CN104827386B - 一种用于蓝宝石镜面抛光用磨头 - Google Patents
一种用于蓝宝石镜面抛光用磨头 Download PDFInfo
- Publication number
- CN104827386B CN104827386B CN201510270821.1A CN201510270821A CN104827386B CN 104827386 B CN104827386 B CN 104827386B CN 201510270821 A CN201510270821 A CN 201510270821A CN 104827386 B CN104827386 B CN 104827386B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- bistrique
- groove
- polishing
- cross
- cavity
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B41/00—Component parts such as frames, beds, carriages, headstocks
- B24B41/04—Headstocks; Working-spindles; Features relating thereto
- B24B41/047—Grinding heads for working on plane surfaces
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
本发明提供了一种用于蓝宝石镜面抛光用磨头，所述磨头的抛光端面上设有相互连通的凹槽，所述凹槽横截面整体形状以研磨面的对称轴为轴对称；所述凹槽的深度范围为0.5～10mm，凹槽的侧面所在平面与磨头抛光端面所在平面为垂直相交；磨头表面设置半径为1～4mm的通孔，所述通孔一端与所述凹槽相通，另一端与所述磨头外侧面相通。磨头表面设置有相互连通的凹槽与通孔相连，使得流通的抛光液顺着对称的凹槽均匀至研磨表面各处，采用此抛光磨头加工出来的产品表面粗糙度均衡，抛光效果好，抛光效率高，良率高。
Description
技术领域
本发明涉及研磨抛光技术领域，特别地，涉及一种用于蓝宝石镜面抛光用磨头。
背景技术
现有的蓝宝石镜面基片行业大部份都是采用传统的双平面基片，对这种镜片的抛光通常采用尺寸大于镜片的磨盘，对镜片单面或双面的整体同时进行抛光。例如申请号为201420325708.X的中国专利申请，公开了一种蓝宝石抛光用铜盘，在抛光时，将双面是平片的蓝宝石镜片放置在磨盘上的游星轮内，对镜片单面或双面进行抛光。
随着工业的发展，社会不断的进步，对产品设计的独特性要求越来越高。由于蓝宝石独特的性能，应用于外壳类产品的蓝宝石镜片产生。该面板设计的最大特点为内凹平台面。由于内凹平台面四周有高出的侧壁，对内凹平台面的抛光则无法采用传统的大磨盘进行抛光，只能采用小于内凹平台面尺寸的磨头进行抛光。但对于一些尺寸较小的内凹平台面，行程有限，磨头与镜片相对运动面积较小，磨头对镜片表面又有一定压力，因此磨头中间部位抛光液运用不充分，会影响抛光效果。
发明内容
本发明目的在于提供一种用于蓝宝石镜面抛光用磨头，以解决现有磨头的研磨液无法充分涂覆在磨头与镜片表面的技术问题。
为实现上述目的，本发明提供了一种用于蓝宝石镜面抛光用磨头，所述磨头的抛光端面上设有相互连通的凹槽，所述凹槽横截面整体形状以研磨面的对称轴为轴对称；所述凹槽的深度范围为0.5～10mm；
所述凹槽的侧面所在平面与磨头抛光端面所在平面为垂直相交。
优选的，所述凹槽横截面整体包括菱形、米字形、回字形、O字型。
优选的，所述磨头表面中心点上设置开口宽度为1～4mm的通孔，所述通孔一端与所述凹槽相通，另一端与所述磨头外侧面相通。
优选的，所述磨头尺寸为所加工产品内凹平台面长、宽尺寸同比例缩小为原尺寸的2/3±2mm。凹槽宽度为1～4mm。
优选的，所述抛光端面上设置有空洞，所述空洞的横截面整体形状与所述凹槽整体形状为相似图形。
优选的，所述空洞的横截面面积为所述磨头抛光端面的横截面面积的30-60％。
优选的，所述磨头抛光端面粗糙度约为300～500nm。
优选的，所述磨头R角值与内凹平台面R角值相同。
优选的，所述磨头厚度为12.5-13.5mm。
本发明具有以下有益效果：
采用上述磨头对镜片进行抛光时，由于磨头表面设置有相互连通的凹槽，凹槽与流通抛光液的通孔相连，则抛光液可顺着对称的凹槽均匀至研磨表面各处，使得采用此抛光磨头加工出来的产品表面粗糙度均衡，抛光效果好，抛光效率高，良率高。
除了上面所描述的目的、特征和优点之外，本发明还有其它的目的、特征和优点。下面将参照图，对本发明作进一步详细的说明。
附图说明
构成本申请的一部分的附图用来提供对本发明的进一步理解，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：
