酯、46%的三甲醇基丙烷、2%的对苯二酚、10%的四氢呋喃、8%的2-羟乙基甲基丙烯酸酯、2%的二月桂酸二丁基锡、2%的2,2-二甲氧基-苯基甲酮和7%的二丙烯酸1,6-乙二醇酯,周期数n为1,器件结构为:
玻璃衬底/ITO/NPB(50nm)/TPBi(30nm)/Mg:Ag(200nm)/[Si3N4(500nm)/紫外光固化树脂(500nm)]1
对比实施例1
如图4所示,1为有机电致发光器件,阳极层12为ITO,空穴传输层13为N,N’-二(萘亚甲基-1-yl)-N,N’-二(苯基)-联苯胺(NPB),电子传输层14为1,3,5-(三N-苯基-2-苯并咪唑-2)苯41(TPBi),阴极层15为Mg:Ag合金,器件结构为:
玻璃衬底/ITO/NPB(50nm)/TPBi(30nm)/Mg:Ag(200nm)
制备方法如下:
①利用洗涤剂、丙酮溶液、乙醇溶液和去离子水超声清洗基片并用氮气吹干;
②将干净的基片传至高真空蒸发室,分别保持有机腔和金属腔的压强为3.0×10-4Pa和3.0×10-3Pa以下,利用高真空蒸镀方法制备各有机功能层以及阴极金属层;
③测试器件的寿命及其各项参数。
表1:对比实施例1和实施例1、2、3、4、5、6的光电子器件寿命的性能对比。
实施例7
如图2所示,1为有机太阳能电池器件,阳极层12为ITO,电子给体层16为酞菁铜(CuPc),电子受体层17为富勒烯(C60),阴极层15为Ag,无机膜封装材料层21为Al2O3,紫外光固化树脂层22包括15%的虫胶、6%的丙三醇、2%的氧化铅、4%的甲苯二异氰酸酯、9%的三甲醇基丙烷、2%的对苯二酚、38%的四氢呋喃、8%的2-羟乙基甲基丙烯酸酯、2%的二月桂酸二丁基锡、2%的2,2-二甲氧基-苯基甲酮和12%的二丙烯酸1,6-乙二醇酯,周期数n为20,器件结构为:
玻璃衬底/ITO/CuPc(20nm)/C60(40nm)/Ag(150nm)/[Al2O3(100nm)/紫外光固化树脂(80nm)]20
制备方法与实施例1相似。
实施例8
如图2所示,1为有机太阳能电池器件,阳极层12为ITO,电子给体层16为酞菁铜(CuPc),电子受体层17为富勒烯(C60),阴极层15为Ag,无机膜封装材料层21为Al2O3,紫外光固化树脂层22包括8%的虫胶、10%的丙三醇、2%的氧化铅、7%的甲苯二异氰酸酯、10%的三甲醇基丙烷、2%的对苯二酚、10%的四氢呋喃、8%的2-羟乙基甲基丙烯酸酯、2%的二月桂酸二丁基锡、2%的2,2-二甲氧基-苯基甲酮和39%的二丙烯酸1,6-乙二醇酯,周期数n为16,器件结构为:
玻璃衬底/ITO/CuPc(20nm)/C60(40nm)/Ag(150nm)/[Al2O3(100nm)/紫外光固化树脂(80nm)]16
制备方法与实施例1相似。
实施例9
如图2所示,1为有机太阳能电池器件,阳极层12为ITO,电子给体层16为酞菁铜(CuPc),电子受体层17为富勒烯(C60),阴极层15为Ag,无机膜封装材料层21为Al2O3,紫外光固化树脂层22包括53%的虫胶、6%的丙三醇、0.98%的氧化铅、4%的甲苯二异氰酸酯、9%的三甲醇基丙烷、0.01%的对苯二酚、10%的四氢呋喃、8%的2-羟乙基甲基丙烯酸酯、0.01%的二月桂酸二丁基锡、2%的2,2-二甲氧基-苯基甲酮和7%的二丙烯酸1,6-乙二醇酯,周期数n为12,器件结构为:
玻璃衬底/ITO/CuPc(20nm)/C60(40nm)/Ag(150nm)/[Al2O3(100nm)/紫外光固化树脂(80nm)]12
制备方法与实施例1相似。
实施例10
如图2所示,1为有机太阳能电池器件,阳极层12为ITO,电子给体层16为酞菁铜(CuPc),电子受体层17为富勒烯(C60),阴极层15为Ag,无机膜封装材料层21为SiO2,紫外光固化树脂层22包括53%的虫胶、6%的丙三醇、0.001%的氧化铅、4%的甲苯二异氰酸酯、9%的三甲醇基丙烷、0.989%的对苯二酚、10%的四氢呋喃、8%的2-羟乙基甲基丙烯酸酯、0.01%的二月桂酸二丁基锡、2%的2,2-二甲氧基-苯基甲酮和7%的二丙烯酸1,6-乙二醇酯,周期数n为20,器件结构为:
