CN104854033B - 来自包含添加镁盐的醇盐的氟化镁溶胶溶液的方法 - Google Patents
来自包含添加镁盐的醇盐的氟化镁溶胶溶液的方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN104854033B CN104854033B CN201380059729.XA CN201380059729A CN104854033B CN 104854033 B CN104854033 B CN 104854033B CN 201380059729 A CN201380059729 A CN 201380059729A CN 104854033 B CN104854033 B CN 104854033B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- magnesium
- additive
- magnesium fluoride
- precursor
- amount
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 214
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 title claims abstract description 157
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 74
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 title description 10
- 159000000003 magnesium salts Chemical class 0.000 title description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims abstract description 271
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims abstract description 229
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims abstract description 226
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 187
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 149
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims abstract description 149
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 144
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 81
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 64
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 54
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 53
- -1 magnesium alkoxide Chemical class 0.000 claims abstract description 44
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 42
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims abstract description 37
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 36
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 32
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 claims abstract description 29
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 claims abstract description 23
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 19
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- 239000011575 calcium Substances 0.000 claims abstract description 15
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 11
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims abstract description 11
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 claims abstract description 7
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 claims abstract description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical group CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 177
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 135
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 110
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 90
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 90
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 38
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 33
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 33
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 27
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 claims description 25
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 claims description 21
- 229910001868 water Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 20
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 238000003682 fluorination reaction Methods 0.000 claims description 18
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 18
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M triflate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 15
- XDFCIPNJCBUZJN-UHFFFAOYSA-N barium(2+) Chemical compound [Ba+2] XDFCIPNJCBUZJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 claims description 13
- PWYYWQHXAPXYMF-UHFFFAOYSA-N strontium(2+) Chemical compound [Sr+2] PWYYWQHXAPXYMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K Aluminium flouride Chemical compound F[Al](F)F KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 12
- 150000001649 bromium compounds Chemical class 0.000 claims description 11
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 11
- 150000004694 iodide salts Chemical class 0.000 claims description 11
- 239000003446 ligand Substances 0.000 claims description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 9
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 claims description 9
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 8
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 7
- 125000002827 triflate group Chemical class FC(S(=O)(=O)O*)(F)F 0.000 claims description 7
- 229910007998 ZrF4 Inorganic materials 0.000 claims description 6
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 6
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 claims description 6
- 229910001637 strontium fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 6
- FVRNDBHWWSPNOM-UHFFFAOYSA-L strontium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Sr+2] FVRNDBHWWSPNOM-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 6
- BHHYHSUAOQUXJK-UHFFFAOYSA-L Zinc fluoride Inorganic materials F[Zn]F BHHYHSUAOQUXJK-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 5
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 claims description 5
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910004014 SiF4 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910010342 TiF4 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N silicon tetrafluoride Chemical compound F[Si](F)(F)F ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 claims description 3
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 claims description 3
- OMQSJNWFFJOIMO-UHFFFAOYSA-J zirconium tetrafluoride Chemical compound F[Zr](F)(F)F OMQSJNWFFJOIMO-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims description 3
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000008648 triflates Chemical class 0.000 claims description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 6
- 150000002680 magnesium Chemical class 0.000 abstract description 4
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 229940091250 magnesium supplement Drugs 0.000 description 174
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 64
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 45
- RVDLHGSZWAELAU-UHFFFAOYSA-N 5-tert-butylthiophene-2-carbonyl chloride Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(C(Cl)=O)S1 RVDLHGSZWAELAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 42
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 40
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 33
- TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L Magnesium chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[Cl-] TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 31
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 27
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 26
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 22
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 229910001629 magnesium chloride Inorganic materials 0.000 description 19
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 18
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 18
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 17
- CRGZYKWWYNQGEC-UHFFFAOYSA-N magnesium;methanolate Chemical compound [Mg+2].[O-]C.[O-]C CRGZYKWWYNQGEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 16
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical group [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 15
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 15
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 13
- 239000001110 calcium chloride Substances 0.000 description 13
- 229910001628 calcium chloride Inorganic materials 0.000 description 13
