CN104793387A - 显示面板及显示装置 - Google Patents

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Tianma Microelectronics Co Ltd
Shanghai AVIC Optoelectronics Co Ltd
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Abstract

本发明公开了一种显示面板及显示装置，包括相对设置的第一基板和阵列基板；第一基板包括多个支撑柱遮敝区；阵列基板包括多个支撑柱放置区，每一支撑柱放置区分别位于一支撑柱遮蔽区在阵列基板的投影区域内，且支撑柱遮蔽区的面积大于与其对应的支撑柱放置区的面积；多个相互独立的触控电极；以及，多条触控电极引线，触控电极引线与触控电极设置于不同导电层，且每一触控电极引线分别通过一过孔与一触控电极连接，且每一过孔的设置区分别与一支撑柱遮蔽区在阵列基板的投影区域具有交叠区域。即过孔的设置区可以部分或者全部设置于支撑柱遮蔽区在阵列基板的投影区域内，减小过孔的设置区对阵列基板的透光面积造成的影响，提高显示装置的透光率。

Description

显示面板及显示装置
技术领域
本发明涉及图像显示技术领域，更为具体的说，涉及一种显示面板及显示装置。
背景技术
触控显示的发展初始阶段，触控显示面板是由触控面板与显示面板贴合而成，以实现触控显示。需要单独制备触控面板与显示面板，成本高，厚度较大，且生产效率低。
随着自容式触控显示一体化技术的发展，可以将显示面板中阵列基板的公共电极层兼做自容式触控检测的触控电极层，通过分时驱动，分时序的进行触控控制与显示控制，可以同时实现触控与显示功能。这样，将触控电极直接集成在显示面板内，大大降低了制作成本，提高了生产效率，并降低了面板厚度。
当复用公共电极作为触控电极时，需要将公共电极层分割为多个独立的公共电极。同时，为了实现触控与显示的分时控制，每个触控电极通过单独的触控电极引线提供信号，通过触控电极引线，在触控时段为对应触控电极提供触控感测信号，在显示时段为对应触控电极提供显示驱动电压。但是，现有的自容式触控显示装置，其透光率低。
发明内容
有鉴于此，本发明提供了一种显示面板及显示装置，触控电极引线与触控电极之间的过孔的设置区，与支撑柱遮蔽区在阵列基板的投影区域有交叠区域，进而可以保证阵列基板的透光面积大，提高显示装置的透光率，提高显示装置的显示效果。
为实现上述目的，本发明提供的技术方案如下：
一种显示面板，所述显示面板包括：相对设置的第一基板和阵列基板；
其中，所述第一基板包括多个支撑柱遮敝区；
所述阵列基板包括：多个支撑柱放置区，每一支撑柱放置区分别位于一支撑柱遮蔽区在所述阵列基板的投影区域内，且所述支撑柱遮蔽区的面积大于与其对应的所述支撑柱放置区的面积；
多个相互独立的触控电极；
以及，多条触控电极引线，所述触控电极引线与所述触控电极设置于不同导电层，且每一触控电极引线分别通过一过孔与一触控电极连接，且每一过孔的设置区分别与一支撑柱遮蔽区在所述阵列基板的投影区域具有交叠区域。
可选的，所述多个支撑柱放置区包括：
多个主支撑柱放置区和多个辅支撑柱放置区，且所述主支撑柱放置区的面积大于所述辅支撑柱放置区的面积，其中，所述过孔的设置区位于所述主支撑柱所对应的支撑柱遮蔽区内，且与所述主支撑柱设置区具有交叠区域。
可选的，所述过孔的设置区设置于所述主支撑柱放置区内。
可选的，所述多个相互独立的触控电极为所述阵列基板的公共电极分割而成。
可选的，所述阵列基板包括驱动电极层，所述驱动电极层包括像素电极和所述公共电极；
其中，自所述阵列基板的透光方向，所述像素电极位于所述公共电极上方，且所述像素电极和所述公共电极之间相互绝缘。
可选的，所述阵列基板包括驱动电极层，所述驱动电极层包括像素电极和所述公共电极；
其中，自所述阵列基板的透光方向，所述公共电极位于所述像素电极上方，且所述像素电极和所述公共电极之间相互绝缘。
可选的，所述阵列基板包括驱动电极层，所述驱动电极层包括像素电极和所述公共电极；
其中，所述公共电极和所述像素电极同层设置，且所述像素电极和所述公共电极之间相互绝缘。
可选的，所述触控电极引线与所述像素电极设置于同一导电层；
或者，所述触控电极引线设置于所述像素电极和公共电极之间的导电层。
可选的，自所述阵列基板的透光方向，所述触控电极引线设置于所述驱动电极的上方或下方。
相应的，本发明还提供了一种显示装置，所述显示装置包括上述的显示面板。
相较于现有技术，本发明提供的技术方案至少具有以下优点：