图1是本发明优选实施例的表面设置有凹槽的磨头结构示意图之一；
图2是本发明优选实施例的表面设置有凹槽的磨头结构示意图之二；
图3是本发明优选实施例的表面设置有凹槽和空洞的磨头结构示意图之三；
图4是本发明优选实施例的表面设置有凹槽的磨头结构示意图之四；
其中，1、磨头，2、凹槽，3、空洞。
具体实施方式
以下结合附图对本发明的实施例进行详细说明，但是本发明可以根据权利要求限定和覆盖的多种不同方式实施。
参见图1，一种用于蓝宝石镜面抛光用磨头，磨头1的抛光端面上设有相互连通的凹槽2；所述凹槽横截面整体形状以研磨面的对称轴为轴对称；即包括菱形、米字形、回字形、O字型等对称图形。
凹槽横截面指水平面横切凹槽所得到的截面。凹槽横截面整体形状可理解为凹陷部分的整体形状，或者凸起部分的横截面整体形状。在实际产品中，横截面整体形状可能并不完整，线条可能被打断或有少许偏移，但从使用者的整体印象上来说，能将该形状与我们熟知的上述形状联想到一起即可。凹槽的深度范围可为0.5～10mm，宽度可为1～4mm。
凹槽的侧面所在平面与磨头抛光端面所在平面为垂直相交；若是斜面或弧面，可能会对产品抛光后的表面造成不良影响。
磨头表面设置开口宽度为1～4mm的通孔，所述通孔一端与所述凹槽相通，另一端与所述磨头外侧面相通，用于流通抛光液。通孔可以设置在所述磨头的中心点上，利于抛光液的平均扩散。
磨头1的抛光端面上还设置有空洞3，所述空洞3的横截面形状与所述凹槽整体形状为相似图形；相似图形是指边数相等、对应角相等、对应边成比例的若干个图形，包括多边形和圆形。例如凹槽整体形状为圆形，则空洞的横截面形状也为圆形。
在本申请文件中，凹槽2指被多个突起分隔开的较为狭长的凹陷结构，空洞3指内部无突起、任意两个侧面之间都无障碍的凹陷结构。
所述空洞3的面积可为所述磨头的抛光端面面积的50％～85％；大避空面积不但利于抛光液的流通，并且空洞处没有与镜片接触，避免中间部分的磨损。以长27mm、宽22mm的磨头为例：其总面积约为594mm2，小面积避空后其面积约为356.4mm2，约占磨头研磨面面积的60％，空洞面积为30％；大面积避空后其面积约为178.2mm2，约占磨头研磨面面积的30％，空洞面积为60％。
位于磨头凹槽或空洞的边缘上设有至少一个缺口，用于抛光液从磨头外流入磨头凹槽和空洞内部，提高抛光效率。
该缺口的开口深度可为1～10mm，宽度为1-4mm。缺口本身为对称结构，若干个不同侧壁上的缺口也可相互为对称设置，以使得研磨液的平均分布；内外层的缺口位置可在经过磨头中心点的同一条直线上，便于研磨液的流通。缺口的位置平均分布在磨头边缘(侧壁)上，利于抛光液向两侧均匀扩散，不累积在入口处。
在具体实施例中，所述磨头尺寸为所加工产品内凹平台面长、宽尺寸同比例缩小为原尺寸的2/3±2mm。磨头抛光端面粗糙度约为300～500nm。磨头R角值与内凹平台面R角值相同。
磨头上下面总体厚度为12.5-13.5mm，即磨头在使用寿命内可以使用的全部厚度，从空洞顶端至磨头底端的距离。在实际使用中，但磨头被逐渐磨损，凹槽和空洞的槽深逐渐减小，可对磨头进行二次加工，继续加深空洞槽深。但如在初次开槽时，一次加工至最大深度，则槽内所需的抛光液过多，不利于抛光加工。
具体实施例如下。
实施例一、
产品内凹平台面长为33.00mm，宽为27.00mm，四角圆弧半径R为2mm；内凹平台面积为33*27＝891mm2；
磨头尺寸为：长29.7mm，宽20mm，四角圆弧半径R与平台四角R相同；磨头的抛光端面面积为29.7*20＝594mm2；为内凹平台面积的2/3大小；
磨头的抛光端面上设有菱形凹槽，凹槽的深度范围为5mm，宽度为3mm；表面设置半径为3mm的通孔与凹槽相通；凹槽的侧面所在平面与磨头抛光端面所在平面为垂直相交；
磨头研磨抛光端面的平整度为0.01mm±0.005mm；
在偏摆抛光机上使用上述铜磨头配2-4um金刚石液粗抛蓝宝石产品内凹平台表面500～1000S，厚度去除量能达到约0.02～0.04mm，粗糙度Ra值达到约4～6nm，清洗检验良品良率为89.3％。
在本实施例的凹槽横截面整体形状替换为米字形、回字形、O字型时，也取得相同的效果。
而使用普通平面磨头抛光蓝宝石内凹平台面的良率只有70％左右，去除量只有0.007～0.018mm，TTV在0.015～0.03mm。
实施例二、
在实施例1的磨头上，加工出磨头端面中间部份需小面积避空的区域，即在抛光端面上设置有空洞，所述空洞的横截面整体形状与所述凹槽整体形状为相似图形，也为菱形；并将通孔移至研磨面正中间。
菱形空洞的面积为磨头抛光端面的横截面面积的40％；
磨头研磨抛光端面的平整度为0.01mm±0.005mm；
在偏摆抛光机加上述规格磨头配1-2um金刚石液抛光蓝宝石产品内凹平台表面100～400S，厚度去除量能达到约0.002～0.004mm，粗糙度Ra值达到约1.5～2.5nm，TTV在0.01mm以内，产品良率达到85％以上。