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 10
- 230000008859 change Effects 0.000 description 10
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 9
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 8
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 8
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 8
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 8
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 8
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 7
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 7
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 6
- 229910001632 barium fluoride Inorganic materials 0.000 description 5
- HHFAWKCIHAUFRX-UHFFFAOYSA-N ethoxide Chemical compound CC[O-] HHFAWKCIHAUFRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229960002337 magnesium chloride Drugs 0.000 description 5
- WNJYXPXGUGOGBO-UHFFFAOYSA-N magnesium;propan-1-olate Chemical compound CCCO[Mg]OCCC WNJYXPXGUGOGBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910001512 metal fluoride Inorganic materials 0.000 description 5
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 5
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 5
- 229910019438 Mg(OC2H5)2 Inorganic materials 0.000 description 4
- SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N aluminium isopropoxide Chemical compound [Al+3].CC(C)[O-].CC(C)[O-].CC(C)[O-] SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 4
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 4
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 4
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 4
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 4
- 229910001623 magnesium bromide Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910001641 magnesium iodide Inorganic materials 0.000 description 4
- NBTOZLQBSIZIKS-UHFFFAOYSA-N methoxide Chemical compound [O-]C NBTOZLQBSIZIKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910021630 Antimony pentafluoride Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 3
- VBVBHWZYQGJZLR-UHFFFAOYSA-I antimony pentafluoride Chemical compound F[Sb](F)(F)(F)F VBVBHWZYQGJZLR-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 3
- GUNJVIDCYZYFGV-UHFFFAOYSA-K antimony trifluoride Chemical compound F[Sb](F)F GUNJVIDCYZYFGV-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 150000002222 fluorine compounds Chemical group 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- YIXJRHPUWRPCBB-UHFFFAOYSA-N magnesium nitrate Inorganic materials [Mg+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O YIXJRHPUWRPCBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HFTSQAKJLBPKBD-UHFFFAOYSA-N magnesium;butan-1-olate Chemical compound [Mg+2].CCCC[O-].CCCC[O-] HFTSQAKJLBPKBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 3
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 3
- ANOBYBYXJXCGBS-UHFFFAOYSA-L stannous fluoride Chemical compound F[Sn]F ANOBYBYXJXCGBS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 239000004812 Fluorinated ethylene propylene Substances 0.000 description 2
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 229910003910 SiCl4 Inorganic materials 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910003074 TiCl4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 2
- 125000003158 alcohol group Chemical group 0.000 description 2
- 239000005328 architectural glass Substances 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 239000013590 bulk material Substances 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 229920000840 ethylene tetrafluoroethylene copolymer Polymers 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 238000000806 fluorine-19 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 2
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 2
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- XDKQUSKHRIUJEO-UHFFFAOYSA-N magnesium;ethanolate Chemical compound [Mg+2].CC[O-].CC[O-] XDKQUSKHRIUJEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920009441 perflouroethylene propylene Polymers 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- XPGAWFIWCWKDDL-UHFFFAOYSA-N propan-1-olate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-] XPGAWFIWCWKDDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010583 slow cooling Methods 0.000 description 2
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004293 19F NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- UAMAHOREDLJKSR-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-trifluoroacetic acid;hydrofluoride Chemical compound F.OC(=O)C(F)(F)F UAMAHOREDLJKSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIPWRIJSWJWJAI-UHFFFAOYSA-N Butyl carbitol 6-propylpiperonyl ether Chemical group C1=C(CCC)C(COCCOCCOCCCC)=CC2=C1OCO2 FIPWRIJSWJWJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920004142 LEXAN™ Polymers 0.000 description 1
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-M Lactate Chemical compound CC(O)C([O-])=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004418 Lexan Substances 0.000 description 1
- 239000004425 Makrolon Substances 0.000 description 1
- 229920012266 Poly(ether sulfone) PES Polymers 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-M Trifluoroacetate Chemical compound [O-]C(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- 125000005910 alkyl carbonate group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- 238000003556 assay Methods 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- QHFQAJHNDKBRBO-UHFFFAOYSA-L calcium chloride hexahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.[Cl-].[Cl-].[Ca+2] QHFQAJHNDKBRBO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000011089 carbon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005314 correlation function Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 230000006735 deficit Effects 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 238000000572 ellipsometry Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- QHSJIZLJUFMIFP-UHFFFAOYSA-N ethene;1,1,2,2-tetrafluoroethene Chemical group C=C.FC(F)=C(F)F QHSJIZLJUFMIFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N ethene;prop-1-ene Chemical group C=C.CC=C HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 description 1
- 230000002427 irreversible effect Effects 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003893 lactate salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 239000006193 liquid solution Substances 0.000 description 1
- 238000000449 magic angle spinning nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- UEGPKNKPLBYCNK-UHFFFAOYSA-L magnesium acetate Chemical compound [Mg+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O UEGPKNKPLBYCNK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940069446 magnesium acetate Drugs 0.000 description 1
- 239000011654 magnesium acetate Substances 0.000 description 1
- 235000011285 magnesium acetate Nutrition 0.000 description 1
- OTCKOJUMXQWKQG-UHFFFAOYSA-L magnesium bromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].[Br-] OTCKOJUMXQWKQG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940050906 magnesium chloride hexahydrate Drugs 0.000 description 1
- 150000002681 magnesium compounds Chemical class 0.000 description 1
- DHRRIBDTHFBPNG-UHFFFAOYSA-L magnesium dichloride hexahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.[Mg+2].[Cl-].[Cl-] DHRRIBDTHFBPNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 229960005235 piperonyl butoxide Drugs 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001709 polysilazane Polymers 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- IKNCGYCHMGNBCP-UHFFFAOYSA-N propan-1-olate Chemical group CCC[O-] IKNCGYCHMGNBCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 238000005496 tempering Methods 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WROMPOXWARCANT-UHFFFAOYSA-N tfa trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F.OC(=O)C(F)(F)F WROMPOXWARCANT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J13/00—Colloid chemistry, e.g. the production of colloidal materials or their solutions, not otherwise provided for; Making microcapsules or microballoons