本发明提供的一种显示面板及显示装置，所述显示面板包括：相对设置的第一基板和阵列基板；其中，所述第一基板包括多个支撑柱遮敝区；所述阵列基板包括：多个支撑柱放置区，每一支撑柱放置区分别位于一支撑柱遮蔽区在所述阵列基板的投影区域内，且所述支撑柱遮蔽区的面积大于与其对应的所述支撑柱放置区的面积；多个相互独立的触控电极；以及，多条触控电极引线，所述触控电极引线与所述触控电极设置于不同导电层，且每一触控电极引线分别通过一过孔与一触控电极连接，且每一过孔的设置区分别与一支撑柱遮蔽区在所述阵列基板的投影区域具有交叠区域。
由上述内容可知，本发明提供的技术方案，触控电极引线和触控电极之间的过孔的设置区，与相应的支撑柱遮蔽区具有交叠区域。即过孔的设置区可以部分或者全部设置于支撑柱遮蔽区在阵列基板的投影区域内，进而减小过孔的设置区对阵列基板的透光面积造成的影响，保证阵列基板的透光面积大，进而提高显示装置的透光率，提高显示装置的显示效果。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。
图1为现有的一种阵列基板的触控结构示意图；
图2为本申请实施例提供的一种显示面板的结构示意图；
图3为本申请实施例提供的一种阵列基板的结构示意图；
图4为本申请实施例提供的另一种阵列基板的结构示意图；
图5为本申请实施例提供的一种顶栅型阵列基板的结构示意图；
图6为本申请实施例提供的一种底栅型阵列基板的结构示意图；
图7为本申请实施例提供的一种显示装置的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
正如背景技术所述，现有的自容式触控显示装置，其透光率低。发明人研究发现，触控电极引线与其对应的触控电极之间的过孔，对阵列基板的透光区造成影响，降低了阵列基板的透光面积，进而影响显示装置的透光率，降低显示装置的显示效果。
参考图1所示，为现有的一种阵列基板的触控结构示意图，阵列基板包括多个相互独立的触控电极101，每个触控电极101均通过各自对应的触控电极引线102连接至驱动电路IC，驱动电路IC输出触控感测信号并通过触控引线102传输至与其对应的触控电极101上。由于触控电极引线102与触控电极101设置于不同导电层，因此两者之间需要通过过孔103实现电性连接，且过孔103的设置区将对阵列基板的透光区造成影响，降低了阵列基板的透光面积，进而影响显示装置的透光率，降低显示装置的显示效果。
基于此，本申请实施例提供了一种显示面板，其中，触控电极引线与触控电极之间的过孔的设置区，与支撑柱遮蔽区在阵列基板上的投影区域具有交叠区域，减小过孔的设置区对阵列基板的透光面积造成的影响，进而可以保证阵列基板的透光面积大，提高显示装置的透光率，提高显示装置的显示效果。具体结合图2至图6所示，对本申请实施例提供的显示面板进行详细的描述。
结合图2和图3所示，图2为本申请实施例提供的一种显示面板的结构示意图，图3为本申请实施例提供的一种阵列基板的结构示意图。其中，参考图2所示，显示面板包括：
相对设置的阵列基板201和第一基板202。
其中，第一基板202包括多个支撑柱遮敝区；
另外，参考图3所示，阵列基板201包括：多个支撑柱放置区10，每一支撑柱放置区10分别位于一支撑柱遮蔽区在阵列基板的投影区域20内，且支撑柱遮蔽区的面积大于与其对应的支撑柱放置区10的面积；
多个相互独立的触控电极(未画出)；
以及，多条触控电极引线(未画出)，触控电极引线与触控电极设置于不同导电层，且每一触控电极引线分别通过一过孔与一触控电极连接，且每一过孔的设置区分别与一支撑柱遮蔽区在阵列基板201的投影区域20具有交叠区域。
具体的，本申请实施例提供的第一基板202可以为彩膜基板，且位于阵列基板201和彩膜基板202之间还设置有液晶层203。其中，在阵列基板201和第一基板202之间还设置有多个支撑柱204，以起到承载的作用。并且，支撑柱204一般设置于显示面板的显示区域，位于阵列基板201上的支撑柱设置区10四周即为像素区域30。
例如在液晶显示装置中，在阵列基板和彩膜基板之间设置支撑柱，以将两者分开且起到承载的作用。对于阵列基板上的支撑柱设置区，其被设置于第一基板中的支撑柱遮敝区所遮挡，避免显示装置在显示过程中将支撑柱所暴露；并且，支撑柱遮敝区的面积比其所对应支撑柱设置区的面积大，并将支撑柱放置区覆盖，即支撑柱放置区位于支撑柱遮敝区所在阵列基板的投影区域内。
进一步的，本申请实施中多个相互独立的触控电极为阵列基板的公共电极分割而成，避免了在制作过程中增加膜层的制备，节省了资源。对此本申请实施例不作具体限制，触控电极还可以通过在阵列基板制作过程中增加新的导电膜层而形成，对此需要根据实际应用进行具体制备。