玻璃衬底/ITO/CuPc(20nm)/C60(40nm)/Ag(150nm)/[SiO2(300nm)/紫外光固化树脂(500nm)]20
制备方法与实施例1相似。
实施例11
如图2所示,1为有机太阳能电池器件,阳极层12为ITO,电子给体层16为酞菁铜(CuPc),电子受体层17为富勒烯(C60),阴极层15为Ag,无机膜封装材料层21为SiO2,紫外光固化树脂层22包括30%的虫胶、6%的丙三醇、2%的氧化铅、5%的甲苯二异氰酸酯、10%的三甲醇基丙烷、2%的对苯二酚、12%的四氢呋喃、10%的2-羟乙基甲基丙烯酸酯、2%的二月桂酸二丁基锡、9%的2,2-二甲氧基-苯基甲酮和12%的二丙烯酸1,6-乙二醇酯,周期数n为16,器件结构为:
玻璃衬底/ITO/CuPc(20nm)/C60(40nm)/Ag(150nm)/[SiO2(300nm)/紫外光固化树脂(500nm)]16
制备方法与实施例1相似。
实施例12
如图2所示,1为有机太阳能电池器件,阳极层12为ITO,电子给体层16为酞菁铜(CuPc),电子受体层17为富勒烯(C60),阴极层15为Ag,无机膜封装材料层21为SiO2,紫外光固化树脂层22包括8%的虫胶、42%的丙三醇、0.9%的氧化铅、7%的甲苯二异氰酸酯、9%的三甲醇基丙烷、0.05%的对苯二酚、10%的四氢呋喃、10%的2-羟乙基甲基丙烯酸酯、0.05%的二月桂酸二丁基锡、6%的2,2-二甲氧基-苯基甲酮和7%的二丙烯酸1,6-乙二醇酯,周期数n为12,器件结构为:
玻璃衬底/ITO/CuPc(20nm)/C60(40nm)/Ag(150nm)/[SiO2(300nm)/紫外光固化树脂(500nm)]12
制备方法与实施例1相似。
实施例13
如图3所示,1为有机薄膜晶体管器件,底电极18为ITO,绝缘层19为聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA),载流子传输层20为并五苯(Pentacene),顶电极23为Au,无机膜封装材料层21为Si3N4,紫外光固化树脂层22包括8%的虫胶、6%的丙三醇、0.5%的氧化铅、29%的甲苯二异氰酸酯、9%的三甲醇基丙烷、1%的对苯二酚、13%的四氢呋喃、17%的2-羟乙基甲基丙烯酸酯、0.5%的二月桂酸二丁基锡、6%的2,2-二甲氧基-苯基甲酮和10%的二丙烯酸1,6-乙二醇酯,周期数n为20,器件结构为:
Si衬底/ITO(180nm)/PMMA(400nm)/Pentacene(80nm)/Au(100nm)/[Si3N4(200nm)/紫外光固化树脂(100nm)]20
制备方法如下:
①利用洗涤剂、丙酮溶液、乙醇溶液和去离子水超声清洗基片并用氮气吹干;
②将干净的基片传至高真空蒸发室,分别保持有机腔和金属腔的压强为3.0×10-4Pa和3.0×10-3Pa以下,利用高真空蒸镀方法制备各有机功能层以及阴极金属层;
③对上述制备的有机薄膜晶体管器件,利用等离子增强型化学气象沉积(以下简称PECVD)方法制备无机薄膜封装材料Si3N4,沉积的厚度为200nm;
④将器件传至具有紫外光固化树脂的腔体内,并喷涂紫外光固化树脂,喷涂的厚度为100nm;
⑤对器件进行紫外光固化处理30秒;
⑥重复上述步骤③~⑤,再制备周期数为(n-1)的无机薄膜封装材料和紫外光固化树脂交替组成的薄膜层;
⑦测试器件的寿命及其各项参数。
实施例14
如图3所示,1为有机薄膜晶体管器件,底电极18为ITO,绝缘层19为聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA),载流子传输层20为并五苯(Pentacene),顶电极23为Au,无机膜封装材料层21为Si3N4,紫外光固化树脂层22包括8%的虫胶、8%的丙三醇、2%的氧化铅、5%的甲苯二异氰酸酯、46%的三甲醇基丙烷、2%的对苯二酚、10%的四氢呋喃、8%的2-羟乙基甲基丙烯酸酯、2%的二月桂酸二丁基锡、2%的2,2-二甲氧基-苯基甲酮和7%的二丙烯酸1,6-乙二醇酯,周期数n为16,器件结构为:
Si衬底/ITO(180nm)/PMMA(400nm)/Pentacene(80nm)/Au(100nm)/[Si3N4(200nm)/紫外光固化树脂(100nm)]16
制备方法与实施例13相似。
实施例15
如图3所示,1为有机薄膜晶体管器件,底电极18为ITO,绝缘层19为聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA),载流子传输层20为并五苯(Pentacene),顶电极23为Au,无机膜封装材料层21为Si3N4,紫外光固化树脂层22包括15%的虫胶、6%的丙三醇、2%的氧化铅、4%的甲苯二异氰酸酯、9%的三甲醇基丙烷、2%的对苯二酚、38%的四氢呋喃、8%的2-羟乙基甲基丙烯酸酯、2%的二月桂酸二丁基锡、2%的2,2-二甲氧基-苯基甲酮和12%的二丙烯酸1,6-乙二醇酯,周期数n为12,器件结构为:
Si衬底/ITO(180nm)/PMMA(400nm)/Pentacene(80nm)/Au(100nm)/[Si3N4(200nm)/紫外光固化树脂(100nm)]12
制备方法与实施例13相似。
实施例16
如图3所示,1为有机薄膜晶体管器件,底电极18为ITO,绝缘层19为聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA),载流子传输层20为并五苯(Pentacene),顶电极23为Au,无机膜封装材料层21为SiO2,紫外光固化树脂层22包括8%的虫胶、10%的丙三醇、2%的氧化铅、7%的甲苯二异氰酸酯、10%的三甲醇基丙烷、2%的对苯二酚、10%的四氢呋喃、8%的2-羟乙基甲基丙烯酸酯、2%的二月桂酸二丁基锡、2%的2,2-二甲氧基-苯基甲酮和39%的二丙烯酸1,6-乙二醇酯,周期数n为12,器件结构为:
Si衬底/ITO(180nm)/PMMA(400nm)/Pentacene(80nm)/Au(100nm)/[SiO2(200nm)/紫外光固化树脂(500nm)]12
制备方法与实施例13相似。
实施例17
如图3所示,1为有机薄膜晶体管器件,底电极18为ITO,绝缘层19为聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA),载流子传输层20为并五苯(Pentacene),顶电极23为Au,无机膜封装材料层21为SiO2,紫外光固化树脂层22包括8%的虫胶、10%的丙三醇、2%的氧化铅、6%的甲苯二异氰酸酯、10%的三甲醇基丙烷、2%的对苯二酚、10%的四氢呋喃、9%的2-羟乙基甲基丙烯酸酯、2%的二月桂酸二丁基锡、2%的2,2-二甲氧基-苯基甲酮和39%的二丙烯酸1,6-乙二醇酯,周期数n为12,器件结构为:
Si衬底/ITO(180nm)/PMMA(400nm)/Pentacene(80nm)/Au(100nm)/[SiO2(200nm)/紫外光固化树脂(500nm)]12
制备方法与实施例13相似。
实施例18
如图3所示,1为有机薄膜晶体管器件,底电极18为ITO,绝缘层19为聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA),载流子传输层20为并五苯(Pentacene),顶电极23为Au,无机膜封装材料层21为SiO2,紫外光固化树脂层22包括8%的虫胶、10%的丙三醇、2%的氧化铅、5%的甲苯二异氰酸酯、10%的三甲醇基丙烷、2%的对苯二酚、10%的四氢呋喃、10%的2-羟乙基甲基丙烯酸酯、2%的二月桂酸二丁基锡、2%的2,2-二甲氧基-苯基甲酮和39%的二丙烯酸1,6-乙二醇酯,周期数n为12,器件结构为:
Si衬底/ITO(180nm)/PMMA(400nm)/Pentacene(80nm)/Au(100nm)/[SiO2(200nm)/紫外光固化树脂(500nm)]12
制备方法与实施例13相似。
Claims (8)
1.一种光电子器件的封装结构,包括用于包覆光电子器件的薄膜封装层,其特征在于,薄膜封装层由无机封装材料层和紫外光固化树脂层以周期数n交替重叠组成,其中,1≤n≤20,所述紫外光固化树脂由以下质量百分比的组份组成:
2.根据权利要求1所述的光电子器件的封装结构,其特征在于,所述无机封装材料为金属氧化物或金属硫化物或金属氮化物,金属氧化物为氧化钙、五氧化二钽、二氧化钛、二氧化锆、氧化铜、氧化锌、三氧化二铝、三氧化二铬、二氧化锡、氧化镍或五氧化二锑中的一种或多种,金属硫化物为二硫化钛、硫化铁、三硫化二铬、硫化铜、硫化锌、二硫化锡、硫化镍、三硫化二钴、三硫化二锑、硫化铅、三硫化二镧、硫化铈或二硫化锆中的一种或多种,金属氮化物为氮化硅或氮化铝中的一种或两种。
3.一种光电子器件的封装方法,其特征在于,包括以下步骤:
①制备光电子器件;
②在所制备的光电子器件上制备无机封装材料层;
③在无机封装材料层上制备紫外光固化树脂层;
④对步骤③处理后的光电子器件表面进行紫外光固化处理30秒;
⑤对紫外光固化后的器件,继续重复步骤②、③和④的操作,连续重复n-1次,1≤n≤20;
⑥测试封装后器件的寿命以及其他各项参数。
4.根据权利要求3所述的光电子器件的封装方法,其特征在于,所述无机封装材料层和紫外光固化树脂层是通过真空蒸镀、离子团束沉积、离子镀、直流溅射镀膜、RF溅射镀膜、离子束溅射镀膜、离子束辅助沉积、等离子增强化学气相沉积、高密度电感耦合式等离子体源化学气相沉积、触媒式化学气相沉积、磁控溅射、喷墨打印、电镀、喷涂、旋涂、浸涂、辊涂或LB膜中的一种或者几种方式而形成。
5.根据权利要求3所述的光电子器件的封装方法,其特征在于,所述光电子器件是一种光电之间、电电之间或电光之间可以进行信号和能量转换的器件。
6.根据权利要求5所述的光电子器件的封装方法,其特征在于,光电子器件为有机电致发光二极管、无机发光二极管、有机太阳能电池、无机太阳能电池、有机薄膜晶体管、无机薄膜晶体管或光探测器。
7.根据权利要求3所述的光电子器件的封装方法,其特征在于,紫外光固化树脂由以下质量百分比的组份组成:
8.根据权利要求3所述的光电子器件的封装方法,其特征在于,所述无机封装材料为金属氧化物或金属硫化物或金属氮化物,金属氧化物为氧化钙、五氧化二钽、二氧化钛、二氧化锆、氧化铜、氧化锌、三氧化二铝、三氧化二铬、二氧化锡、氧化镍或五氧化二锑中的一种或多种,金属硫化物为二硫化钛、硫化铁、三硫化二铬、硫化铜、硫化锌、二硫化锡、硫化镍、三硫化二钴、三硫化二锑、硫化铅、三硫化二镧、硫化铈或二硫化锆中的一种或多种,金属氮化物为氮化硅或氮化铝中的一种或两种。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201510210345.4A CN104900813A (zh) | 2015-04-29 | 2015-04-29 | 一种光电子器件的封装结构及封装方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publication Number | Publication Date |
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CN104900813A true CN104900813A (zh) | 2015-09-09 |
Family
ID=54033345
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