- B01J13/0004—Preparation of sols
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B9/00—General methods of preparing halides
- C01B9/08—Fluorides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01F—COMPOUNDS OF THE METALS BERYLLIUM, MAGNESIUM, ALUMINIUM, CALCIUM, STRONTIUM, BARIUM, RADIUM, THORIUM, OR OF THE RARE-EARTH METALS
- C01F5/00—Compounds of magnesium
- C01F5/26—Magnesium halides
- C01F5/28—Fluorides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D1/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on inorganic substances
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0216—Coatings
- H01L31/02161—Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
- H01L31/02167—Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for solar cells
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0216—Coatings
- H01L31/02161—Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
- H01L31/02167—Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for solar cells
- H01L31/02168—Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for solar cells the coatings being antireflective or having enhancing optical properties for the solar cells
-
- H—ELECTRICITY
- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
- H02S—GENERATION OF ELECTRIC POWER BY CONVERSION OF INFRARED RADIATION, VISIBLE LIGHT OR ULTRAVIOLET LIGHT, e.g. USING PHOTOVOLTAIC [PV] MODULES
- H02S40/00—Components or accessories in combination with PV modules, not provided for in groups H02S10/00 - H02S30/00
- H02S40/20—Optical components
- H02S40/22—Light-reflecting or light-concentrating means
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2002/00—Crystal-structural characteristics
- C01P2002/70—Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data
- C01P2002/72—Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data by d-values or two theta-values, e.g. as X-ray diagram
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2002/00—Crystal-structural characteristics
- C01P2002/80—Crystal-structural characteristics defined by measured data other than those specified in group C01P2002/70
- C01P2002/86—Crystal-structural characteristics defined by measured data other than those specified in group C01P2002/70 by NMR- or ESR-data
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/51—Particles with a specific particle size distribution
- C01P2004/52—Particles with a specific particle size distribution highly monodisperse size distribution
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/60—Particles characterised by their size
- C01P2004/64—Nanometer sized, i.e. from 1-100 nanometer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/22—Rheological behaviour as dispersion, e.g. viscosity, sedimentation stability
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/11—Deposition methods from solutions or suspensions
- C03C2218/113—Deposition methods from solutions or suspensions by sol-gel processes
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/52—PV systems with concentrators
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31678—Of metal
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Sustainable Development (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Geology (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Sustainable Energy (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
本发明涉及获得氟化镁(MgF2)溶胶溶液的方法,其包括下述步骤:提供非水性溶剂中的镁醇盐前体和添加1.85至2.05摩尔当量的非水性氢氟酸,其特征在于,反应在下述物质存在下进行:第二氟化镁前体,其选自挥发性强酸的盐所组成的组,比如镁的氯化物、溴化物、碘化物、硝酸盐或三氟甲烷磺酸盐,或催化剂量的挥发性强酸;和/或添加剂非氟化镁前体,其选自挥发性强酸的盐所组成的组,比如锂,锑,锡、钙、锶、钡、铝、硅、锆、钛或锌的氯化物、溴化物、碘化物、硝酸盐或三氟甲烷磺酸盐。本发明进一步涉及溶胶溶液,将本发明的溶胶溶液作为涂层应用至表面的方法以及由此获得的抗反射涂层。
Description
描述
本发明涉及由镁醇盐合成MgF2溶胶的方法,和制造包含MgF2作为光学活性组分的光学活性表面涂层的方法。本发明也包括涂布有本发明的表面涂层的太阳能板、建筑玻璃、光学系统和透镜。
在许多应用中,期望减少光反射,比如光伏和光热元件、建筑玻璃或光学元件。通过用光活性薄层涂布基底可减少穿过光学透明的基底(例如,玻璃)的可见光的反射,所述光活性薄层展示的折射率位于基底的折射率(在玻璃的情况下,nS~1.5)和空气的折射率(n空气=1)之间。理想的单层涂层材料的折射率为约nc~1.23,产生接近100%光学透明的系统(见图1)。
多层系统(干涉层,通常为高反射TiO2-膜和低反射SiO2-膜的交替层)是本领域已知的。它们需要高生产成本和复杂的制造方法。
抗反射(AR)氧化物单层是本领域已知的。具有最低折射率的氧化物材料是SiO2(nSiO2~1.46)。为了实现更低的n值,无需要向这种层引入孔隙。但是,需要高达大于50%的孔隙率以提供n=1.23的多孔层,导致这种层的低机械稳定性。
一些金属氟化物展示的折射率明显低于SiO2。氟化镁是研究最多的材料(nMgF2=1.38)。其他特性比如耐划伤性、机械稳定性、热稳定性和耐水解性对于比如玻璃或聚合物涂层的应用是重要的。
气相沉积方法,比如溅射可用于膜沉积。由此获得的薄层通常不显示明显的孔隙,产生与松散材料(bulk material)接近或一致的折射率。气相沉积的MgF2层受到金属与氟比例的非化学计量调整,导致点缺陷(“F-中心”)形成,从而使层的光学性质受损。蒸发方法可有助于克服该问题,但是,由于点缺陷形成,因此不利于大面积的沉积。在两种方法中,所引入的必要的孔隙率不足。
第一次描述了由基于金属三氟乙酸盐溶胶的液相沉积所产生的金属氟化物层(S.Fujihara,in Handbook of Sol-Gel Science and Technology(溶胶凝胶科学与技术手册),ed.S.Sakka,Kluwer,Boston,2005,vol.1,pp.203-224)。在第一步骤中,将金属氟化物三氟乙酸盐沉积在基底上,随后热分解,形成非常多孔的金属氟化物层。由于在该热分解过程中形成氟化氢和层厚度的剧烈收缩,因此调整这种层的参数是困难的。而且,涂布的基底以及装备可受到由蒸发的氟化氢气体造成的腐蚀。所得层的机械性能的不足是该技术的进一步缺点。
US 6,880,602B2(EP 1315005B1)给出在高温、高压下使乙酸镁或甲醇镁与水性氢氟酸在甲醇中反应来获得氟化镁的溶胶溶液的方法。当将该方法以技术规模使用时,存在明显的缺陷,比如需要高压分批反应和使用甲醇。
US 2011/0122497A1(EP 1791002A1)给出通过高压方法获得的MgF2溶胶,添加的SiO2-溶胶作为“粘合剂”,其形成光学和机械特性可接受的层。
适于涂布玻璃的透明的氟化镁基溶胶溶液迄今为止还未能从甲醇镁之外的醇盐获得。此外,甲醇盐仅仅在甲醇中可得,甲醇是具有与其毒性和工作场所安全性相关问题的溶剂。甲醇镁在乙醇或异丙醇中不可溶,因此阻挡了通向透明溶胶溶液的道路。乙醇镁虽然可以较低的价格购得,但不直接溶解在甲醇、乙醇或异丙醇中。
本发明目的是制备低折射率抗反射层,其克服了现有技术的缺点,尤其提供了由镁醇盐,尤其是甲醇镁或乙醇镁获得适于抗反射涂料的透明溶胶溶液的一般途径。通过独立权利要求所限定的方法、制品和涂料解决了该问题。
根据本发明的第一方面,提供一种获得氟化镁(MgF2)溶胶溶液的方法,其包括下述步骤:
a.以第一体积提供非水性溶剂中的镁醇盐(Mg(OR)2),和
b.以第二体积向所述镁醇盐添加1.85至2.05摩尔当量的无水氟化氢(HF),其特征在于,
c.反应在下述物质存在下进行:
i.第二氟化镁前体,其选自挥发性强酸的盐所组成的组,比如镁的氯化物、溴化物、碘化物、硝酸盐或三氟甲烷磺酸盐;和/或
ii.至少一种添加剂非氟化镁前体,其选自挥发性强酸的盐所组成的组,比如锂、锑、锡、钙、锶、钡、铝、硅、锆、钛和/或锌的氯化物、溴化物、碘化物、硝酸盐或三氟甲烷磺酸盐。
在一些实施方式中,所述反应在催化剂量的挥发性强酸存在下进行:
i.第二氟化镁前体,其选自挥发性强酸的盐所组成的组,比如镁的氯化物、溴化物、碘化物、硝酸盐或三氟甲烷磺酸盐;和/或
ii.至少一种添加剂非氟化镁前体,其选自挥发性强酸的盐所组成的组,比如锂、锑、锡、钙、锶、钡、铝、硅、锆、钛和/或锌的氯化物、溴化物、碘化物、硝酸盐或三氟甲烷磺酸盐。
在一些实施方式中,镁醇盐是甲醇镁(Mg(OMe)2)、乙醇镁(Mg(OEt)2)、丙醇镁(Mg(OPr)2)或丁醇镁(Mg(OBu)2),尤其是乙醇镁和甲醇镁。
在一些实施方式中,镁醇盐是乙醇镁(Mg(OEt)2)、丙醇镁(Mg(OPr)2)或丁醇镁(Mg(OBu)2),尤其是乙醇镁。
根据本发明的第二方面,提供一种获得氟化镁(MgF2)溶胶溶液的方法,其包括下述步骤:
a.以第一体积提供非水性溶剂中的、尤其是乙醇或异丙醇中的乙醇镁(Mg(OEt)2)、丙醇镁(Mg(OPr)2)或丁醇镁(Mg(OBu)2),尤其是乙醇镁,和
b.以第二体积向所述镁醇盐添加1.85至2.05摩尔当量的无水氟化氢(HF),其特征在于,
c.反应在催化剂量的挥发性强酸存在下进行。
在一些实施方式中,获得氟化镁(MgF2)溶胶溶液的所述方法包括下述步骤:
a.以第一体提供非水性溶剂中的、尤其是乙醇或异丙醇中的乙醇镁,和
b.以第二体积向所述镁醇盐添加1.85至2.05摩尔当量的无水氟化氢(HF),其特征在于,
c.反应在催化剂量的挥发性强酸和下述物质存在下进行:
i.第二氟化镁前体,其选自挥发性强酸的盐所组成的组,比如镁的氯化物、溴化物、碘化物、硝酸盐或三氟甲烷磺酸盐的盐,和/或
ii.至少一种添加剂非氟化镁前体,其选自挥发性强酸的盐所组成的组,比如锂、锑、锡、钙、锶、钡、铝、硅、锆、钛或锌的氯化物、溴化物、碘化物、硝酸盐或三氟甲烷磺酸盐的盐。
如果没有另外指出,下述实施方式和描述指本发明的第一和第二方面。
本发明人惊讶地发现向Mg-醇盐溶剂体系添加第二氟化镁前体和/或添加剂非氟化镁前体利于溶胶反应和改善从所得溶胶获得的涂层的光学和机械特性。源自其的涂层显示出提高的非晶态和孔隙率。
如本文所使用,术语“第二氟化镁前体”(也称为“第二镁前体”)指氟化反应中存在的附加的镁化合物。取决于反应条件,该化合物可以完全氟化成氟化镁、部分氟化成氟化镁或根本不氟化成氟化镁。
如本文所使用,术语“非氟化镁前体”(也称为非镁前体)指氟化反应中存在的附加的金属化合物。取决于反应条件,该化合物可以完全氟化成氟化镁、部分氟化成氟化镁或根本不氟化成氟化镁。
第二氟化镁前体和非氟化镁前体都以某一量附加添加至氟化反应中存在的镁醇盐中。二者也称为“添加剂”、“金属添加剂”或“添加剂前体”。
在一些实施方式中,除了之前提到的镁添加剂化合物,还以某些量存在进一步的金属添加剂化合物(见下面讨论)。在一些实施方式中,除了之前提到的镁添加剂化合物,还存在进一步的镁添加剂化合物。在一些实施方式中,存在两种或更多种金属添加剂化合物(见下面讨论)。在一些实施方式中,存在两种或更多种金属添加剂化合物和两种或更多种镁添加剂化合物。但是,镁添加剂(一种或多种)和进一步金属添加剂(一种或多种)的摩尔比之和不超过0.2摩尔,该量以相对于第一镁前体的每摩尔镁计算。
在一些实施方式中,挥发性强酸的盐选自氯化物、溴化物、碘化物、硝酸盐或三氟甲烷磺酸盐。
第二氟化镁前体的添加:
通过添加上面提到的添加剂(一种或多种)而赋予的优势背后的化学原理似乎是在氟催化溶胶-凝胶条件下裂解不能够被HF攻击的Mg-O-Mg-键。向镁醇盐的浑浊悬浮液添加少量强酸比如HCl的金属盐,例如MgCl2、MgBr2、MgI2或Mg(NO3)2(1份氯化物/卤化物/硝酸盐对应10-40份MgOR2,或1份氯化物/卤化物/硝酸盐对应5-20份MgOR2),使得在HF-添加之后形成透明醇盐溶液。
工业镁醇盐总是水解至某一程度,导致材料中存在Mg-O-Mg-单元。这些Mg-O-Mg单元在反应条件下(无水溶剂中)不与HF反应,因此阻碍形成透明MgF2溶胶。不希望被理论限制,本发明人认为当向醇盐和氯化物的混合物添加HF后,HF优选与氯化物(或另一强酸的盐)反应,使得释放HCl(或其他强酸)。HCl或其他酸然后破坏Mg-O-Mg-单元。结果,可发生完全反应,使得形成透明MgF2溶胶。
在一些实施方式中,第二氟化镁前体的摩尔量是1%、2%、3%、4%、5%、6%、7%、8%、9%或10%。
在一些实施方式中,相对于镁醇盐,第二镁前体(也称为金属添加剂前体)以下述的量存在
-0.2摩尔(1:5)至0.001摩尔(1:1000)每摩尔镁,
-0.2摩尔(1:5)至0.01摩尔(1:100)每摩尔镁,
-0.2摩尔(1:5)至0.04摩尔(1:25)每摩尔镁,
-0.2摩尔(1:5)至0.08摩尔(1:12.5)每摩尔镁,
-0.1摩尔(1:10)至0.01摩尔(1:100)每摩尔镁,
-0.1摩尔(1:10)至0.04摩尔(1:25)每摩尔镁,或
-0.01摩尔(1:100)至0.04摩尔(1:25)每摩尔镁。
在一些实施方式中,第二氟化镁前体选自氯化物、溴化物、碘化物、硝酸盐或三氟甲烷磺酸盐所组成的组,尤其选自氯化物或硝酸盐,更尤其选自氯化物。
在一些实施方式中,除了之前提到的镁添加剂化合物,还以某些量存在进一步的金属添加剂化合物(见下面讨论)。但是,镁添加剂和进一步的金属添加剂的摩尔比率之和不超过0.2摩尔,该量以相对于第一镁前体的每摩尔镁计算。
在一些实施方式中,第二氟化镁前体是MgCl2。在一种实施方式中,相对于镁醇盐的量,MgCl2的摩尔量是1%、2%、3%、4%、5%、6%、7%、8%、9%或10%。
在一些实施方式中,通过添加催化剂量、比如1%、2%、3%、4%、5%、6%、7%、8%、9%或10%的挥发性强酸比如HCl-气体或浓缩的盐酸获得相同的结果(在添加水中浓酸的情况下,必须考虑反应中水含量的限制,见下)。可采用不同的挥发性酸代替HCl,比如HBr、HI、HNO3等。挥发性的要求是基于随后形成光层时使用的氟化物溶胶溶液。酸的挥发性确保酸容易被去除并且不影响层的光学、机械或化学特性。
在一些实施方式中,向第一体积或第二体积添加三氟乙酸(TFA)。少量的TFA的使用导致更短的搅拌时间。通过使用TFA,溶胶溶液更快透明。不希望被理论限制,发明人认为,中间产生附聚产物中包含少量HF的附聚产物。因此,在第一阶段反应中一部分的镁前体仍未与HF反应。当HF扩散进入附聚产物并且与剩余的镁前体反应时,发生与HF的完全反应,其产生透明溶胶溶液。通过添加少量的TFA,TFA可与剩余的镁前体反应,产生透明溶胶溶液。TFA-镁-中间体可通过加热(如稍后描述)转化成MgF2。如果附加使用金属添加剂(与仅为镁前体的反应相比),甚至需要更少的TFA就可在合理的时间内获得透明溶胶溶液,。
镁盐(溴化物、碘化物、硝酸盐等)提供了原本不可溶的醇盐以类似程度解离的优势,同时避免了处理液体酸或它们各自气体的技术缺陷。
添加剂非氟化镁前体的添加:
也可使用镁之外的金属的氯化物、溴化物、碘化物或合适的强酸盐,比如但不限于锂、锑、锡、钙、锶、钡、铝、硅、钛、锆或锌,使得溶胶溶液的稳定性和所得层的机械和光学性能产生附加的协同效应。
在一些实施方式中,第一体积中存在添加剂非氟化镁前体,其选自挥发性强酸的盐,尤其选自锂、锑、锡、钙、锶、钡、铝、硅、锆、钛或锌的氯化物、溴化物、碘化物、硝酸盐或三氟甲烷磺酸盐。
在一些实施方式中,在步骤b(添加第二体积)之后添加添加剂非氟化镁前体,其选自挥发性强酸的盐,尤其选自锂、锑、锡、钙、锶、钡、铝、硅、锆、钛或锌的氯化物、溴化物、碘化物、硝酸盐或三氟甲烷磺酸盐。
这些添加剂所赋予的主要优势是溶胶的较快透明、更好的稳定性以抵抗凝胶化和由这种溶胶获得的层的改善的机械和热稳定性。
在一些实施方式中,非氟化镁前体的金属是Li+、Ca2+、Sr2+、Ba2+、Sn2+、Zn2+、Al3+、Si4 +、Ti4+、Zr4+、Sn4+、Sb3+或Sb5+,尤其Li+、Ca2+、Ti4+、Al3+或Si4+。
在一些实施方式中,至少一种添加剂非镁前体是氯化物或硝酸盐,尤其是氯化物。
在一些实施方式中,至少一种添加剂非镁前体是锂、锑、锡、钙、锶、钡、铝、硅、锆、钛或锌,尤其是锂、钙、硅、钛或铝,更尤其是钙的氯化物、溴化物或硝酸盐。在一些实施方式中,至少一种添加剂非镁前体是锂、钙、硅、钛或铝的氯化物。
在一些实施方式中,相对于镁醇盐,非镁前体(也称为金属添加剂前体)以下述量存在:
-0.2摩尔(1:5)至0.001摩尔(1:1000)每摩尔镁,
-0.2摩尔(1:5)至0.01摩尔(1:100)每摩尔镁,
-0.2摩尔(1:5)至0.04摩尔(1:25)每摩尔镁,
-0.2摩尔(1:5)至0.08摩尔(1:12.5)每摩尔镁,
-0.1摩尔(1:10)至0.01摩尔(1:100)每摩尔镁,
-0.1摩尔(1:10)至0.04摩尔(1:25)每摩尔镁,或
-0.01摩尔(1:100)至0.04摩尔(1:25)每摩尔镁。
在一些实施方式中,添加剂非氟化镁前体的量是1%、2%、3%、4%、5%、6%、7%、8%、9%、10%、12%、14%、16%、18%或20%的镁醇盐,以摩尔当量测量。
这些添加剂所赋予的主要优势是溶胶的快速透明、更好的稳定性以抵抗凝胶化和由这种溶胶获得的层的改善的机械和热稳定性。
在一些实施方式中,添加剂非氟化镁前体是CaCl2。在一个实施方式中,相对于镁醇盐的量,CaCl2的摩尔量是1%、2%、3%、4%、5%、6%、7%、8%、9%、10%、12%、14%、16%、18%或20%。
在一些实施方式中,第二金属氟化物前体是Ca2+、Sr2+、Ba2+、Al3+、Si4+、Ti4+、Zr4+或Zn2+。
在第二氟化镁前体和/或非氟化镁前体存在下,通过使有机无水溶剂如醇类、多元醇类、醚类、酯类和其混合物中的合适的镁醇盐的溶液,比如但不限于甲醇镁(甲醇化物)、乙醇镁(乙醇化物)或丙醇镁与无水氟化氢(HF)反应来合成本发明的MgF2溶胶。以气态或液体形式或如上述作为溶剂中的溶液提供HF。在一个实施方式中,非水性溶剂是乙醇或异丙醇,尤其是乙醇。
在一个实施方式中,非水性溶剂是乙醇或异丙醇,尤其是乙醇,并且前体是乙醇镁。
二氧化碳的添加:
另外,可向反应添加二氧化碳,进一步改善醇盐前体的溶解度和所得溶胶溶液的稳定性。再次,不希望被理论限制,本发明人认为使用二氧化碳的惊人的优势源自下述事实:添加CO2至悬浮液,尤其至醇悬浮液,使得酸性气体CO2与碱性Mg-O-键反应,使得部分形成可配置为烷基碳酸镁类型的中间体,其在本发明的情况下是可溶性的,尤其在醇类中。
相同的机制也适用于完整的(intact)镁醇盐,在那些情况下,醇盐不溶于各自溶剂。该配对的一个例子是乙醇中的乙醇镁。结果,不溶解的乙醇镁不仅仅转化成可溶性中间前体而且也通过形成上面提到的烷基碳酸盐而激活,从而与HF反应形成透明MgF2溶胶。
任何可想到的添加CO2的方式是可能的:在一些实施方式中,CO2作为气体添加。在一些实施方式中,CO2作为固体(干冰)添加。在一些实施方式中,添加CO2然后添加HF。在一些实施方式中,添加CO2然后添加HF并且在添加HF的同时继续添加CO2。
在CO2存在下,反应温度可在下述范围内改变:-60℃至至少+50℃。在其中任何情况下,均可获得镁醇盐,尤其是乙醇镁的透明溶液。根据不同的条件,悬浮液透明的时间不同。CO2含量可具有大的变动范围,例如相对于乙醇为1至7质量%的CO2,或2至4%。
在一些实施方式中,在添加包含无水氟化氢的第二体积之前,即在添加HF之前,使气态二氧化碳通过第一体积。在一个实施方式中,调整二氧化碳的量以使第一体积达到1%至5%(w/w)的CO2含量,尤其达到3%(w/w)的CO2含量。在一个实施方式中,调整二氧化碳的量以使第一体积达到1%至4%(w/w)的CO2含量。
在一些实施方式中,二氧化碳以1至4Vol%的范围在-60℃至+50℃的温度间隔下添加至乙醇中的乙醇镁的分散体。在一些实施方式中,选择的温度在10℃至25℃之间。在一些实施方式中,二氧化碳以1%至5%(w/w),尤其3%(w/w)的范围在-60℃至+50℃的温度间隔下添加至乙醇中的乙醇镁的分散体。在一些实施方式中,选择的温度在10℃至25℃之间。
在一些实施方式中,所述镁醇盐部分水解,包含Mg-O-Mg键。在一些实施方式中,所述镁醇盐是工业级镁醇盐。在一些实施方式中,所述镁醇盐是工业级乙醇镁。
在二氧化碳、第二氟化镁前体和/或非氟化镁前体存在下,通过使有机无水溶剂如醇类、多元醇类、醚类、酯类和其混合物中的合适的镁醇盐的溶液,比如但不限于甲醇镁(甲醇化物)、乙醇镁(乙醇化物)或丙醇镁与无水氟化氢(HF)反应合成本发明的MgF2溶胶。如上述,以气态或液体形式或作为溶剂中的溶液提供HF。
根据本发明的方法与本领域已知的方法不同在于小心控制反应体积的水含量(即,析出物和其溶剂的水含量,添加的HF的水含量,和来自反应和下游进一步反应的水量,例如,来自添加剂配体和溶剂之间的反应。
在一些实施方式中,镁醇盐是甲醇镁或乙醇镁,并且反应溶剂是乙醇。其中,终溶胶溶液的水含量由溶剂的水含量、镁醇盐的水含量和HF溶液的水含量决定(如果使用溶液,则根据实践需要调整HF的量至精确的化学计量当量)。
根据本发明的方法不依赖于完全没有水。用于制备反应的第一和第二体积(在溶液中应用HF的实施方式中)的溶剂不必是干燥的。实践中,使用工业级的“无水”溶剂已足够,其水含量等于或小于0.2%(w/w)。使用购得的镁醇盐比如甲醇镁或乙醇镁。
在一些实施方式中,溶胶溶液的水含量等于或小于2.8、2.7、2.6、2.5、2.4、2.3、2.2、2.1、2.0、1.9、1.8、1.7、1.6、1.5、1.4、1.3、1.2、1.1、1.0、0.9、0.8、0.7、0.6、0.5、0.4、0.3、0.2或0.1摩尔水每摩尔镁。完成本发明的实验中观察到的一个界限是反应必须不超过3%(体积)的水含量。在一些实施方式中,第一体积的水含量等于或小于3%、2.75%、2.5%、2.25%、2.0%、1.75%、1.5%、1.25%、1.0%、0.75%、0.5%、0.25%或0.1%。
在一些实施方式中,强烈搅拌进行步骤b.。在一些实施方式中,搅拌速度超过100rpm、150rpm、200rpm、250rpm或300rpm。在一些实施方式中,搅拌速度范围是100rpm至1000rpm,尤其是600rpm至1000rpm。在一些实施方式中,搅拌速度超过100rpm、200rpm、300rpm、400rpm、500rpm、600rpm、700rpm、800rpm、900rpm或1000rpm,尤其搅拌速度超过600rpm、700rpm、800rpm、900rpm或1000rpm。
在一些实施方式中,将向第一体积添加第二体积而得的反应体积搅拌2至10天,尤其2、3、4、5、6、7、8、9或10天。在一些实施方式中,将向第一体积添加第二体积而得的反应体积搅拌8至20小时,尤其8、12、16或20小时或1至21天,尤其1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、18、19、20、21天。搅拌时间取决于使用的反应物和条件,其中,在实现透明溶胶溶液之后停止搅拌。
根据本发明的方法的一个重要的参数是施加的HF的量,理想的量是精确的化学计量当量(2HF/Mg)。较少量的HF改善溶胶形成,但是导致损伤所得涂层的机械和光学性能。较大量的HF导致较不稳定的溶胶或溶胶形成困难。一般而言,超过2摩尔当量的HF的量倾向于利于结晶而不是纳米分散相,从而导致较大的颗粒尺寸并最终沉淀。
在一些实施方式中,采用的HF的量范围是1.9摩尔至2.1摩尔HF每摩尔Mg。在一些实施方式中,采用的HF的量范围是1.95摩尔至2.05摩尔HF每摩尔Mg。在一些实施方式中,采用的HF的量范围是1.98摩尔至2.02摩尔HF每摩尔Mg。在一些实施方式中,采用的HF的量范围是1.99摩尔至2.01摩尔HF每摩尔Mg。
对于使用添加剂非氟化镁前体XBn的实施方式,其中以提供用于光学表面涂层的溶胶溶液为目的,通过反应
XBn+n HF->XFn+n BH
形成的酸BH必须从涂层中去除,以不使其光学性能劣化。酸的去除容易通过干燥或第一热处理涂层期间的蒸发实现。因此,对于本发明的实施方式,去除由镁前体形成的酸是必要的,所述镁前体是某种酸的镁盐,所述酸在所采用的干燥和调和条件下是挥发性的,例如某种酸的盐的前体,所述酸在30℃、40℃、50℃、60℃、70℃、80℃、90℃、100℃、125℃、150℃、175℃、200℃、225℃、250℃、275℃或300℃的温度下是挥发性的(在环境压力下具有使基本上所有的(>99%)酸从0.5μm光学涂层去除的蒸汽压)。
在一些实施方式中,可使用范围为约100℃至500℃,尤其为约250℃至500℃的温度。在一些实施方式中,可使用范围为约400℃至500℃的温度。在一些实施方式中,使用范围为约100℃至700℃的温度。
在一些实施方式中,步骤b的氟化中存在附加量的氟化氢(nadHF),其根据下式计算:
nadHF=(nM*Χ添加剂)*Ox*A,其中
-nM是所述镁醇盐的摩尔量,
-Χ添加剂是所述第二氟化镁前体或所述非氟化镁前体的摩尔百分数,
其中,
-Χ添加剂范围是1%至20%,和
-Ox是所述第二氟化镁前体或所述非氟化镁前体的金属的氧化态,和
-A选自0≤A≤1。
在一些实施方式中,氟化镁前体和非氟化镁前体可存在于氟化反应中。在一些实施方式中,两种非氟化镁前体可存在于氟化反应中。如上所讨论为每个附加前体计算附加HF的量。例如如果氯化镁和氯化钙存在于反应中,则分别为氯化镁和氯化钙计算HF的附加量。
在一些实施方式中,两种非氟化镁前体可存在于氟化反应中,其中两种非氟化镁前体之一选自挥发性强酸的盐,比如但不限于氯化物、溴化物、碘化物、硝酸盐或三氟甲烷磺酸盐,尤其氯化物或硝酸盐,并且另一非氟化镁前体选自醇化物(RO-)、羧酸盐(RCOO-)、碳酸盐、烷氧基碳酸盐、氢氧化物或选自挥发性强酸的盐的盐,比如但不限于氯化物、溴化物、碘化物、硝酸盐或三氟甲烷磺酸盐,尤其选自醇化物、硝酸盐或氯化物。
在一些实施方式中,第二氟化镁前体和非氟化镁前体可存在于氟化反应中,其中第二氟化镁前体选自挥发性强酸的盐,比如但不限于氯化物、溴化物、碘化物、硝酸盐或三氟甲烷磺酸盐,尤其氯化物或硝酸盐,并且非氟化镁前体选自醇化物(RO-)、羧酸盐(RCOO-)、碳酸盐、烷氧基碳酸盐、氢氧化物或选自挥发性强酸的盐的盐,比如但不限于氯化物、溴化物、碘化物、硝酸盐或三氟甲烷磺酸盐,尤其选自醇化物、硝酸盐或氯化物。
在一些实施方式中,第二氟化镁前体和进一步氟化镁前体可存在于氟化反应中,其中第二氟化镁前体选自挥发性强酸的盐,比如但不限于氯化物、溴化物、碘化物、硝酸盐或三氟甲烷磺酸盐,尤其氯化物或硝酸盐,并且进一步氟化镁前体选自醇化物(RO-)、羧酸盐(RCOO-)、碳酸盐、烷氧基碳酸盐、氢氧化物或选自挥发性强酸的盐的盐,比如但不限于氯化物、溴化物、碘化物、硝酸盐或三氟甲烷磺酸盐尤其选自醇化物、硝酸盐或氯化物,尤其选自醇化物、硝酸盐或氯化物。
对于利用非氟化镁前体的实施方式,所得添加剂氟化物颗粒:在本发明人能够表征这些相的程度范围内,可能不是镁和添加剂的复盐,而是在溶胶中以单个组分的混合物形式存在的不同物质(例如MgF2和MFX添加剂)。在一些实施方式中,添加剂氟化物颗粒的直径尺寸小于(<)100nm、<75nm、<50nm、<40nm、<30nm、<20nm或<10nm。但是,取决于反应条件,所得添加剂氟化物颗粒可以是镁和添加剂的复盐,其在溶胶中作为复盐组分的混合物存在。
在一些实施方式中,将1%、2%、3%、4%、5%、6%、7%、8%或10%(mol当量)量的四乙氧基硅烷(TEOS)或四甲氧基硅烷(TMOS)添加至镁前体溶液或悬浮液,从而与没有添加剂相比更快形成溶胶。
添加所述非氟化镁前体促使主要形成非晶的纳米MgF2颗粒,其甚至小于没有非氟化镁前体而获得的那些颗粒;因此导致改进层的结构排序,从而改善机械强度。基于19F-NMR光谱(参考图2),可获得这样合成的MgF2颗粒的特征图案,因此与根据不同合成方法获得的MgF2材料不同。
如果使用金属Mn+-添加剂(源自第二镁前体或非镁前体),相对于第一Mg2+-前体的HF-化学计量(nHF/nMg2+)可在1.6至2.2之间变化。在一些实施方式中,HF与镁前体的化学计量比(nHF/nMg2+)可在1.85至2.05之间,尤其在1.9至2.05之间变化。在一些实施方式中,参考第一镁前体的镁含量,HF化学计量固定至精确的2.0。只要使用化学计量量的HF(nHF/nMg2+=2),其他MFn(Mn+=Li+、Mg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+、Sn2+、Zn2+、Al3+、Si4+、Ti4+、Zr4+、Sn4+、Sb3+或Sb5+)的形成被抑制,如NMR所证明。在一些实施方式中,参考镁和添加剂的含量,HF化学计量将固定至精确的2.0,其中,根据添加剂的氧化态计算可与添加剂反应的氟化物的含量。
因此,对其中存在根据上述定义的镁前体和添加剂并且就第一镁前体而言使用2当量HF/镁的精确化学计量的实施方式,仅仅第一镁前体被氟化。术语“仅仅镁前体被氟化”指基本上定量转化镁前体。在一些实施方式中,可能微量的镁前体未氟化,但微量的添加剂可以部分或全部氟化,这可能是由于溶胶反应中的平衡。但是,这些微量的范围相对于MgF2为约1至2mol%。
在一些实施方式中使用2当量HF,并且向溶胶反应添加附加的金属添加剂而不进一步添加HF。这使得金属添加剂与剩余未反应的HF反应,如上所讨论,产生一些部分氟化的金属添加剂同时从反应混合物去除未反应的HF。也注意,一些使用的金属添加剂(比如Si、Zr、Ti、Al或Sn添加剂)不产生完全氟化的化合物-无关施用的HF的(化学计量)量。
在一些实施方式中,使用镁前体和金属添加剂,并且基本上所有的镁和基本上全部的添加剂被氟化。因此,在这种实施方式中,参考镁的含量和金属添加剂的附加量,HF化学计量固定至精确的2.0,其中根据添加剂的氧化态和反应中采用的添加剂的量计算可与添加剂反应的附加量的氟化物。例如,如果使用200mmol ZnCl2(作为金属添加剂)和1mol镁前体,HF的量是2.4摩尔。在添加HF溶液之前添加金属添加剂化合物使得完全氟化镁前体和金属添加剂化合物。在一些实施方式中,在如此形成的溶胶中可残留微量的非氟化的化合物(反应中采用的1-2%的镁),如上所讨论。如果使用两个或更多个不同金属添加剂,适用类似的描述。在一些实施方式中,即使用如此固定的HF化学计量,也仅仅观察到部分氟化的添加剂化合物。
在一些实施方式中,使用镁前体和金属添加剂,并且基本上所有的镁和一些添加剂被氟化。因此,在这种实施方式中,HF化学计量固定至2.0,其参考:源自反应中采用的镁前体的镁的含量;和HF的附加量,其通过使添加剂的氧化态、添加剂的量和添加剂氟化的摩尔百分数相乘而计算。因此,根据上述1mol镁前体和200mmol锌的例子,可选择的HF的化学计量的范围是2.0mol HF(基本上添加剂不发生氟化)至2.4mol HF(基本上所有的添加剂被氟化)。如果反应的目标是仅仅部分氟化添加剂(例如参考上面提到的例子,约50%),那么采用2.2mol HF。取决于反应中存在的添加剂的量,相应地计算用于潜在地完全氟化的HF的量。例如,如果使用100mmol ZnCl2和1mol的镁前体,可选择的HF的量的范围是2.0至2.2摩尔HF。同样适用于氧化态。较低的氧化态意味着需要较少量的HF用于完全氟化,其中,较高的氧化态意味着较大量的HF。例如,如果使用Li+-添加剂(200mmol)(代替上面提到的ZnCl2),HF的范围在2.0和2.2mol HF之间,但是,如果使用Ti4+-添加剂(200mmol),HF的范围在2.0和2.8mol HF之间。类似的描述适用于两个或更多个添加剂。
在一些实施方式中,尤其如果存在氯化物,则即使使用化学计量数量的HF,所使用的HF也不会全部与镁前体反应。在这种情况下,可使用进一步金属添加剂,其与未反应的HF反应,产生一些部分氟化的添加剂化合物,同时从溶胶反应去除残留的HF。不希望被该理论限制,本发明人认为与根据本发明不包括或包括较少未反应的HF的其他溶胶相比,未反应的HF可造成溶胶的湿润性变差,其通常在数天之后出现。
因此,参考源自反应中使用的镁前体(nMg)中的镁含量和HF的附加量(nadHF),根据下述式,HF化学计量可固定至2.0:
nHF=2*nMg+nadHF。
可根据添加剂的氧化态(Ox)和添加剂的量和所述添加剂所选择的氟化程度(A)计算添加剂的HF化学计量。可根据下述式计算附加的HF的量(nadHF):
nadHF=(nMg*Χ添加剂)*Ox*A,
其中nMg是镁前体的量,Χ添加剂是与所述第一镁前体的所述摩尔量相关的所述金属添加剂前体(第二镁前体或非镁前体)的摩尔百分数,Ox是添加剂的金属的氧化态以及A选自0≤A≤1。
在一些实施方式中,A是0,产生基本上未氟化的金属添加剂化合物并且不应用附加的HF。在一些实施方式中,在化学计量数量的HF与镁前体未完全反应的情况下,A是0并且不应用附加的HF,产生未氟化的和部分氟化的金属添加剂化合物,因此,去除或“中和”未反应量的HF。在一些实施方式中,A是1,产生基本上完全氟化的金属添加剂化合物。在一些实施方式中,A是0<A<1,产生部分氟化的金属添加剂化合物。
取决于使用的添加剂的金属,所述金属的氧化态,施加的HF的量和反应条件,添加剂可被完全氟化,产生MFX添加剂。可选地,部分添加剂可被完全氟化,产生添加剂的MFX/MBX混合物以及部分氟化的添加剂MFmBx-m或其混合物(例如MFmBx-m/MBX或MFX/MFmBx-m/MBX),其中x等于金属的氧化态和m等于或小于氧化态,B选自包含醇化物(RO-)、羧酸盐(RCOO-)、碳酸盐、烷氧基碳酸盐、氢氧化物或选自挥发性强酸的盐的组,所述挥发性强酸的盐比如但不限于氯化物、溴化物、碘化物、硝酸盐或三氟甲烷磺酸盐,尤其醇化物、硝酸盐或氯化物。在一些实施方式中,B选自氯化物、甲醇化物、乙醇化物、丙醇化物、丁醇化物、氯化物或硝酸盐。部分氟化的添加剂MFmBx-m可包含相同的氟化的添加剂(例如仅仅一个残基被金属添加剂中的氟化物交换)以及不同氟化状态的部分氟化的添加剂(例如在一些添加剂颗粒中,一个残基被金属添加剂中的氟化物交换和在其他添加剂颗粒中,两个残基被交换或其他可能的组合)。如果使用镁添加剂,如上所讨论并且HF的量是化学计量(2当量HF)或更少的量(例如1.85至1.95当量HF),适用类似的讨论。
在一些实施方式中,金属添加剂化合物选自CaCl2、MgCl2、Ca(OEt)2、LiCl、C8H20O4Si、Ti(OiPr)4、Al(OiPr)3、AlCl3、TiCl4和/或SiCl4所组成的组。
当醇盐充分溶解在非水性溶剂中时,即当获得透明醇盐溶液时,通常获得具有在3和10nm之间的小MgF2颗粒的透明溶胶。从分散的前体体系开始通常不形成透明溶胶。不透明的(opaque)或不透明的(non-transparent)溶胶不产生高性能抗反射层。但是,已经发现分散的前体体系快速透明并且当采用如在之前段落中指示的添加剂前体时,产生真正纳米分散的溶胶溶液。
第一体积:
提供许多溶剂本身用于实施本发明。在一些实施方式中,非水性溶剂是醇比如但不限于甲醇、乙醇或异丙醇。在一些实施方式中,非水性溶剂是多元醇比如但不限于聚乙二醇。在一些实施方式中,非水性溶剂是醚比如但不限于二乙醚、甲基叔丁基醚或四氢呋喃。在一些实施方式中,非水性溶剂是酯。在一些实施方式中,非水性溶剂是任何前述溶剂的混合物。
对于意在提供工业级质量的实施方式,溶剂需要以低成本获得。因为甲醇有毒性,溶胶形成本身的处理和操作以及其下游在表面涂层中的应用需要另外的安全措施。对于大规模应用,本发明的方法的一些实施方式采用乙醇或异丙醇作为溶剂,尤其是乙醇。对于这种应用,优选其中乙醇或异丙醇可用作溶剂的本发明的方法的实施方式。根据本发明的方法提供了下述巨大优势:以高浓度提供在乙醇中尤其稳定的溶胶溶液。在使用乙醇或异丙醇作为溶剂的一些实施方式中,溶液的镁含量范围是约0.2mol/L至0.8mol/l,尤其是约0.2mol/L至0.6mol/L。在使用乙醇或异丙醇、尤其是乙醇作为溶剂的一些实施方式中,溶液的镁含量范围是约0.2mol/L至0.4mol/L。在一些实施方式中,镁含量是0.2mol/l、0.3mol/l、0.4mol/l、0.5mol/l、0.6mol/l、0.7mol/L或0.8mol/L。
在一些实施方式中,镁前体是甲醇镁。在一种实施方式中,非水性溶剂是乙醇或异丙醇。在一种实施方式中,非水性溶剂是乙醇或异丙醇和前体是乙醇镁。
利用添加剂的实施方式的一个重要的区别是下述事实:添加剂前体可在氟化步骤期间添加,即与镁醇盐前体一起添加。氟化步骤期间产生的无机酸使得溶胶溶液快速透明。在利用添加剂的一些实施方式中,添加剂前体可在第一镁前体的氟化步骤之后添加。在一些实施方式中,添加剂前体存在的量是0.2摩尔(1:5)至0.01摩尔(1:100)每摩尔镁醇盐。
根据本发明人的观察,在醇-醇化镁体系中,甲醇镁仅溶于甲醇,并且乙醇化物不产生适于在任何醇中产生氟化物溶胶的透明溶液。所以,本发明的方法为通常采用乙酸酯方法来获得用于涂层目的的MgF2溶胶溶液提供了可选方案。实际上该乙酸酯路径使用甲醇。相反,作为一个例子,本发明提供了促进使用乙醇和乙醇镁的方法,其使获得用于涂层的溶胶溶液方法实现了商业上和工业上重要的改善。
在一些实施方式中,第一体积中镁醇盐的浓度是0.1mol/l、0.2mol/l、0.3mol/l、0.4mol/l、0.5mol/l、0.6mol/l、0.7mol/l、0.8mol/l、0.9mol/l、1.0mol/l、1.2mol/l、1.3mol/l、1.4mol/l或1.5mol/l。
第二体积:
在一些实施方式中,HF以液体溶液形式添加。在一些实施方式中,HF溶液的浓度为0.5mol/l、1mol/l、2mol/l、3mol/l、4mol/l、5mol/l、6mol/l、8mol/l、10mol/l、15mol/l、20mol/l、25mol/l或30mol/l。
在一些实施方式中,所需的HF在5min至60min内以剧烈搅拌同时保持35℃或低于35℃的温度条件添加于溶液。
在一些实施方式中,HF作为气体添加。
根据本发明的第二方面,提供了可通过根据本发明的第一方面或第二方面的方法获得的氟化镁溶胶溶液。作为本发明的第二方面的可选方案,提供了包含非水性溶剂中的MgF2颗粒的氟化镁溶胶溶液。本发明的氟化镁溶胶溶液特征在于颗粒直径尺寸小于(<)100nm、<75nm、<50nm、<40nm、<30nm、<20nm或<10nm。在一些实施方式中,氟化镁溶胶溶液由颗粒尺寸范围是3至60nm的纳米级MgF2颗粒组成。在一些实施方式中,颗粒尺寸范围是3至20nm,尤其3至15。在一些实施方式中,颗粒尺寸范围是3至10nm。
所得添加剂氟化物颗粒可能不是镁和添加剂的复盐,而是在溶胶中以单个组分的混合物形式存在的不同物质(分别是MgF2和MFx添加剂或MgF2和MBx添加剂)。在一些实施方式中,添加剂氟化物颗粒的直径尺寸小于(<)50nm、<40nm、<30nm、<20nm、<10nm、<5nm、<4nm或<3nm。在一些实施方式中,添加剂氟化物颗粒的颗粒直径尺寸小于(<)20nm、15nm、<10nm、<7nm、<5nm、<4nm或<3nm。如果使用的金属组分大于两种,也同样适用。
取决于反应条件,所得添加剂氟化物颗粒可以是镁和添加剂的复盐,在溶胶中以复盐组分的混合物形式存在(分别是MgF2/MFx添加剂或MgF2/MBx或MFmBx-m添加剂,如上所讨论)。在一些实施方式中,复盐组分颗粒的直径尺寸小于(<)50nm、<40nm、<30nm、<20nm、<10nm、<5nm、<4nm或<3nm。在一些实施方式中,复盐组分颗粒的颗粒直径尺寸小于(<)20nm、15nm、<10nm、<7nm、<5nm、<4nm或<3nm。如果使用的金属组分大于两种,产生多盐组分,其也同样适用。
在一些实施方式中,溶胶反应以上述参数形成单个组分颗粒和复(多)盐颗粒的混合物。
通过改变根据本发明第一或第二方面的方法的参数可调整颗粒尺寸。在20℃和30℃的温度下,缓慢添加HF(30至60分钟内)和非常高速搅拌(300rpm),有利于形成更小的颗粒。在一些实施方式中,采用约600至1000rpm的搅拌。更低温度或更缓慢搅拌通常有利于形成更大的颗粒。
在一些实施方式中,所述MgF2颗粒在非水性溶剂中小于10nm,并且溶胶包含直径小于50nm的添加剂颗粒。
可参考本发明的方法如上所讨论选择溶剂。
在一些实施方式中,非水性溶剂是甲醇、乙醇或异丙醇。在一些实施方式中,非水性溶剂是甲醇。在一些实施方式中,非水性溶剂是乙醇或异丙醇。在一些实施方式中,非水性溶剂是乙醇。
本发明的溶胶溶液特征在于存在通过HF与活性镁前体反应形成的分子物质。因此,从在添加二氧化碳之前存在Mg-O-Mg络合物的角度,烷氧基碳酸是溶胶溶液的特征组分。
从第二氟化镁前体存在于第一体积的角度,相应的酸,比如但不限于HCl、HBr或HI,存在于溶胶溶液中。如果存在非镁前体,可采用更宽范围的阴离子,产生不同的反应产物(对应酸)比如乙酸盐或乳酸盐。如果溶剂是醇,这些接着继续与溶剂反应,形成相应的酯。乙酸盐被很大程度上(几乎100%)酯化,而乳酸盐仅仅酯化约30%。
在一些实施方式中,本发明的氟化镁溶胶溶液特征在于溶液包含一定量的MgF2颗粒和附加的一定量的添加剂颗粒,其源自镁添加剂和/或金属添加剂(如上述),其以通式MFmBx-m为特征,其中Mn+选自Li+、Mg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+、Sn2+、Zn2+、Al3+、Si4+、Ti4+、Zr4+、Sn4+、Sb3 +或Sb5+所组成的组,B是M的阴离子配体,x等于金属M的氧化态和m等于或小于金属M的氧化态。在一些实施方式中,B选自挥发性强酸所组成的组,比如但不限于氯化物、溴化物、碘化物、硝酸盐或三氟甲烷磺酸盐。在一些实施方式中,B选自氯化物或硝酸盐,尤其氯化物。
在一些实施方式中,溶胶溶液基本上仅仅包含完全氟化的添加剂颗粒,其中基本上所有的配体B被替换为氟化物,换句话说,溶胶溶液的添加剂组分的特征在于式MFx,x等于金属M的氧化态。
在一些实施方式中,溶胶溶液基本上仅仅包含部分氟化的添加剂颗粒,其中一些但不是所有的配体B被替换为氟化物,换句话说,溶胶溶液的添加剂组分的特征在于式MFmBx-m,m范围是0<m<x。在一些这样的实施方式中,m是0.1x、0.2x、0.3x、0.4x、0.5x、0.6x、0.7x、0.8x或0.9x。在一些实施方式中,m范围是0<m<x,其中x是金属M的氧化态以及m和x是自然数。
在一些实施方式中,溶胶溶液也可包含一些未氟化的镁颗粒,如上所讨论。这种未氟化的添加剂颗粒的一个例子是MgCl2,其是由于HF与MgCl2前体的不完全反应(任选地,如上述可采用通过添加金属添加剂“中和”剩余的HF)。这种未氟化的镁前体的量相对于使用的镁前体是约1至2%。另外,可通过使用小于化学计量数量的HF评估未氟化的镁前体的量。
在一些实施方式中,溶胶溶液基本上仅仅包含非氟化的添加剂颗粒,其中基本上没有配体B被替换为氟化物,换句话说,溶胶溶液的添加剂组分的特征在于式MBx。
在一些实施方式中,溶胶溶液包含完全氟化的添加剂颗粒和/或部分氟化的添加剂颗粒和/或非氟化的颗粒的组合。另外,可存在部分氟化的第一镁前体颗粒和非氟化的第一镁前体颗粒。
在一些实施方式中,溶胶溶液包含MgF2颗粒和MBx金属添加剂颗粒,其中M选自Li+、Mg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+、Sn2+、Zn2+、Al3+、Si4+、Ti4+、Zr4+、Sn4+、Sb3+或Sb5+所组成的组,B是阴离子配体,并且x等于金属M的氧化态。B可选自挥发性强酸的盐所组成的组,比如但不限于氯化物、溴化物、碘化物、硝酸盐或三氟甲烷磺酸盐,尤其是氯化物或硝酸盐。在一些实施方式中,Mn+选自包含Li+、Mg2+、Ca2+、Al3+、Si4+或Ti4+的组。
在一些实施方式中,溶胶溶液包含MgF2颗粒和MFx金属添加剂颗粒,其中M选自Li+、Mg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+、Sn2+、Zn2+、Al3+、Si4+、Ti4+、Zr4+、Sn4+、Sb3+或Sb5+所组成的组,B是阴离子配体,并且x等于金属M的氧化态。在一些实施方式中,Mn+选自包含Li+、Mg2+、Ca2+、Al3+、Si4+或Ti4+的组。
在一些实施方式中,本发明的氟化镁溶胶溶液包含MgF2颗粒和一定量的式MFmBx-m的添加剂颗粒,其中,Mn+选自Li+、Mg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+、Sn2+、Zn2+、Al3+、Si4+、Ti4+、Zr4+、Sn4+、Sb3+或Sb5+的组,其中,x等于M的氧化态,m等于或小于x,B选自挥发性强酸的盐所组成的组,比如但不限于氯化物、溴化物、碘化物、硝酸盐或三氟甲烷磺酸盐,尤其氯化物或硝酸盐。在一些实施方式中,Mn+选自包含Li+、Mg2+、Ca2+、Al3+、Si4+或Ti4+的组。
可通过如上述方法,不使用附加量的HF、使用附加量的HF(nadHF)或使用相对于采用的镁前体的化学计量数量的HF(见上面关于基本上定量转化的添加剂的讨论)提供包含完全氟化的、部分氟化的或非氟化的添加剂颗粒MFmBx-m的溶胶溶液。取决于采用的条件,溶胶溶液可仅仅包含MBx、MFx或MFmBx-m添加剂以及其混合物。(例如MFmBx-m/MBx或MFx/MFmBx-m/MBx)。
在具体应用需要的情况下,通过将进一步Mn+-添加剂(非限制性例子Mn+=Ca2+、Sr2 +、Ba2+、Zn2+、Al3+和Si4+)直接引入至Mg2+-前体溶液,可调整MgF2层关于机械和/或光学性能的特性。令人惊讶地,与后添加例如CaF2-、SrF2-、AlF3-或SiO2-颗粒至合成的纯MgF2溶胶相比,如果将这些前体添加至Mg2+-前体溶液,然后添加需要的化学计量数量的HF,溶胶更快速透明并且得到的MgF2层显示出明显的改善和明显不同的性质。在一些实施方式中,本发明的氟化镁溶胶溶液包含一定量的添加剂颗粒,其选自包含CaF2、SrF2、BaF2、AlF3、SiF4、ZrF4、TiF4和/或ZnF2的组。在一些实施方式中,溶胶溶液包含MgF2颗粒和一定量的添加剂颗粒,其选自包含LiF、CaF2、SrF2、BaF2、SnF2、AlF3、SbF3、SbF5、ZrF4和/或ZnF2的组。在一些实施方式中,所述添加剂颗粒的量,相对于MgF2颗粒的量是1:5至1:500,其以添加剂相对于镁的摩尔当量测量。
发明人认为之前添加金属添加剂化合物-在添加需要的化学计量数量的HF之前-积极影响晶种和颗粒产生,使得非镁添加剂的更好分散。
在具体应用需要的情况下,通过上述方法,通过引入进一步金属添加剂(见前章节),可调整MgF2层有关它们机械和/或光学性能的特性。如果在添加需要的化学计量数量的HF和没有附加量的HF或附加量的HF(其相对于金属添加剂的量小于化学计量数量(见关于部分氟化的添加剂的讨论))之后,将这些金属添加剂化合物添加至镁前体,所得MgF2层与将HF添加至溶胶反应之前添加金属添加剂的溶液相比显示出显著的改善和明显不同的特性。因此,如果在添加需要的化学计量数量的HF之后添加金属添加剂,可获得甚至更好的结果。
不希望被该理论限制,本发明人认为这是由于更大量的游离电解质浓度和最终未反应的HF(如所讨论)与金属添加剂的反应,其使得颗粒在溶胶中稳定。
在一些实施方式中,根据本发明的第一或第二方面描述的方法获得溶胶溶液,其中金属添加剂在用HF氟化之后添加(根据镁前体的量计算)。在一些实施方式中,本发明的氟化镁溶胶溶液包含一定量的添加剂颗粒,其选自包含CaCl2、MgCl2、Ca(OEt)2,LiCl、C8H20O4Si、Ti(OiPr)4、Al(OiPr)3、AlCl3、TiCl4和/或SiCl4的组,或其部分氟化的颗粒。
在一些实施方式中,溶胶溶液中金属添加剂颗粒(源自非镁添加剂或第二镁添加剂,如上述)的所述量是1:5至1:100,以添加剂相对于镁前体的摩尔当量测量。因此,金属添加剂化合物存在的量是0.2摩尔(1:5)至0.01摩尔(1:100)每摩尔的镁前体。在一些实施方式中,金属添加剂化合物存在的量是0.2摩尔(1:5)至0.04摩尔(1:25)每摩尔的镁前体。在一些实施方式中,金属添加剂化合物存在的量是0.2摩尔(1:5)至0.08摩尔(1:12.5)每摩尔的镁前体。在一些实施方式中,金属添加剂化合物存在的量是0.1摩尔(1:10)至0.04摩尔(1:25)每摩尔的镁前体。在一些实施方式中,金属添加剂化合物存在的量是0.04摩尔(1:25)至0.01摩尔(1:100)每摩尔的镁前体。这也适用于基本上完全氟化的、部分氟化的或基本上未氟化的金属添加剂。
应理解,溶胶尤其可包含指定的化合物和指定量的这些化合物,如在关于获得镁溶胶的方法的实施方式中描述。
在一些实施方式中,所述添加剂颗粒的直径小于50nm。
在一些实施方式中,所述MgF2颗粒在非水性溶剂中小于10nm,并且所述溶胶包含直径小于50nm的添加剂颗粒。
在一些实施方式中,所述溶胶包含MgF2颗粒和添加剂颗粒的复盐,所述添加剂颗粒的直径小于50nm。
解决工业应用中的纳米颗粒溶胶溶液的重要的参数是溶液的浓度,更高的浓度允许使用者更多的选择。高浓度另外实现在其使用前更低的运输和储存溶液的成本。当与现有技术的溶胶溶液比较时,本发明的溶胶溶液显示在高浓度下明显更高的稳定性。
在一些实施方式中,本发明的氟化镁溶胶溶液的镁含量大于(>)0.2mol/l、0.4mol/l、0.5mol/l、0.6mol/l、0.7mol/l、0.8mol/l、0.9mol/l、1.0mol/l。
MgF2溶胶的浓度范围可以是0.05至1mol/l。在一些实施方式中,浓度在0.15和0.5mol/l之间。在一些实施方式中,本发明的氟化镁溶胶溶液的镁含量是0.6mol/L。在一些实施方式中,本发明使用乙醇或异丙醇,尤其是乙醇的氟化镁溶胶溶液的镁含量范围是约0.2mol/L至0.8mol/l,尤其是约0.2mol/L至0.6mol/L。在一些实施方式中,本发明使用乙醇或异丙醇的氟化镁溶胶溶液的镁含量范围是约0.2mol/L至0.8mol/l,尤其是0.2mol/L至0.4mol/L。
在一些实施方式中,溶胶溶液的动态粘度范围是1.0至8.0mPa s,尤其范围是约1.3至3.5mPa s。
在某些程度上,已经发现溶胶溶液的最大浓度取决于析出物组分。通过甲醇镁或乙醇镁在甲醇、乙醇或异丙醇中反应,获得一种非常稳定的溶胶,其中,可获得高达1mol/l的溶液并且在数月内储存而不丢失溶液明显的透明度。
在一些实施方式中,本发明的氟化镁溶胶溶液在室温下(20℃)稳定超过10周。
这种稳定性是有优势的,不仅仅因为溶胶溶液的胶凝作用(其通常是不可逆的)导致材料损失,而且也因为用于储存凝胶化的溶液的容器需要被清洁,其是费时和昂贵的工作。
根据本发明的第三方面,提供了涂布表面的方法,其包括下述步骤:
a.提供氟化镁溶胶溶液;
b.使表面与氟化镁溶胶溶液接触;
c.干燥所述表面;和
d.在第一热步骤中将所述表面暴露于范围15℃至500℃,尤其200至500℃的第一温度。
在一些实施方式中,提供了涂布表面的方法,其包括下述步骤:
a.提供氟化镁溶胶溶液;
b.使表面与氟化镁溶胶溶液接触;
c.干燥所述表面;和
d.将所述表面在第一热步骤中暴露于范围是15℃至100℃的第一温度。
通过根据本发明的第一或第二方面的方法,已经获得了氟化镁溶胶溶液,或具有可获得的溶胶溶液的质量。可选地,采用具有上述质量的溶胶溶液。
它们本身提供了许多施加溶胶溶液至表面的方法。在一些实施方式中,通过旋涂或通过浸涂施加涂层。在一些实施方式中,通过喷雾施加涂层。根据待涂布的基底表面的形状,本领域技术人员知道最合适的施加方法。
在一些实施方式中,溶胶溶液的动态粘度范围是0.8至5.0mPa s,尤其范围是1.3至3.5mPa s。
干燥和第一热步骤使得去除溶胶溶液的溶剂和残留的非氟化组分,主要是通过前体化合物(一种或多种)与HF反应形成的酸,或源自其的任何随后反应产物,比如酯。取决于制备溶胶溶液时使用的化合物,对于方法的时间和温度的要求将由室温(20℃)改变至比100℃更高的温度,和从数分钟至数个小时。在一种实施方式中,第一热步骤在250和500℃之间进行5至30min。在一些实施方式中,第一热步骤在300和400℃之间进行5至30min。在所有的情况下,热处理可在环境压力下进行。
在一些实施方式中,在将涂层施加于表面和将表面暴露于热步骤之间的时间间隔进行干燥(例如在将表面浸渍在溶胶溶液之后从表面去除溶胶溶液和将表面施用将表面暴露于热步骤之间的时间)。干燥使得去除溶胶溶液的大部分溶剂和残留的组分,但是,并不是所有的这些组分可被完全去除。在这些条件下,一些仍将残留在涂层的孔中。干燥的目的是提供涂抹抗性涂层。
在一些实施方式中,干燥步骤在室温下进行10min。
在一些实施方式中,施加热步骤,其中所述表面暴露于范围从100℃至500℃的温度。在一些实施方式中,使用范围是约250℃至500℃的温度。在一些实施方式中,使用范围是约400℃至500℃的温度。可采用该热步骤以烧结涂层,产生改善的机械稳定性。
在一些实施方式中,热步骤以这样的方式施用至表面使得表面直接暴露于必要的温度,例如表面暴露于450C。可选地,表面可暴露于缓慢增加的温度间隔直到达到必要的温度(例如450℃)。可选地,如果需要,可采用更高的温度。在一些实施方式中,热步骤持续5至30min。在所有情况下,这些热处理可在环境压力下进行。在一些实施方式中,热步骤(在450℃的温度下)持续15min。在一些实施方式中,使涂层缓慢冷却更长的时间段(优先在100和150min之间)。就涂层的机械性能而言,缓慢冷却加热的涂层将产生更好的特性。在一些实施方式中,表面在干燥之后和热步骤之前暴露于另外的干燥温度,其中,所述表面暴露于范围从15℃至100℃的干燥温度某段时间。
干燥和第一热步骤使得去除溶胶溶液的溶剂和残留的非氟化组分,主要是通过前体化合物(一种或多种)与HF反应形成的酸,或源自其的任何随后反应产物,比如酯。取决于制备溶胶溶液时使用的化合物,对于方法的时间和温度的要求将从室温改变至比100℃更高的温度,和从数分钟至数个小时。干燥和另外的干燥温度使得去除溶胶溶液的大部分溶剂和残留的组分,但是,并不是所有的这些组分可被完全去除。在这些条件下,一些将残留在涂层的孔中。干燥和另外的干燥温度的目的是提供涂抹抗性涂层。
在一些实施方式中,80℃用作另外的干燥温度,其持续10min。
在一个实施方式中,第一热步骤在250和500℃之间进行5至30min。在一些实施方式中,第一热步骤在300和400℃之间进行5至30min。在所有的情况下,热处理可在环境压力下进行。
在一些实施方式中,在第一热步骤之后,施加第二热步骤,其中所述表面暴露于范围从250℃至500℃的第二温度。可采用该第二热步骤烧结涂层,产生改善的机械稳定性。
在一些实施方式中,在沉积MgF2层之后采用一个热后处理。
在一些实施方式中,采用两步热处理,其中基底在室温和100℃之间的第一热步骤,和200和500℃之间的第二热步骤中处理。在一些实施方式中,第一热步骤持续5至60min。在一些实施方式中,第二热步骤持续5至30min。在一种实施方式中,两步热处理的第一热步骤在70℃和90℃之间进行5至60min,和第二热步骤在250℃和500℃之间进行5至30min。在一些实施方式中,第二热步骤在300℃和400℃之间进行5至30min。在所有的情况下,热处理可在环境压力下进行。
在一些实施方式中,另外的干燥温度之后,采用热步骤(两步热处理),其中所述表面暴露于范围从100℃至500℃的温度。在一些实施方式中,热步骤的温度范围是约250℃至500℃。在一些实施方式中,约400℃至500℃的温度范围用于热步骤。可采用该热步骤烧结涂层,产生改善的机械稳定性。
在一些实施方式中,在另外的干燥温度之后分别施加热步骤。因此,可能使得在另外的干燥温度之后冷却涂层。在一些实施方式中,在施加另外的干燥温度之后,直接施加热步骤,因此,不允许冷却涂层直到完成热步骤之后。在一些实施方式中,在另外的干燥温度之后,直接施加热步骤,其中涂层被缓慢加热直到达到必要的终端温度(例如450℃)。
在一些实施方式中,另外的干燥温度暴露持续5至60min。在一些实施方式中,热步骤持续5至30min。
在一些实施方式中,采用两步热处理,其中基底在室温和100℃之间的第一热步骤,和在200℃和500℃之间的第二热步骤中处理。在一些实施方式中,第一热步骤持续5至60min。在一些实施方式中,第二热步骤持续5至30min。在一种实施方式中,两步热处理的第一热步骤在70℃和90℃之间进行5至60min,和第二热步骤在250℃和500℃之间进行5至30min。在一些实施方式中,第二热步骤在300℃和400℃之间进行5至30min。在所有的情况下,热处理可在环境压力下进行。在一些实施方式中,另外的干燥温度暴露(温度80℃)持续10min,其中热步骤(在450℃的温度下)持续15min。在一些实施方式中,使涂层缓慢冷却更长的时间段(优先在100和150min之间)。就涂层的机械性能而言,缓慢冷却加热的涂层将产生更好的特性。
在一些实施方式中,基底被缓慢加热(2K至5K/min),等温保持10至45min并且随后以类似的速度(2K至5K/min)冷却。该处理就机械稳定性而言显示尤其满意的结果。
本文提供的任何溶胶溶液将产生多孔和机械坚固层,其可在仅仅单个涂布步骤中获得。
根据本发明的第四方面,提供了包含氟化镁纳米颗粒的表面涂层。该涂层的特征可在于其组成颗粒的尺寸、其孔隙率、光学性质和/或耐划伤性。
在一些实施方式中,本发明的表面涂层的特征在于折射率在n500=1.21和n500=1.32之间。在一些实施方式中,本发明的表面涂层的特征在于孔隙率为30至50%。在一些实施方式中,本发明的表面涂层的特征在于孔隙率为40至55%。在一些实施方式中,本发明的表面涂层的特征在于折射率在n500=1.21和n500=1.32之间和孔隙率为30至50%。
在一些实施方式中,表面涂层包含一定量的添加剂颗粒,其选自包含CaF2、SrF2、BaF2、AlF3、SiF4、ZrF4、TiF4和/或ZnF2的组,所述量为1:5至1:500,以添加剂相对于镁的摩尔当量测量。在一些实施方式中,包含的添加剂颗粒的比例为1:100、1:10、1:20、1:30、1:40或1:50,以添加剂相对于镁的摩尔当量测量。
在一些实施方式中,本发明的表面涂层的特征在于孔隙率为30至50%。在一些实施方式中,本发明的表面涂层的特征在于孔隙率为40至55%。
在一些实施方式中,本发明的表面涂层的特征在于折射率在n500=1.21和n500=1.32之间。
在一些实施方式中,本发明的表面涂层的特征在于折射率在n500=1.21和n500=1.32之间,孔隙率为30至50%和一些添加剂颗粒,所述添加剂颗粒选自包含LiF、CaF2、SrF2、BaF2、SnF2、AlF3、SbF3、SbF5、ZrF4和/或ZnF2的组。所述量为1:5至1:500,以添加剂相对于镁的摩尔当量测量。在一些实施方式中,包含的添加剂颗粒的比例为1:100、1:10、1:20、1:30、1:40或1:50,以添加剂相对于镁的摩尔当量测量。
根据本发明的该第四方面的另一可选方案,提供了包含氟化镁纳米颗粒的表面涂层,特征在于折射率在n500=1.18和n500=1.35之间,孔隙率为25%至40%和一定量的添加剂MFmBx-m颗粒(源自非镁添加剂或第二镁添加剂,如上述),其中M选自Li+、Mg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+、Sn2+、Zn2+、Al3+、Si4+、Ti4+、Zr4+、Sn4+、Sb3+或Sb5+所组成的组,B可以是氯化物或氧化物,x等于金属M的氧化态和m等于或小于金属M的氧化态,所述量为1:5至1:100,以添加剂相对于镁的摩尔当量测量。
在一些实施方式中,表面涂层包含一定量的添加剂颗粒(源自非镁添加剂或第二镁添加剂,如上述)Mn+Fm Bx-m,m等于金属M的氧化态n(如上定义的)或m等于0或m选自的范围是0<m<n或其组合,所述量为1:5至1:100,以添加剂相对于源自第一镁前体的镁的摩尔当量测量。
一般而言,如果镁(或另一金属)氯化物或氟化物颗粒存在于溶胶中,则在表面涂层中它们仍作为各自的氯化物或氟化物,但是,其他施加的配体将产生各自的镁(或其他施加的金属)氧化物。
在一些实施方式中,涂层包含如先前为获得所述溶胶溶液所讨论的方法中使用的相同量的金属添加剂。
在一些实施方式中,表面涂层包含一定量的添加剂MFmBx-m颗粒(源自非镁添加剂或第二镁添加剂,如上述),其中M选自Li+、Mg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+、Sn2+、Zn2+、Al3+、Si4+、Ti4+、Zr4 +、Sn4+、Sb3+或Sb5+所组成的组,B可以是氯化物或氧化物,x等于金属M的氧化态和m等于或小于金属M的氧化态,所述量为1:5至1:100,以添加剂相对于镁的摩尔当量测量。在一些实施方式中,添加剂的量范围是1:10(10%)至1:25(4%),以添加剂相对于镁的摩尔当量测量。在一个实施方式中,添加剂的量范围是1:12.5(8%)至1:25(4%),以添加剂相对于镁的摩尔当量测量。在一些实施方式中,表面涂层包含一定量的添加剂颗粒(源自非镁添加剂或第二镁添加剂,如上述)Mn+FmBx-m,m等于金属M的氧化态n(如上定义的)或m等于0或m选自的范围是0<m<n或其组合。因此,表面涂层可包含完全氟化的添加剂颗粒,部分氟化的添加剂颗粒或未氟化的添加剂颗粒。
在一些实施方式中,表面涂层包含一定量的添加剂MFmBx-m颗粒(源自非镁添加剂或第二镁添加剂,如上述),其中M选自Li+、Mg2+、Ca2+、Al3+、Si4+或Ti4+所组成的组,B可以是氯化物或氧化物,x等于金属M的氧化态和m等于或小于金属M的氧化态,所述量为1:5至1:100,以添加剂相对于镁的摩尔当量测量。在一些实施方式中,添加剂的量范围是1:10(10%)至1:25(4%),以添加剂相对于镁的摩尔当量测量。在一个实施方式中,添加剂的量范围是1:12.5(8%)至1:25(4%),以添加剂相对于镁的摩尔当量测量。在一些实施方式中,表面涂层包含一定量的添加剂颗粒(源自非镁添加剂或第二镁添加剂,如上述)Mn+FmBx-m,m等于金属M的氧化态n(如上定义的)或m等于0或m选自的范围是0<m<n或其组合。因此,表面涂层可包含完全氟化的添加剂颗粒,部分氟化的添加剂颗粒或未氟化的添加剂颗粒。
在一些实施方式中,表面涂层包含一定量的添加剂颗粒,其选自LiX,其中X是卤素,尤其氯化物,所述量为1:5至1:100(20%至1%),以添加剂相对于镁的摩尔当量测量。在一个实施方式中,LiX添加剂的量的范围是1:10(10%)至1:100(1%),以添加剂相对于镁的摩尔当量测量。在一个实施方式中,LiX添加剂的量的范围是1:25(4%)至1:100(1%),以添加剂相对于镁的摩尔当量测量。在一个实施方式中,LiX添加剂的量是1:100(1%),以添加剂相对于镁的摩尔当量测量。
在一些实施方式中,表面涂层包含一定量的添加剂颗粒,其选自包含LiF、CaF2、SrF2、BaF2、SnF2、AlF3、SbF3、SbF5、ZrF4和/或ZnF2的组,所述量为1:5至1:1000,以添加剂相对于镁的摩尔当量测量。在一个实施方式中,添加剂的量范围是1:20(5%)至1:100(1%),以添加剂相对于镁的摩尔当量测量。
在沉积的MgF2层中,融入抗反射层的添加剂化合物是X射线非晶态。由本发明的合成造成的高度结构变形提供感光光学和机械特性。
根据本发明的第五方面,提供了具有根据本发明任何上述方面的表面涂层的金属、玻璃、聚合物,尤其是有机聚合物,或热塑性塑料表面。
在一些实施方式中,待涂布的基底是平的或管状玻璃表面。在一些实施方式中,待涂布的基底是金属表面。在一些实施方式中,待涂布的基底是有机聚合物表面。在一些实施方式中,表面是热塑性塑料表面。
在一些实施方式中,表面是光学系统的表面,非限制性的例子为照相机、眼科透镜、双目镜、显微镜或类似的光学设备。
在一些实施方式中,根据本发明的方法或溶胶获得的MgF2层展示的折射率范围是1.21至1.30,这取决于MgF2溶胶的组合物和后处理程序的温度。所得MgF2溶胶的组合物依赖于,例如携带进入或通过溶胶反应产生的水量,最终添加剂的性质(Mg、Sr、Ba、Al、Si、Zr、Zn等,尤其Li+、Mg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+、Sn2+、Zn2+、Al3+、Si4+、Ti4+、Zr4+、Sn4+、Sb3+或Sb5+)和它们的浓度,和后处理的温度。一般而言,一些添加剂增加MgF2的烧结能力,因此,产生抗反射层增加的机械坚固性。而Al-和Li-添加剂不影响感光光学性能,如Sn、Ti或Zr的添加剂稍微降低光学透过率,原因是它们更高的折射率。发明人已经发现具有低熔点的具体添加剂组分(其可以是完全、部分或非氟化的化合物如上述)增加烧结能力和使得增加机械坚固性同时包括更高的孔隙率,因此,对光学性能的影响小并且如果有的话可观察到仅仅光学透过率的稍微下降。因此,必须使用添加剂的最佳含量以便获得抗反射MgF2层的高光学透过率和高机械稳定性,如上述。
在一些实施方式中,对于待涂布的表面是有机聚合物表面,甲醇基溶胶溶液是优选的。在一些实施方式中,待涂布的表面是有机聚合物表面并且溶胶溶液包含0%和20%之间的添加剂颗粒,其选自MFmBx-m,如先前描述。在一些实施方式中,待涂布的表面是有机聚合物表面并且溶胶溶液包含0%和15%之间的添加剂颗粒,其选自MFmBx-m,如先前描述。在一些实施方式中,待涂布的表面是有机聚合物表面并且溶胶溶液包含2%和8%之间的添加剂颗粒,其选自MFmBx-m,如先前描述。在一些实施方式中,待涂布的表面是有机聚合物表面并且溶胶溶液包含0%和2%之间的添加剂颗粒,其选自MFmBx-m,如先前描述。
在一些实施方式中,表面是有机聚合物表面,其通过聚硅氮烷层或通过无机网络预处理,所述无机网络通过控制有机修饰的Si醇盐的水解和缩合获得(ORMOCER,Fraunhofer-Institut für Silicatforschung ISC,Würzburg,德国)。在一些实施方式中,表面是有机聚合物表面,其通过电晕极化预处理。
本发明提供的溶胶溶液尤其适于受益于或需要低涂布后处理温度的涂布方法,因为相比通常采用的羧酸前体,不完全反应的镁醇盐前体在相对低温下分解。
在一些实施方式中,通过根据本发明方法获得的MgF2层展示机械稳定性和耐划伤性,超过本领域已知的SiO2多孔抗反射层。
根据本发明获得的抗反射层的特征在于容易从商业上可得的前体开始产生。如通过本发明的方法制备的溶胶可直接用于涂布任何基底。
无需添加其他组分,如金属络合物、有机粘合剂、共聚物等至溶胶以便在层内部产生微调的孔隙率。对于一些聚合物,在MgF2层下方存在介体层或在MgF2层上方存在覆盖层不是必须的,但是可优选增强材料的光学或机械特性。
这些层的孔隙率可调节为25至50%。在一些实施方式中,其范围是35至55%。实现多达50%孔隙率的合成条件通常由溶胶合成条件确定。通常,纯MgF2层的孔隙率可通过在溶胶合成期间添加上述的添加剂而改善。
与多孔SiO2层不同,通过本发明的方法获得的MgF2层展示高度的疏水性(在450℃下退火过程之后接触角高于120°)。该特性产生明显低的水吸收,其对一些实施方式,在90%湿度下可小于10%,而其在多孔SiO2-层的情况下大于90%。
在一些实施方式中,根据本发明的方法获得的抗反射MgF2层的厚度范围是20至600nm。一些实施方式是单层,其厚度范围是80至120nm。
在一些实施方式中,根据本发明的方法获得的抗反射MgF2层显示98.5%和99.8%之间的光透射,这取决于添加剂Mn+的含量。一般而言,Mn+含量越低,光透射越高。Al-和Li-添加剂不影响光学性能,如Sn、Ti或Zr的添加剂稍微降低光学透过率,原因是它们更高的折射率。一般而言,添加剂含量越低,光透射越高。
在一些实施方式中,根据本发明的方法获得的抗反射MgF2层特征在于高粘合特性和高机械稳定性,尤其根据DIN EN 13523-4的耐划伤性(铅笔测试)。
在一些实施方式中,根据本发明的方法获得的抗反射MgF2层特征在于水解抗性优于SiO2-和MgF2层的腐蚀/水解抗性,原因是非常低的MgF2溶解度和其高温稳定性。
附图简述
图1表示薄膜的折射率随涂布材料的光学透过率的变化;
图2表示DLS测定的典型的MgF2颗粒尺寸分布;
图3表示由乙醇镁基MgF2溶胶获得的MgF2干凝胶的典型的XRD-衍射图;
图4表示合成MgF2溶胶期间典型的19F-NMR-光谱,其指示MgF2形成的完成阶段(在-198ppm的化学位移表示纯的MgF2,并且仅仅d和e图对应化学计量近似比(d:F/M=1.95和e:F/Mg=2.0));
图5由Mg(OC2H5)和MgCl2制备的MgF2溶胶的19F NMR光谱(根据实施例8中描述的一般合成制备);
图6由Mg(OC2H5)加MgCl2.6H2O制备的MgF2溶胶的19F NMR光谱(根据实施例9中描述的一般合成制备)。
实施例
透明MgF2溶胶的合成
1)将16.29g市售乙醇镁(MgOEt2)悬浮在450ml异丙醇中。然后,将0.715g MgCl2溶解于其中。在剧烈搅拌下向该悬浮液添加包含6.0g无水HF(aHF)的50ml甲醇。在室温下搅拌1天之后,获得浓度为0.3mol/l的透明MgF2溶胶。溶胶的动粘滞率是1.1mm2s-1并且在10周的时间内不改变。
2)将16.25g市售乙醇镁(MgOEt2)悬浮在450ml异丙醇中。然后,将0.715g无水MgCl2溶解于其中。在剧烈搅拌下向该悬浮液添加包含6.3g无水HF(aHF)的50ml乙醇。在室温下搅拌1天之后,获得浓度为0.3mol/l的透明MgF2溶胶。溶胶的动粘滞率是1.1mm2s-1并且在10周的时间内不改变。
3)将16.29g市售乙醇镁(MgOEt2)和0.83g氯化钙首先悬浮在400ml乙醇中。向该溶液添加包含6.0g aHF的50ml乙醇(摩尔比nHF/(nCa2++nMg2+)=2;nMg2+/nCa2+=9/1)。仅仅约30分钟内就形成的透明溶胶,相对于全部2+金属阳离子浓度为0.3和相对于Mg为5mol%的Ca。溶胶的动粘滞率是约1.4mm2s-1并且在6周内保持不变。
3’)将15.4g市售乙醇镁和1.67g无水氯化钙首先悬浮在450ml乙醇中。向该溶液添加包含6g aHF的50ml乙醇(摩尔比nHF/(nCa2++nMg2+)=2;nMg2+/nCa2+=9/1)。仅仅约4小时内就形成的透明溶胶,相对于全部M2+阳离子的浓度为0.3。溶胶的动粘滞率是约1.4mm2s-1并且在6周内保持不变。按照相同的合成程序,通过改变Mg(OC2H5)2与CaCl2比但是保持总体M2+-浓度(M=Mg2++Ca2+)和HF的量(摩尔HF/M比=2.0)和所有其他反应条件不变,基于不同添加量的CaCl2获得MgF2溶胶。这些结果总结在表1。
表1:在所有批次中,乙醇镁和CaCl2在450ml乙醇中一起产生0.15mol的M2+。在所有批次中,使用50ml乙醇中的6g HF(摩尔HF/Mg比=2.0)。
编号 | Mg(OC2H5)2与CaCl2摩尔比 | 透明前小时数 | 6周后的粘度mm2s-1 | 评论 |
a | 95/5 | 16 | 1.3 | 稳定粘度 |
b | 90/10 | 4 | 1.3 | 稳定粘度 |
c | 80/20 | 3 | 1.4 | 稳定粘度 |
4)将17.5g市售乙醇镁和1.5g氯化铝首先悬浮在400ml乙醇中。向该溶液添加包含6g aHF的50ml乙醇。在约60分钟内形成的透明溶胶,显示出0.3mol/l的浓度,并且相对于MgF2具有5mol%的Al3+。溶胶的动粘滞率是约1.2mm2s-1并且在6周内保持不变。
4’)将16.25g市售乙醇镁和1g无水氯化铝首先悬浮在400ml乙醇中。向该溶液添加包含6g aHF的50ml乙醇。在约60分钟内形成的透明溶胶,显示出0.3mol/l的浓度,并且与相对于MgF2具有5mol%的Al3+。溶胶的动粘滞率是约1.2mm2s-1并且在6周内保持不变。
5)将15.5g新鲜制备的甲醇镁和1.4g干燥MgCl2悬浮在450ml乙醇中。在剧烈搅拌下向该溶液添加包含8.0g无水HF(aHF)的50ml乙醇。在室温下搅拌24小时之后,获得浓度为0.4mol/l的透明乙醇MgF2溶胶。溶胶的动粘滞率是1.2mm2s-1并且在10周的时间内不改变。
6)将15.5g新鲜制备的甲醇镁和1.7g干燥CaCl2悬浮在450ml乙醇中。在剧烈搅拌下向该溶液添加包含8.0g无水HF(aHF)的50ml乙醇。在室温下搅拌20小时之后,获得浓度为0.36mol/l具有10%CaF2(总体MF2浓度为0.4)的透明乙醇MgF2溶胶。溶胶的动粘滞率是1.3mm2s-1并且在10周的时间内不改变。
7)将17.2g新鲜制备的甲醇镁和0.6g干燥LiCl悬浮在450ml乙醇中。在剧烈搅拌下向该溶液添加包含8.0g无水HF(aHF)的50ml乙醇。在室温下搅拌28小时之后,获得浓度为0.4mol/l包含10mol%LiCl的透明乙醇MgF2溶胶。溶胶的动粘滞率是1.3mm2s-1并且在10周的时间内不改变。
8)将16.25g市售乙醇镁悬浮在450ml乙醇中。然后,溶解0.715g无水MgCl2。在剧烈搅拌下向该悬浮液添加包含6g无水HF(aHF)的50ml乙醇。在室温下搅拌1天之后,获得浓度为0.3mol/l的透明乙醇MgF2溶胶。溶胶的动粘滞率是1.1mm2s-1并且在10周的时间内不改变。按照相同的合成程序,通过改变Mg(OC2H5)2与MgCl2比,但是保持总体Mg2+-浓度和HF的量(摩尔HF/Mg比=2.0)和所有其他反应条件不变,基于不同添加量的无水MgCl2获得MgF2溶胶。这些结果总结在表2。
表2:在所有批次中,乙醇镁和MgCl2在450ml乙醇中一起产生0.15mol的Mg2+。在所有批次中,使用50ml乙醇中的6g HF(摩尔HF/Mg比=2.0)。
编号 | Mg(OC2H5)2与MgCl2摩尔比 | 透明前小时数 | 6周后的粘度mm2s-1 | 评论 |
a | 95/5 | 24 | 1.4 | 稳定粘度 |
b | 90/10 | 18 | 1.4 | 稳定粘度 |
c | 80/20 | 12 | 1.5 | 稳定粘度 |
9)将16.25g市售乙醇镁悬浮在450ml乙醇中。然后,溶解1.5g氯化镁六水合物,MgCl2·6H2O。在剧烈搅拌下向该悬浮液添加包含6g无水HF(aHF)的50ml乙醇。在室温下搅拌15小时之后,获得浓度为0.3mol/l的透明乙醇MgF2溶胶。溶胶的动粘滞率是1.2mm2s-1并且在10周的时间内不改变。按照相同的合成程序,通过改变Mg(OC2H5)2与MgCl2·6H2O比,但是保持总体Mg2+-浓度和HF的量(摩尔HF/Mg比=2.0)和所有其他反应条件不变,基于不同添加量的MgCl2·6H2O获得MgF2溶胶。这些结果总结在表3。
表3:在所有批次中,乙醇镁和MgCl2·6H2O在450ml乙醇中一起产生0.15mol的Mg2 +。在所有批次中,使用50ml乙醇中的6g HF(摩尔HF/Mg比=2.0)。
编号 | Mg(OC2H5)2与MgCl2·6H2O摩尔比 | 透明前小时数 | 6周后的粘度mm2s-1 | 评论 |
a | 95/5 | 24 | 1.4 | 稳定粘度 |
b | 90/10 | 15 | 1.3 | 稳定粘度 |
c | 80/20 | 10 | 1.4 | 稳定粘度 |
10)将16.25g市售乙醇镁悬浮在450ml乙醇中。然后,溶解1.65g氯化钙六水合物,CaCl2·6H2O。在剧烈搅拌下向该悬浮液添加包含6g无水HF(aHF)的50ml乙醇。在室温下搅拌2小时之后,获得浓度为0.3mol/l的透明乙醇MgF2溶胶。溶胶的动粘滞率是1.3mm2s-1并且在10周的时间内不改变。按照相同的合成程序,通过改变Mg(OC2H5)2与CaCl2·6H2O比,但是保持总体Mg2+-浓度和HF的量(摩尔HF/Mg比=2.0)和所有其他反应条件不变,基于不同添加量的CaCl2·6H2O获得MgF2溶胶。这些结果总结在表4。
表4:在所有批次中,乙醇镁和CaCl2·6H2O在450ml乙醇中一起产生0.15mol的M2+。在所有批次中,使用50ml乙醇中的6g HF(摩尔HF/Mg比=2.0)。
Mg(OC2H5)2与CaCl2·6H2O摩尔比 | 透明前小时数 | 6周后的粘度mm2s-1 | 评论 |
95/5 | 4 | 1.2 | 稳定粘度 |
90/10 | 2 | 1.3 | 稳定粘度 |
80/20 | 1 | 1.3 | 稳定粘度 |
11)将17.1g市售乙醇镁首先悬浮在400ml乙醇中。向该溶液添加包含6gaHF的50ml乙醇。然后立即添加1.56g四乙氧基硅烷(TEOS)。在约36小时内形成的透明溶胶,显示出浓度为0.3mol/l并且相对于MgF2具有5mol%Si4+。溶胶的动粘滞率是约1.5mm2s-1并且在6周内保持不变。
12)将17.1g市售乙醇镁首先悬浮在400ml乙醇中。向该溶液添加包含6g aHF的50ml乙醇。然后立即添加2.45g正丙醇化锆(Zr(OnR)4)。在约48小时内形成的透明溶胶,显示出浓度为0.3mol/l并且相对于MgF2具有5mol%Zr4+。溶胶的动粘滞率是约1.5mm2s-1并且在6周内保持不变。
13)将17.1g市售乙醇镁首先悬浮在400ml乙醇中。向该溶液添加包含6g aHF的50ml乙醇。然后立即添加2.13g异丙醇钛Ti[OCH(CH3)2]4。在约40小时内形成的透明溶胶,显示出浓度为0.3mol/l并且相对于MgF2具有5mol%Ti4+。溶胶的动粘滞率是约1.4mm2s-1并且在6周内保持不变。
14)将16.6g市售乙醇镁和0.5g无水氯化钙和2.31g异丙醇钛Ti[OCH(CH3)2]4首先悬浮在450ml乙醇中。向该溶液添加包含6g aHF的50ml乙醇(摩尔比nHF/(nCa2++nMg2+)=2;nMg2+/nCa2+=97/3)。18小时内形成的透明溶胶,相对于全部M2+阳离子浓度为0.3。相对于总体MF2含量,Ti[OCH(CH3)2]4的含量是5mol%。溶胶的动粘滞率是约1.3mm2s-1并且在6周内保持稳定。
15)将16.6g市售乙醇镁和0.5g无水氯化钙和2.45g正丙醇化锆(Zr(OnR)4)首先悬浮在450ml乙醇中。向该溶液添加包含6g aHF的50ml乙醇(摩尔比nHF/(nCa2++nMg2+)=2;nMg2+/nCa2+=97/3)。26小时内形成的透明溶胶,相对于全部M2+阳离子浓度为0.3。相对于总体MF2含量,Zr(OnR)4的含量是5mol%。溶胶的动粘滞率是约1.5mm2s-1并且在6周内保持稳定。
16)将16.6g市售乙醇镁和0.5g无水氯化钙和1.56g四乙氧基硅烷(TEOS)首先悬浮在450ml乙醇中。向该溶液添加包含6g aHF的50ml乙醇(摩尔比nHF/(nCa2++nMg2+)=2;nMg2+/nCa2+=97/3)。12小时内形成的透明溶胶,相对于全部M2+阳离子浓度为0.3。相对于总体MF2含量,TEOS的含量是5mol%。溶胶的动粘滞率是约1.5mm2s-1并且在6周内保持稳定。
17)将16.6g市售乙醇镁和0.5g无水氯化钙和1.53g异丙醇铝Al[OCH(CH3)2]3首先悬浮在450ml乙醇中。向该溶液添加包含6g aHF的50ml乙醇(摩尔比nHF/(nCa2++nMg2+)=2;nMg2+/nCa2+=97/3)。26小时内形成的透明溶胶,相对于全部M2+阳离子浓度为0.3。相对于总体MF2含量,Al[OCH(CH3)2]3的含量是5mol%。溶胶的动粘滞率是约1.4mm2s-1并且在6周内保持稳定。
18)将16.6g市售乙醇镁和0.5g无水氯化钙和1.53g异丙醇铝Al[OCH(CH3)2]3首先悬浮在450ml乙醇中。向该溶液添加包含6.23g aHF的50ml乙醇(摩尔比nHF/(nCa2++nMg2+)=2;和nHF/nAl3+=3/1,nMg2+/nCa2+=97/3)。20小时内形成的透明溶胶,相对于全部M2+阳离子浓度为0.3。相对于总体MF2含量,Al[OCH(CH3)2]3的含量为5mol%。溶胶的动粘滞率是约1.3mm2s-1并且在6周内保持稳定。
19)制备四个不同的反应体系,各体系均包含悬浮在450ml乙醇中的16.29g市售乙醇镁。然后,向这4个悬浮液添加(溶解的):a)6.26g、b)1.566g、c)2.191g和c)3.13gMgCl2·6H2O。向该悬液,在剧烈搅拌下添加包含a)5.83g,b)6.00g,c)6.12g,和d)6.29g无水HF(aHF)的50ml乙醇。在室温下搅拌1天之后,获得浓度为0.3mol/l的透明乙醇MgF2溶胶。溶胶的动粘滞率是1.1mm2s-1并且在10周的时间内不改变。
未添加添加剂的MgF2溶胶
A)将17.2g新鲜制备的甲醇镁悬浮在450ml乙醇中。在剧烈搅拌下向该悬浮液添加包含8.0g无水HF(aHF)的50ml乙醇。未获得No透明溶胶,反而形成浑浊不透明的大MgF2颗粒悬液,其甚至在搅拌数周之后也不透明。
B)将22.8g市售乙醇镁悬浮在450ml甲醇中。在剧烈搅拌下向该悬浮液添加包含8.0g无水HF(aHF)的50ml甲醇。未获得透明溶胶,反而形成了不透明的大MgF2颗粒悬浮液,其甚至在搅拌数周之后也不透明。
C)将17.1g市售乙醇镁悬浮在450ml乙醇中。在剧烈搅拌下向该悬浮液添加包含6.0g无水HF(aHF)的50ml乙醇。未获得透明溶胶,反而形成了不透明的大MgF2颗粒悬液,其甚至在搅拌数周之后也不透明并且在玻璃上不产生透明的涂层。
在玻璃基底上形成MgF2抗反射层
基于根据1)至4)描述的过程获得的溶胶生产抗反射层的一般过程按照下述一般方案进行。用各MgF2溶胶浸渍-涂布100x 150mm的Optiwhite玻璃基底(Pilkington,Gelsenkirchen,德国)。在浸渍涂布之前,用碱清洁溶液清洁基底并且最后用去离子水冲洗中和。在80℃的10min干燥步骤之后,所有的样品最后在450℃下退火15min。为此,样品以每分钟5℃加热至450°,保持15min,然后以相同的热程序冷却。
在聚合物表面形成抗反射层
通过浸涂技术进行根据程序1)至4)获得的MgF2溶胶的耐久性。首先用不同有机溶剂处理数个聚合物(聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、氟化乙烯丙烯共聚物(FEP)、聚醚砜(PES)、聚碳酸酯(PC)、乙烯四氟乙烯(ETFE)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、PC Lexan(无定形的聚碳酸酯聚合物)、Zeonex(环烯烃聚合物,CAS号26007-43-2)、Makrolon(聚碳酸酯))的板/箔来对其进行常规清洁,然后直接涂布而不进行任何进一步处理或电晕预处理或在一些情况下,首先沉积由Ormosil@或Silazanes制备的介体层以便改善接枝特性。
表征MgF2溶胶
通过使用Zetasizer nano ZS(Malvern工具,Worcesterire,UK)的动态光散射(DLS)测量法使用用氩气氛冲洗的石英比色皿测定纳米颗粒的流体力学直径。在DLS测量的同时,用来自Anton Paar(AMVn;Graz,Austria)的微粘度计在25℃下测定粘度。通过使用在Malvern nanosizer软件中实施的非负最小二乘(NNLS)拟合算法将相关函数去卷积成指数函数计算流体力学直径。使用Smoluchowski关系式,从溶胶中的颗粒电泳迁移率测定ζ势能。
表征MgF2抗反射层
通过椭圆偏振测量法,用SENTECH公司的工具GmbH,可变角度UV–Vis分光偏振光椭圆率测量仪SE850在350nm和1000nm之间的波长范围下分别测定折射率和光透射和反射比。对于评估和拟合折射率n和吸光度k,使用CAUCHY模型,使用可见范围(350-800nm)的数据集。报告的折射率取自589nm的波长。
使用来自ERICHSEN GmbH&Co KG、德国的Linartester 249,根据铅笔测试,测试抗反射层的机械稳定性。在该测试中,增加硬度值的铅笔芯以精确的方式压向涂层表面直到一个笔芯损伤表面。表面硬度由刚刚不能损伤涂布表面的最硬的铅笔等级限定。
在Bruker Avance 400上记录19F MAS NMR光谱。相对于CFCl3给出19F的核子的化学位移。
用FPM7装置(Rich.Seiffert&Co.,Freiberg),以Cu Kα(Cu Kα1.2, )放射(2Θ范围:5°≤2Θ≤64°)进行XRD测量。
所有1)至18)中描述的溶胶产生基于简单的肉眼观察没有明显不同的抗反射层。MgF2抗反射层的特征数据总结在表5中。
表5总结Optiwhite玻璃上的抗反射层的主要特征
样品 | 层厚度[nm] | 折射率n550 | 铅笔测试 |
(1) | 117 | 1.2747 | 6H |
(3) | 121 | 1.24 | 6H-7H |
(3’a) | 125 | 1.27 | 7H |
(3*b) | 120 | 1.29 | 9H |
(3’c) | 121 | 1.31 | 9H |
(4) | 107 | 1.27 | 3H-4H |
(4’) | 107 | 1.27 | 3H-4H |
8a | 116 | 1.26 | 3H-4h |
8b | 123 | 1.25 | 4H-5H |
8c | 119 | 1.26 | 4H-5H |
11 | 121 | 1.24 | 6H-7H |
12 | 110 | 1.28 | 3H |
13 | 109 | 1.29 | 4H |
14 | 105 | 1.26 | 9H |
15 | 112 | 1.27 | 4H |
16 | 109 | 1.25 | 6H |
17 | 110 | 1.24 | 8H |
18 | 112 | 124 | 8H |
Claims (30)
1.一种获得氟化镁溶胶溶液的方法,即获得MgF2溶胶溶液的方法,其包括下述步骤:
a.以第一体积提供非水性溶剂中的镁醇盐,和
b.以第二体积向所述镁醇盐添加1.85至2.05摩尔当量的无水氟化氢HF,其特征在于,
c.反应在下述物质存在下进行:
i.第二氟化镁前体,其选自挥发性强酸的盐所组成的组,即选自由镁的氯化物、溴化物、碘化物、硝酸盐和三氟甲烷磺酸盐所组成的组,和/或
ii.至少一种添加剂非氟化镁前体,其选自挥发性强酸的盐所组成的组,即选自由锂、锑、锡、钙、锶、钡、铝、硅、锆、钛或锌的氯化物、溴化物、碘化物、硝酸盐和三氟甲烷磺酸盐所组成的组。
2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述添加剂非氟化镁前体选自Li+、Ca2+、Sr2+、Ba2+、Zn2+、Al3+、Si4+、Zr4+、Sn4+、Sb3+、Sb5+,或Ti4+的氯化物、溴化物、碘化物、硝酸盐或三氟甲烷磺酸盐。
3.根据权利要求2所述的方法,其中,所述第二氟化镁前体或所述添加剂非氟化镁前体是氯化物、溴化物、碘化物或硝酸盐。
4.根据权利要求1或2所述的方法,其中,所述添加剂第二氟化镁前体或添加剂非氟化镁前体存在的数量范围是1%至20%,其以所述镁醇盐的摩尔当量测量。
5.根据前述权利要求1或2所述的方法,其中,步骤b的氟化中存在附加量的氟化氢,即nadHF,所述附加量根据下式计算:
nadHF=(nM*X添加剂)*Ox*A,其中
nM是所述镁醇盐的摩尔量,
X添加剂是与所述镁醇盐的摩尔量相关的所述第二氟化镁前体或所述非氟化镁前体的摩尔百分数,
其中
X添加剂范围是1%至20%,和
Ox是所述第二氟化镁前体或所述非氟化镁前体的金属的氧化态,和
A选自0≤A≤1。
6.根据权利要求1或2所述的方法,其中,反应在催化剂量的挥发性强酸存在下进行。
7.根据前述权利要求1或2所述的方法,其中,所述非水性溶剂是乙醇和/或溶胶溶液的水含量相对于溶液的镁含量等于或小于2.0摩尔当量。
8.一种氟化镁溶胶溶液,是通过根据权利要求1至7中任一项所述的方法获得的镁溶胶溶液,其包含一定量的MgF2颗粒和一定量的以通式MFmBx-m为特征的添加剂颗粒,其中M选自Li+、Ca2+、Sr2+、Ba2+、Zn2+、Al3+、Si4+、Zr4+、Sn4+、Sb3+、Sb5+或Ti4+,B是阴离子配体,x等于金属M的氧化态和m等于或小于金属M的氧化态,其中,所述添加剂颗粒MFmBx-m的特征在于,
m是x,或
m是0,或
0<m<x。
9.根据权利要求8所述的氟化镁溶胶溶液,其中,B选自挥发性强酸的盐所组成的组,即选自由氯化物、溴化物、碘化物、硝酸盐和三氟甲烷磺酸盐,以及它们部分氟化的物质所组成的组。
10.根据权利要求8所述的氟化镁溶胶溶液,其中,所述一定量的添加剂颗粒选自硝酸盐或氯化物,或它们部分氟化的物质。
11.根据权利要求8或9所述的氟化镁溶胶溶液,其中,所述添加剂颗粒的量相对于MgF2颗粒的量是1∶5至1∶100,以添加剂相对于源自第一镁前体的氟化镁的摩尔当量测量。
12.根据权利要求11所述的氟化镁溶胶溶液,其中,所述添加剂颗粒的所述量相对于MgF2颗粒的量是1∶10至1∶40。
13.根据权利要求8或9所述的氟化镁溶胶溶液,其特征在于,存在氢卤酸或硝酸,即HCl、HBr、HI、HNO3。
14.根据权利要求8或9所述的氟化镁溶胶溶液,其特征在于,所述溶胶溶液包含:
a.MgF2颗粒和添加剂颗粒,所述MgF2颗粒的直径小于20nm,所述添加剂颗粒的直径小于50nm,和/或
b.MgF2颗粒和添加剂颗粒的复盐,其直径小于50nm。
15.根据权利要求14所述的氟化镁溶胶溶液,其特征在于,所述MgF2颗粒的直径小于10nm。
16.根据权利要求8或9所述的氟化镁溶胶溶液,其特征在于,所述溶胶溶液的镁含量是0.2mol/l至1mol/l和/或所述溶胶溶液在室温下稳定超过六周。
17.一种涂布表面的方法,其包括下述步骤:
a.提供通过根据权利要求1至7中任一项所述的方法获得的氟化镁溶胶溶液;
b.使所述表面与所述氟化镁溶胶溶液接触;
c.干燥所述表面;
d.在第一热步骤中,将所述表面暴露于第一温度,所述第一温度的范围是15℃至480℃。
18.根据权利要求17所述的涂布表面的方法,其中,所述第一温度的范围是15℃至100℃或250℃至480℃。
19.根据权利要求17或18所述的涂布表面的方法,其中,在所述第一热步骤之后,施加第二热步骤,其中,所述表面暴露于温度范围是250℃至480℃的第二温度。
20.一种表面涂层,其使用根据权利要求8至16中任一项所述的氟化镁溶胶溶液来获得。
21.根据权利要求20所述的表面涂层,其包含烧结的氟化镁纳米颗粒,所述氟化镁纳米颗粒的直径尺寸小于20nm,折射率在n500=1.19和n500=1.32之间以及孔隙率在25%和40%之间。
22.根据权利要求20或21所述的表面涂层,其包含MFmBx-m颗粒,其中,Mn+选自Li+、Ca2+、Sr2+、Ba2+、Zn2+、Al3+、Si4+、Zr4+、Sn4+、Sb3+、Sb5+或Ti4+所组成的组,B是阴离子配体,x等于金属M的氧化态以及m等于或小于金属M的氧化态。
23.根据权利要求22所述的表面涂层,其中,B是氯化物或氧化物。
24.根据权利要求20或21所述的表面涂层,其包含一定量的添加剂颗粒,范围是1∶100至1∶5,其以添加剂相对于氟化镁的摩尔当量测量。
25.根据权利要求24所述的表面涂层,其包含一定量的添加剂颗粒,范围是1∶50至1∶5。
26.根据权利要求20或21所述的表面涂层,其包含一定量的添加剂颗粒,所述添加剂颗粒选自CaF2、SrF2、AlF3、SiF4、ZrF4、TiF4和/或ZnF2,所述量为1∶5至1∶1000,其以添加剂相对于镁的摩尔当量测量。
27.一种表面,其包含根据权利要求20至26中任一项所述的表面涂层。
28.根据权利要求27所述的表面,所述表面是金属表面、玻璃表面或聚合物表面。
29.根据权利要求27所述的表面,所述表面是有机聚合物表面。
30.根据权利要求27所述的表面,所述表面是热塑性塑料表面。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP12184916.0 | 2012-09-18 | ||
EP12184916.0A EP2708510A1 (en) | 2012-09-18 | 2012-09-18 | Process for production of magnesium fluoride sol solutions from alkoxides comprising addition of magnesium salts |
PCT/EP2013/069412 WO2014044726A2 (en) | 2012-09-18 | 2013-09-18 | Process for magnesium fluoride sol solutions from alkoxides comprising addition of magnesium salts |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN104854033A CN104854033A (zh) | 2015-08-19 |
CN104854033B true CN104854033B (zh) | 2018-01-05 |
Family
ID=46851882
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201380059729.XA Expired - Fee Related CN104854033B (zh) | 2012-09-18 | 2013-09-18 | 来自包含添加镁盐的醇盐的氟化镁溶胶溶液的方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US10081004B2 (zh) |
EP (2) | EP2708510A1 (zh) |
KR (2) | KR101910315B1 (zh) |
CN (1) | CN104854033B (zh) |
WO (1) | WO2014044726A2 (zh) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2676938A1 (en) | 2012-06-21 | 2013-12-25 | Nanofluor GmbH | Calcium fluoride sol and optically active surface coatings derived thereof |
US20150361268A1 (en) * | 2012-12-31 | 2015-12-17 | Nanofluor Gmbh | Magnesium fluoride sol and optically active surface coatings derived thereof |
DE102015102156A1 (de) * | 2015-02-13 | 2016-08-18 | Nanofluor Gmbh | Methode zur Bereitstellung einer Zink- und/oder Erdalkalimetall (M)–Seltenerdmetall (SM) Fluorid Sol Lösung, ein entsprechendes Sol sowie ein Xerogel davon und deren Verwendung |
KR102117945B1 (ko) * | 2017-02-09 | 2020-06-02 | 주식회사 메카로에너지 | 화학기상증착법을 이용한 반사방지막 제조방법 |
CN107602743A (zh) * | 2017-09-27 | 2018-01-19 | 中玺新材料(安徽)有限公司 | 一种超高分子量聚乙烯催化剂的制备方法 |
DE102018109446A1 (de) | 2018-04-19 | 2019-10-24 | Nanofluor Gmbh | Sol-Lösungen komplexer Fluorometallate und Beschichtungen daraus |
WO2020245219A1 (de) * | 2019-06-03 | 2020-12-10 | Nanofluor Gmbh | Verfahren zur herstellung einer beschichtung auf einem substrat sowie ein beschichtetes substrat |
CA3170655A1 (en) * | 2020-02-12 | 2021-08-19 | Green Sol-Gel Ltd | Sol application methods |
CN115490436B (zh) * | 2022-09-23 | 2024-02-02 | 新福兴玻璃工业集团有限公司 | 一种减反射氟化镁镀膜玻璃及其在线制备方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6506274B1 (en) | 1998-07-23 | 2003-01-14 | Michelin Recherche Et Technique, S.A. | Apparatus and method for manufacture of tires |
AU2001282547A1 (en) | 2000-08-30 | 2002-03-13 | Nikon Corporation | Method of forming optical thin film and optical element provided with optical thin film |
JP4858170B2 (ja) | 2004-09-16 | 2012-01-18 | 株式会社ニコン | 非晶質酸化珪素バインダを有するMgF2光学薄膜の製造方法 |
KR100628033B1 (ko) | 2006-06-23 | 2006-09-27 | (주)화인졸테크 | 중공 불화마그네슘 입자와 제조방법 그리고 이를 이용한반사방지용 코팅액 |
WO2009107665A1 (ja) | 2008-02-25 | 2009-09-03 | セントラル硝子株式会社 | 水酸化フッ化マグネシウム含有オルガノゾルおよびその製造方法 |
-
2012
- 2012-09-18 EP EP12184916.0A patent/EP2708510A1/en not_active Withdrawn
-
2013
- 2013-09-18 US US14/428,989 patent/US10081004B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2013-09-18 KR KR1020177036802A patent/KR101910315B1/ko active IP Right Grant
- 2013-09-18 CN CN201380059729.XA patent/CN104854033B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2013-09-18 KR KR1020157010192A patent/KR101845595B1/ko active IP Right Grant
- 2013-09-18 WO PCT/EP2013/069412 patent/WO2014044726A2/en active Application Filing
- 2013-09-18 EP EP13771416.8A patent/EP2897905A2/en not_active Withdrawn
-
2017
- 2017-06-18 US US15/626,137 patent/US10556215B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN104854033A (zh) | 2015-08-19 |
US20170282143A1 (en) | 2017-10-05 |
WO2014044726A2 (en) | 2014-03-27 |
EP2897905A2 (en) | 2015-07-29 |
KR101845595B1 (ko) | 2018-04-04 |
KR20180001576A (ko) | 2018-01-04 |
US10556215B2 (en) | 2020-02-11 |
KR101910315B1 (ko) | 2018-10-19 |
EP2708510A1 (en) | 2014-03-19 |
WO2014044726A3 (en) | 2014-05-15 |
KR20150058453A (ko) | 2015-05-28 |
US20150231587A1 (en) | 2015-08-20 |
US10081004B2 (en) | 2018-09-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN104854033B (zh) | 来自包含添加镁盐的醇盐的氟化镁溶胶溶液的方法 | |
EP2864261B1 (en) | Calcium fluoride sol and optically active surface coatings derived thereof | |
US10144833B2 (en) | Process for the production of magnesium fluoride sol solutions from alkoxides comprising addition of carbon dioxide | |
EP1732853B1 (en) | Method for the preparation of fluoride glass gel and use thereof | |
KR101887245B1 (ko) | 무기 산화물 코팅 | |
EP2958858B1 (en) | Method for producing zirconia colloids | |
EP2731914B1 (en) | Method for producing zirconia colloids and product thereof | |
EP2938585B1 (en) | Magnesium fluoride sol and optically active surface coatings derived thereof | |
JP2019061137A (ja) | 光学素子、光学機器、光学素子の製造方法および塗料 | |
Lee et al. | Elevating performance of AlOxFy anti-reflection coating via controllable HF vapor fluorination |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
EXSB | Decision made by sipo to initiate substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20180105 |