由上述内容可知，本申请实施例提供的技术方案，
触控电极引线和触控电极之间的过孔的设置区，与相应的支撑柱遮蔽区具有交叠区域。即过孔的设置区可以部分或者全部设置于支撑柱遮蔽区在阵列基板的投影区域内，进而减小过孔的设置区对阵列基板的透光面积造成的影响，保证阵列基板的透光面积大，进而提高显示装置的透光率，提高显示装置的显示效果。
进一步的，为了进一步降低过孔的设置区对阵列基板的透光面积的影响，本申请实施例提供的过孔的设置区，与主支撑柱所对应的支撑柱遮蔽区在阵列基板的投影区域有交叠区域，且过孔的设置区与主支撑柱设置区有交叠区域。具体的，参考图4所示，为本申请实施例提供的另一种阵列基板的结构示意图，阵列基板包括：
多个支撑柱放置区10，且每一支撑柱放置区10分别位于一支撑柱遮蔽区在阵列基板的投影区域20内，且支撑柱遮蔽区的的面积大于与其对应的支撑柱放置区10，即支撑柱遮敝区在阵列基板的投影区域20的面积大于与其对应的支撑柱放置区10的面积；
其中，多个支撑柱放置区10包括：
多个主支撑柱放置区10a和多个辅支撑柱放置区10b，且主支撑柱放置区10a的面积大于辅支撑柱放置区10b的面积，其中，过孔的设置区位于主支撑柱所对应的支撑柱遮蔽区在阵列基板的投影区域20内，且与主支撑柱设置区具有交叠区域。
由上述内容可知，由于主支撑柱设置区的面积较大，因此，主支撑柱设置区对应的支撑柱遮蔽区的面积相对较大，能够更好的遮蔽过孔的设置区。更进一步的，过孔的设置区设置于主支撑柱设置区内。
对于本申请实施例提供的阵列基板，本申请对其类型不作具体限制：
例如，本申请实施例提供的阵列基板，其可以为顶栅型阵列基板，也可以为底栅型阵列基板，对此需要根据实际应用进行选取。具体结合图4和图5所示，对本申请实施例提供的阵列基板进行说明。
参考图5所示，为本申请实施例提供的一种顶栅型阵列基板的结构示意图，其中，阵列基板包括：
基板100；
设置于基板100任意一表面的栅极层200，栅极层200设置有多条栅极线和多个栅极G；
设置于栅极层200背离基板100一侧的栅介质层300；
设置于栅介质层300背离基板100一侧的源漏层400，源漏层400设置有多条数据线和多个源S/漏D极；
设置于源漏层400背离基板100一侧的第一绝缘层500；
以及，设置于第一绝缘层500背离基板100一侧的驱动电极层600。
其中，本申请实施例提供的阵列基板为顶栅型阵列基板，因此阵列基板还包括设置于基板100和栅极层200之间的半导体层700，半导体层700设置有多个有源区A；且阵列基板还包括设置于半导体层700和栅极层200之间的栅绝缘层800。
其中，栅极S、有源区A、源S/漏D极形成阵列基板上的薄膜晶体管。
此外，参考图6所示，为本申请实施例提供的一种底栅型阵列基板的结构示意图，其中，阵列基板包括：
基板100；
设置于基板100任意一表面的栅极层200，栅极层200设置有多条栅极线和多个栅极G；
设置于栅极层200背离基板100一侧的栅介质层300；
设置于栅介质层300背离基板100一侧的源漏层400，源漏层400设置有多条数据线和多个源S/漏D极；
设置于源漏层400背离基板100一侧的第一绝缘层500；
以及，设置于第一绝缘层500背离基板100一侧的驱动电极层600。
其中，本申请实施例提供的阵列基板为底栅型阵列基板，因此阵列基板还包括设置于栅介质层300和源漏层400之间的半导体层700，半导体层700设置于多个有源区A。
其中，栅极S、有源区A、源S/漏D极形成阵列基板上的薄膜晶体管。
由上述内容可知，本申请实施例提的阵列基板可以为顶栅型阵列基板，还可以为底栅型阵列基板。另外，对于本申请实施例提供的阵列基板，本申请实施例对其公共电极和像素电极的位置同样不作限定，具体的，阵列基板包括驱动电极层，驱动电极层包括像素电极和公共电极；
其中，自阵列基板的透光方向，像素电极位于公共电极上方，且像素电极和公共电极之间相互绝缘。或者，
阵列基板包括驱动电极层，驱动电极层包括像素电极和公共电极；
其中，自阵列基板的透光方向，公共电极位于像素电极上方，且像素电极和公共电极之间相互绝缘。或者，
阵列基板包括驱动电极层，驱动电极层包括像素电极和公共电极；
其中，公共电极和像素电极同层设置，且像素电极和公共电极之间相互绝缘。
基于上述实施例提供的阵列基板，当自阵列基板的透光方向，像素电极位于公共电极上方；或者，当自阵列基板的透光方向，公共电极位于像素电极上方时：
本申请实施例提供的触控电极引线与像素电极可以设置于同一导电层；
或者，本申请实施例提供的触控电极引线设置于像素电极和公共电极之间的导电层。
此外，当自阵列基板的透光方向，像素电极位于公共电极上方；或者，当自阵列基板的透光方向，公共电极位于像素电极上方；或者，当公共电极和像素电极同层设置时：
本申请实施例提供的触控电极引线，自阵列基板的透光方向，触控电极引线设置于驱动电极的上方或下方。
最后，本申请实施例还提供了一种显示装置，参考图7所示，为本申请实施例提供的一种显示装置的结构示意图，其中，显示装置包括上述实施例提供的显示面板301；
以及，设置于所述显示面板301受光面的背光模组302。
需要说明的是，本申请实施例图7中所示的箭头为背光模组的出光方向，即，背光模组设置于显示面板的受光面一侧。
本申请实施例提供的一种显示面板及显示装置，所述显示面板包括：相对设置的第一基板和阵列基板；其中，所述第一基板包括多个支撑柱遮敝区；所述阵列基板包括：多个支撑柱放置区，每一支撑柱放置区分别位于一支撑柱遮蔽区在所述阵列基板的投影区域内，且所述支撑柱遮蔽区的面积大于与其对应的所述支撑柱放置区的面积；多个相互独立的触控电极；以及，多条触控电极引线，所述触控电极引线与所述触控电极设置于不同导电层，且每一触控电极引线分别通过一过孔与一触控电极连接，且每一过孔的设置区分别与一支撑柱遮蔽区在所述阵列基板的投影区域具有交叠区域。
由上述内容可知，本申请实施例提供的技术方案，触控电极引线和触控电极之间的过孔的设置区，与相应的支撑柱遮蔽区具有交叠区域。即过孔的设置区可以部分或者全部设置于支撑柱遮蔽区在阵列基板的投影区域内，进而减小过孔的设置区对阵列基板的透光面积造成的影响，保证阵列基板的透光面积大，进而提高显示装置的透光率，提高显示装置的显示效果。
对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括：相对设置的第一基板和阵列基板；
其中，所述第一基板包括多个支撑柱遮敝区；
所述阵列基板包括：多个支撑柱放置区，每一支撑柱放置区分别位于一支撑柱遮蔽区在所述阵列基板的投影区域内，且所述支撑柱遮蔽区的面积大于与其对应的所述支撑柱放置区的面积；
多个相互独立的触控电极；
以及，多条触控电极引线，所述触控电极引线与所述触控电极设置于不同导电层，且每一触控电极引线分别通过一过孔与一触控电极连接，且每一过孔的设置区分别与一支撑柱遮蔽区在所述阵列基板的投影区域具有交叠区域。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述多个支撑柱放置区包括：
多个主支撑柱放置区和多个辅支撑柱放置区，且所述主支撑柱放置区的面积大于所述辅支撑柱放置区的面积，其中，所述过孔的设置区位于所述主支撑柱所对应的支撑柱遮蔽区在所述阵列基板的投影区域内，且与所述主支撑柱设置区具有交叠区域。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述过孔的设置区设置于所述主支撑柱放置区内。
4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述多个相互独立的触控电极为所述阵列基板的公共电极分割而成。
5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板包括驱动电极层，所述驱动电极层包括像素电极和所述公共电极；
其中，自所述阵列基板的透光方向，所述像素电极位于所述公共电极上方，且所述像素电极和所述公共电极之间相互绝缘。
6.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板包括驱动电极层，所述驱动电极层包括像素电极和所述公共电极；
其中，自所述阵列基板的透光方向，所述公共电极位于所述像素电极上方，且所述像素电极和所述公共电极之间相互绝缘。
7.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板包括驱动电极层，所述驱动电极层包括像素电极和所述公共电极；
其中，所述公共电极和所述像素电极同层设置，且所述像素电极和所述公共电极之间相互绝缘。
8.根据权利要求5或6所述的显示面板，其特征在于，所述触控电极引线与所述像素电极设置于同一导电层；
或者，所述触控电极引线设置于所述像素电极和公共电极之间的导电层。
9.根据权利要求5～7任意一项所述的显示面板，其特征在于，自所述阵列基板的透光方向，所述触控电极引线设置于所述驱动电极的上方或下方。
10.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括权利要求1～9任意一项所述的显示面板。
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