在本实施例的凹槽横截面整体形状替换为米字形、回字形、O字型时，也取得相同的效果。
而使用普通平面磨头抛光蓝宝石内凹平台面的良率只有70％左右，去除量只有0.007～0.018mm，TTV在0.015～0.03mm。
实施例三、
在实施例1的磨头上，加工出磨头端面中间部份需大面积避空的区域，即在抛光端面上设置有空洞，所述空洞的横截面整体形状与所述凹槽整体形状为相似图形，也为菱形；
菱形空洞的面积为磨头抛光端面的横截面面积的55％；
磨头研磨抛光端面的平整度为0.01mm±0.005mm；
在偏摆抛光机加上述规格磨头配1-2um金刚石液抛光蓝宝石产品内凹平台表面100～400S，厚度去除量能达到约0.004～0.006mm，粗糙度Ra值达到约1.5～2.5nm，TTV在0.01mm以内，产品良率达到85％以上。
在本实施例的凹槽横截面整体形状替换为米字形、回字形、O字型时，也取得相同的效果。
而使用普通平面磨头抛光蓝宝石内凹平台面的良率只有70％左右，去除量只有0.007～0.018mm，TTV在0.015～0.03mm。
实施例四、
在实施例一的磨头上，加工出磨头端面中间部份需小面积避空的磨头，即在抛光端面上设置有空洞，所述空洞的横截面整体形状与所述凹槽横截面整体形状相似，凹槽整体横截面形状为矩形上多处开口形成的米字形，空洞为矩形；
菱形空洞的面积为磨头抛光端面的横截面面积的34％；
磨头研磨抛光端面的平整度为0.01mm±0.005mm；
在偏摆抛光机加上述规格磨头配1-2um金刚石液抛光蓝宝石产品内凹平台表面100～400S，厚度去除量能达到约0.005～0.009mm，粗糙度Ra值达到约1.5～2nm，TTV在0.01mm以内，产品良率达到85％以上。
在本实施例的凹槽横截面整体形状替换为米字形、回字形、O字型时，也取得相同的效果。
而使用普通平面磨头抛光蓝宝石内凹平台面的良率只有70％左右，去除量只有0.007～0.018mm，TTV在0.015～0.03mm。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (6)
1.一种用于蓝宝石镜面抛光用磨头，其特征在于，所述磨头的抛光端面上设有相互连通的凹槽，所述凹槽横截面整体形状以研磨面的对称轴为轴对称；所述凹槽的深度范围为0.5-10mm；
所述凹槽的侧面所在平面与磨头抛光端面所在平面为垂直相交；
所述抛光端面上设置有空洞，所述空洞的横截面整体形状与所述凹槽横截面整体形状为相似图形；
所述空洞的横截面面积为所述磨头抛光端面的横截面面积的30-60％；空洞处没有与镜片接触，避免中间部分的磨损；
所述磨头尺寸为所加工产品内凹平台面长、宽尺寸同比例缩小为原尺寸的2/3±2mm；
所述凹槽的宽度为1-4mm。
2.根据权利要求1所述的磨头，其特征在于，所述凹槽横截面整体形状包括菱形、米字形、回字形、O字型。
3.根据权利要求2所述的磨头，其特征在于，所述磨头表面中心点上设置开口宽度为1～4mm的通孔，所述通孔一端与所述凹槽相通，另一端与所述磨头外侧面相通。
4.根据权利要求1所述的磨头，其特征在于，所述磨头抛光端面粗糙度为300～500nm。
5.根据权利要求1所述的磨头，其特征在于，所述磨头R角值与内凹平台面R角值相同。
6.根据权利要求1所述的磨头，其特征在于，所述磨头厚度为12.5-13.5mm。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201510270821.1A CN104827386B (zh) | 2015-05-25 | 2015-05-25 | 一种用于蓝宝石镜面抛光用磨头 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201510270821.1A CN104827386B (zh) | 2015-05-25 | 2015-05-25 | 一种用于蓝宝石镜面抛光用磨头 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN104827386A CN104827386A (zh) | 2015-08-12 |
| CN104827386B true CN104827386B (zh) | 2018-10-12 |
Family
ID=53805771
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201510270821.1A Active CN104827386B (zh) | 2015-05-25 | 2015-05-25 | 一种用于蓝宝石镜面抛光用磨头 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN104827386B (zh) |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7004823B2 (en) * | 2000-06-19 | 2006-02-28 | Struers A/S | Multi-zone grinding and/or polishing sheet |
| CN100395079C (zh) * | 2004-11-10 | 2008-06-18 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种数控抛光用非接触式喷液磨头 |
| CN201702666U (zh) * | 2010-04-13 | 2011-01-12 | 王敬 | 硅锭的抛光系统及抛光板 |
| KR101819539B1 (ko) * | 2011-11-29 | 2018-01-17 | 캐보트 마이크로일렉트로닉스 코포레이션 | 기초 레이어 및 연마면 레이어를 가진 연마 패드 |
| CN203665305U (zh) * | 2013-10-31 | 2014-06-25 | 重庆晶宇光电科技有限公司 | 光学晶片研磨盘 |
| CN103878684B (zh) * | 2014-03-06 | 2016-03-02 | 浙江工业大学 | 一种带有抛光功能的研磨盘 |
| CN104400623A (zh) * | 2014-12-11 | 2015-03-11 | 烟台艾迪液压科技有限公司 | 用于超精密研磨加工的阿基米德螺旋纹研磨盘 |
-
2015
- 2015-05-25 CN CN201510270821.1A patent/CN104827386B/zh active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN104827386A (zh) | 2015-08-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN103747916B (zh) | 精加工玻璃板的边缘的方法 | |
| CN100551620C (zh) | 一种数控抛光用气封抽液非接触式喷液磨头 | |
| CN102350661A (zh) | 一种超薄玻璃边角加工方法及专用cnc刀具 | |
| CN101996863B (zh) | 用于制造抛光的半导体晶片的方法 | |
| CN104827386B (zh) | 一种用于蓝宝石镜面抛光用磨头 | |
| CN204702802U (zh) | 一种不损伤镜片表面的组合式镀膜夹具 | |
| CN106625035A (zh) | 一种手机后盖用3d氧化锆陶瓷的加工方法 | |
| CN106272010B (zh) | 一种蓝宝石镜面基片内凹平台面的研磨抛光方法 | |
| CN100395079C (zh) | 一种数控抛光用非接触式喷液磨头 | |
| CN105252408B (zh) | 一种孔内壁研磨抛光夹具 | |
| TW202128347A (zh) | 用於高機械強度薄玻璃基板之邊緣修整的方法與設備 | |
| CN109561607A (zh) | 电子设备外壳、外壳加工方法及装置 | |
| CN103817026B (zh) | 一种用于光学元件加工的射流喷嘴 | |
| CN104708528B (zh) | 玻璃板和玻璃板的制造装置以及玻璃板的制造方法 | |
| CN108098556A (zh) | 一种3d玻璃板的抛光装置及抛光方法 | |
| CN104816259A (zh) | 一种用于蓝宝石镜面抛光用磨头 | |
| CN106363511A (zh) | 一种陶瓷面板的直身位抛光方法及陶瓷面板 | |
| CN211465991U (zh) | 一种高耐磨复合游星轮 | |
| CN210997946U (zh) | 一种手机屏幕抛光用防撞碎游星轮 | |
| CN209020806U (zh) | 一种陶瓷清洁石 | |
| CN209793439U (zh) | 快速冷却磨头及研磨装置 | |
| CN207771567U (zh) | 圆点型研磨盘组 | |
| JP2013163235A (ja) | 光学素子加工用工具及び光学素子製造方法 | |
| TWM549132U (zh) | 晶圓研磨結構 | |
| KR20170108221A (ko) | 기판 가공장치 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| EXSB | Decision made by sipo to initiate substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |