CN104777660A - 显示装置 - Google Patents
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Abstract
显示装置包括第一基础基板、第二基础基板、像素、第一偏光器以及第二偏光器。第一基础基板包括透光区域和围绕每个透光区域的遮光区域。像素分别与透光区域重叠。第一偏光器和第二偏光器彼此间隔开,从而使像素布置在其间。第一偏光器和第二偏光器的至少一个包括多个光学转换层,每个光学转换层包括多个格状配线。
Description
相关申请的交叉引用
本申请要求于2014年1月13日提交的韩国专利申请第10-2014-0004085号的优先权,通过引用将其全部内容结合在此。
技术领域
本公开整体涉及显示装置。更具体地,本公开涉及包括光学转换层的显示装置。
背景技术
一般而言,诸如液晶显示装置的非发光显示装置使用外部光来显示图像。例如,液晶显示装置包括液晶显示面板和背光单元。液晶显示面板使用由背光单元提供的光显示图像。
液晶显示面板包括两个显示基板以及插入在两个显示基板之间的液晶层。两个偏光膜分别布置在两个显示基板上。两个偏光膜使从背光单元发射的光偏振。根据液晶层中的液晶分子的排列方式由背光单元产生的光可以或者不可以通过液晶显示面板传播。
发明内容
本公开提供具有改善的显示质量和发光效率的显示装置。
根据示例性实施方式的本公开的一方面提供了包括第一基础基板、第二基础基板、像素、第一偏光器以及第二偏光器的显示装置。第一基础基板包括透光区域和围绕每个透光区域的遮光区域。像素分别与透光区域重叠。第一偏光器和第二偏光器彼此间隔开从而使像素布置在其间。第一偏光器和第二偏光器的至少一个包括多个光学转换层,每个光学转换层包括多个格状配线。
多个光学转换层可包括包含第一组格状配线(lattice wire)的第一光学转换层以及包含第二组格状配线的第二光学转换层,其中,第二组格状配线基本上平行于第一组格状配线。
第一光学转换层和第二光学转换层可布置在第一基础基板上。
第一光学转换层和第二光学转换层可布置为使得第一基础基板布置在第一光学转换层和第二光学转换层之间。
第一光学转换层和第二光学转换层可布置在第一基础基板的相同侧上。
第一光学转换层和第二光学转换层可布置在第一基础基板的表面与像素之间。
第一光学转换层和第二光学转换层的至少一个可包括:偏光部分,包括第一组格状配线和第二组格状配线中的相应格状配线,并且当沿着垂直于第一基础基板的主表面的方向观察时与透光区域重叠;以及反射部分,覆盖遮光区域。
第一光学转换层可包括包含第一组格状配线的偏光部分和反射部分,并且第二光学转换层包括包含第二组格状配线的偏光部分。
相应的格状配线和反射部分可由相同的材料制成。
每个像素可包括连接至布置在第一基础基板上的栅极线的相应栅极线和布置在第一基础基板上的数据线的相应数据线的薄膜晶体管、以及连接至薄膜晶体管的像素电极。
当沿着垂直于第一基础基板的主表面的方向观察时,偏光部分可与像素电极重叠并且反射部分可与薄膜晶体管重叠。
第一组格状配线和第二组格状配线的每一组可具有约50nm至约150nm的高度。
当第一组格状配线中的两个相邻的格状配线在排列第一组格状配线的方向上的之间的距离与两个相邻的格状配线的其中一个格状配线在该方向上的宽度的总和被定义为间距时,在该方向上的一个格状配线的宽度与间距的比在从约0.3:1至约0.6:1的范围内。
第二组格状配线可具有与第一组格状配线相同的间距并且第二组格状配线可具有与第一组格状配线相同的宽度。
第一组格状配线和第二组格状配线的每一组可包括金属层和覆盖金属层的金属氧化物层。
多个偏光器可进一步包括第三光学转换层,第三光学转换层包括在与第一组格状配线相同的方向上延伸并且在与第一组格状配线相同的方向上排列的第三组格状配线。
第二偏光器可以是拉伸型(stretch-type)偏光膜。
第二偏光器可包括第三光学转换层和第四光学转换层,其中,第三光学转换层包括第三组格状配线,第四光学转换层包括在与第三组格状配线相同的方向上延伸并且在与第三组格状配线相同的方向上排列的第四组格状配线,并且第三光学转换层和第四光学转换层布置在第二基础基板上。
显示装置可进一步包括:黑矩阵,当沿着垂直于第一基础基板的主表面的方向观察时与遮光区域重叠,以及多个滤色器,当沿着垂直于第一基础基板的主表面的方向观察时与透光区域重叠。
在另一方面中,显示装置包括第一基础基板、第二基础基板、多个像素、第一偏光器以及第二偏光器。第一基础基板和第二基础基板布置为彼此间隔开。第一基础基板包括多个透射区域和布置为邻近于透射区域的遮光区域。
像素布置在第一基础基板和第二基础基板之间并且分别与透射区域重叠。第一偏光器和第二偏光器彼此间隔开,从而使像素布置在其间。
第一偏光器和第二偏光器的至少一个包括布置在彼此不同的层上的多个光学转换层,并且每个光学转换层包括多个格状图案。
第一偏光器包括第一光学转换层和第二光学转换层。第一光学转换层包括多个第一格状图案并且第二光学转换层包括在与第一格状图案相同的方向上延伸并且在与第一格状图案相同的方向上排列的多个第二格状图案。第一光学转换层和第二光学转换层布置在彼此不同的层上。
第一光学转换层和第二光学转换层布置在第一基础基板上。第一光学转换层和第二光学转换层布置为使得第一基础基板布置在第一光学转换层和第二光学转换层之间。第一光学转换层和第二光学转换层布置在第一基础基板和像素之间。
第一光学转换层和第二光学转换层的至少一个包括偏光部分和反射部分。偏光部分包括第一格状图案和第二格状图案中的相应格状图案并且与透射区域重叠。反射部分覆盖遮光区域。
偏光部分和反射部分包括相同的材料。
每个像素包括薄膜晶体管和像素电极。薄膜晶体管连接至布置在第一基础基板上的栅极线的相应栅极线和布置在第一基础基板上的数据线的相应数据线。像素电极连接至薄膜晶体管。
偏光部分与像素电极重叠并且反射部分与薄膜晶体管重叠。
第二偏光器是拉伸型偏光膜。
每个第一格状图案包括铝层和覆盖铝层的氧化铝层。
第一格状图案在与第二格状图案相同的方向上延伸。
每个第一格状图案和每个第二格状图案具有约50nm至约150nm的高度。
第一格状图案的两个相邻的格状图案在排列第一格状图案的方向上的之间的距离和两个相邻的格状图案的其中一个格状图案在该方向上的宽度的总和被定义为间距时,在该方向上的一个格状图案的宽度与间距的比在从约0.3:1至约0.6:1的范围内。
第二格状图案具有与第一格状图案相同的间距并且第二格状图案具有与第一格状图案相同的宽度。
根据上述,布置为彼此重叠的光学转换层改善了穿过偏光器的光的偏振。虽然第一光学转换层和第二光学转换层的其中一个被损坏,但是第一光学转换层和第二光学转换层的另一个可使入射至偏光器的光偏振。
包括在第一光学转换层和第二光学转换层的至少一个中的反射部分反射从背光单元提供的光而不会吸收光。反射的光被包括在背光单元中的光学构件再次反射,并随后入射至液晶显示面板。因此,被消耗的光量减少并且入射至液晶显示面板的光量增加,从而提高发光效率。
附图说明
通过参考结合附图考虑的以下详细描述,本公开的以上及其他优点将变得显而易见,其中:
图1是示出根据本公开的实例实施方式的显示装置的框图;
图2是示出图1中示出的显示面板的一部分的立体视图;
图3是示出根据本公开的实例实施方式的像素的平面视图;
图4是根据本公开的实例实施方式的显示面板的截面视图;
图5是示出图4中示出的部分AA的放大视图;
图6是示出图5中示出的格状图案的放大视图;
图7A和图7B是示出根据本公开的实例实施方式的第一光学转换层和第二光学转换层的平面视图;
图8是示出第一格状图案和第二格状图案的排列方式的视图;
图9是示出损坏的光学转换层的扫描电子显微镜(SEM)图像;
图10是示出根据光学转换层的结构和损坏的格状图案的消光比的柱状图;
图11是示出根据本公开的实例实施方式的提供至第一偏光器的光行进的方向的截面视图;
图12是根据本公开的实例实施方式的第二光学转换层的平面视图;
图13A至图13E是示出根据本公开的实例实施方式的显示面板的截面视图;以及
图14A至图14I是示出根据本公开的实例实施方式的偏光器的制造方法的立体视图。
具体实施方式
将理解,当元件或层被称为“在”另一元件或层“上”、“连接至”或“耦接至”另一元件或层时,其可以直接在另一元件或层上、直接连接或耦接至另一元件或层,或者可存在中间元件或层。相反,当元件被称为“直接在”另一元件或层“上”、“直接连接至”或“直接耦接至”另一元件或层时,则不存在任何中间元件或层。相同的参考标号表示遍及全文的相同元件。如本文使用的,术语“和/或”包括一个或多个相关列出项的任何与全部组合。
将理解,尽管在本文中可使用术语“第一”、“第二”等来描述各种元件、部件、区域、层和/或部分,然而,这些元件、部件、区域、层和/或部分不应受这些术语限制。这些术语仅用于将一个元件、部件、区域、层或部分与另一区域、层或者部分区分开。因此,在不背离本公开的教导的前提下,下面讨论的第一元件、部件、区域、层或部分可被称为第二元件、部件、区域、层或者部分。
为了便于描述,在本文中可使用诸如“下面”、“下方”、“下部”、“上方”、“上部”等空间相对术语来描述如附图中示出的一个元件或特征与另一(或另外多个)元件或特征的关系。将理解,空间相对术语旨在包括除图中描绘的方位之外的装置在使用或操作时的不同方位。例如,如果图中的装置被翻转,则被描述为在其他元件或特征的“下方”或“下面”的元件将被定位为在其他元件或特征“上方”。因此,示例性术语“下方”可包括上方和下方两个方位。装置可以其他方式定位(旋转90度或处于其他方位)并且相应地解释本文所用的空间相对描述符。
本文中所使用的术语仅是为了描述具体实施方式的目的,并且并不旨在限制本发明。如文中所使用的,单数形式“一”“一个”和“该”旨在也包括复数形式,除非上下文另外明确表示。将进一步理解,当在本说明书中使用术语“包括”和/或“包含”时,规定指定特征、整体、步骤、操作、元件和/或部件的存在,而并不排除一个或多个其他特征、整体、步骤、操作、元件、部件和/或其组合的存在或添加。
除非另有明确定义,否则,本文使用的所有术语(包括技术和科学术语)具有与本发明所属领域的普通技术人员通常理解的相同含义。将进一步理解的是,术语(诸如在通常使用的词典中定义的那些)应被解释为具有与其在相关领域的背景下的含义一致的含义并且将不以理想化或者过于正式的含义来解释,除非本文中对此有明确规定。
在下文中,将参考附图详细说明本公开的实例实施方式。
图1是示出根据本公开的实例实施方式的显示装置的框图,以及图2是示出图1中示出的显示面板的一部分的立体视图。将使用液晶显示装置作为显示装置来描述本实例实施方式,但是显示装置不应限于液晶显示装置,并且本实例实施方式的技术可应用或者延伸至包括偏光器的任何其他显示装置。
转至图1,液晶显示装置包括液晶显示面板DP、信号控制器100、栅极驱动器200、数据驱动器300、背光单元BLU以及两个偏光器(未示出)。
液晶显示面板DP包括多个信号线和连接至信号线的多个像素PX11至PXnm。信号线包括多个栅极线GL1至GLn以及多个数据线DL1至DLm。栅极线GL1至GLn在第一方向DR1(例如,图1中的水平方向)上延伸并且在第二方向DR2(例如,图1中的垂直方向)排列上。数据线DL1至DLm与栅极线GL1至GLn绝缘同时与栅极线GL1至GLn交叉。例如,数据线DL1至DLm未电连接至栅极线GL1至GLn。虽然未在图中示出,信号线可进一步包括对应于栅极线GL1至GLn的多个公共线。
如图1所示,像素PX11至PXnm以矩阵形式排列。像素PX11至PXnm的每一个连接至栅极线GL1至GLn的相应栅极线以及数据线DL1至DLm的相应数据线。
液晶显示面板DP可以是但是不限于,垂直取向(VA)模式液晶显示面板、图案化垂直取向(PVA)模式液晶显示面板、面内切换(IPS)模式液晶显示面板、边缘场切换(FFS)模式液晶显示面板以及面线转换(PLS)模式液晶显示面板的其中一种。
信号控制器100接收输入图像信号RGB并且将输入图像信号RGB转换为适于操作液晶显示面板DP的图像数据R'G'B'。另外,信号控制器100接收诸如垂直同步信号、水平同步信号、主时钟信号、数据使能信号等的各种控制信号CS,并且输出第一控制信号CONT1和第二控制信号CONT2。例如,第一控制信号CONT1被传输至栅极驱动器200,并且第二控制信号CONT2被传输至数据驱动器300。此外,信号控制器100输出第三控制信号CONT3以控制背光单元BLU。第三控制信号CONT3可包括调光(dimming)信号。
栅极驱动器200响应于第一控制信号CONT1,将栅极信号施加至栅极线GL1至GLn。第一控制信号CONT1包括用于启动栅极驱动器200的操作的垂直启动信号、用于确定栅极电压的输出时序的栅极时钟信号、以及用于确定栅极电压的导通脉冲(on-pulse)宽度的输出使能信号。
数据驱动器300接收控制信号CONT2和图像数据R'G'B'。数据驱动器300将图像数据R'G'B'转换成数据电压并且将数据电压施加至数据线DL1至DLm。
第二控制信号CONT2包括用于启动数据驱动器300的操作的水平启动信号、用于反转数据电压的极性的反转信号、以及用于确定来自数据驱动器300的数据电压的输出时序的输出指示信号。
背光单元BLU响应于第三控制信号CONT3将光提供至液晶显示面板DP。背光单元BLU包括用于发射光的发光器件。背光单元BLU可以是边缘照明类型或者直接照明类型。边缘照明类型背光单元包括导光构件,并且直接照明类型背光单元不包括导光构件。边缘照明类型背光单元BLU和直接照明类型背光单元BLU的每一个可包括光学膜。例如,背光单元BLU可以是边缘照明类型并且进一步包括光学膜。在另一个实例中,背光单元BLU可以是直接照明类型并且进一步包括光学膜。
转至图2,示出包括第一显示基板DS1和第二显示基板DS2的液晶显示面板DP。第一显示基板DS1和第二显示基板DS2在液晶显示面板DP的厚度方向DR3(在下文中,称作第三方向)上彼此间隔开。例如,第一显示基板DS1和第二显示基板DS2彼此相距预定距离。第一显示基板DS1和第二显示基板DS2是通过设置在第一显示基板DS1或者第二显示基板DS2的边缘上的密封剂(未示出)彼此耦接。例如,在一个实施方式中,密封剂设置在第一显示基板DS1的边缘上。在另一个实施方式中,密封剂设置在第二显示基板DS2的边缘上。在图2的实例中,液晶层LL布置在第一显示基板DS1与第二显示基板DS2之间。
液晶显示面板DP包括多个透射区域TA和布置成邻近于透射区域TA的遮光区域LSA。例如,在每个像素中,遮光区域LSA可围绕透射区域TA。透射区域TA透射由背光单元BLU产生的光并且遮光区域LSA阻挡由背光单元BLU产生的光。
图1中示出的栅极线GL1至GLn和数据线DL1至DLm布置在第一显示基板DS1和第二显示基板DS2上。栅极线GL1至GLn和数据线DL1至DLm被布置为使得它们与遮光区域LSA重叠。像素PX11至PXnm布置为分别与透射区域TA对应。例如,每个透射区域TA对应于像素PX11至PXnm的其中一个。像素PX11至PXnm的每一个可部分地与透射区域TA的相应透射区域重叠。
图3是示出根据本公开的实例实施方式的像素的平面视图,并且图4是根据本公开的实例实施方式的显示面板的截面视图。图3示出了以PLS模式操作的像素PXij,但是像素PXij的配置不应局限于此或者因此受限制,本文中讨论的实施方式或者技术可应用或者延伸至具有其他配置的像素。图4示出了沿着图3中所示的线I-I’截取的截面视图。
转至图3和图4,第一显示基板DS1包括第一基础基板SUB1、栅极线GLi、数据线DLj、公共线CLi、以及多个绝缘层10、20、30、40和50。第二显示基板DS2包括第二基础基板SUB2、黑矩阵BM和滤色器CF。
如图4所示,第二显示基板DS2布置在第一显示基板DS1上方,但是其不应局限于此或者因此受限制。例如,在另一个实施方式中,第一显示基板DS1可布置在第二显示基板DS2上方。
像素PXij布置在第一基础基板SUB1和第二基础基板SUB2之间。如图3和图4所示,像素PXij布置在第一基础基板DS1上。像素PXij包括薄膜晶体管TFT、公共电极CE和像素电极PE。
第一偏光器PL1和第二偏光器PL2布置为彼此间隔开,从而使像素PXij布置在其间。第一偏光器PL1和第二偏光器PL2的至少一个包括布置在彼此不同的层上的多个光学转换层。例如,多个光学转换层的每一个可顺序地布置在厚度方向上,并且一个或多个绝缘层可插入在多个光学转换层之间。每个光学转换层使入射到此的光偏振。
在图4的实例中,第一偏光器PL1包括第一光学转换层LCL1和第二光学转换层LCL2。第二光学转换层LCL2布置在第一光学转换层LCL1上。例如,第一光学转换层LCL1和液晶层LL之间的距离大于第二光学转换层LCL2和液晶层LL之间的距离。第一光学转换层LCL1和第二光学转换层LCL2的每一个包括用于使入射到此的光偏振的多个格状图案(未示出)。虽然在本文中使用术语“格状图案”来描述图7A和图7B中示出的单个条带(strip),但本公开的实施方式并不局限于此或者因此受限制,并且术语也可包括格状配线,或者适于描述偏光膜的相似元件的任何其他术语。
第一光学转换层LCL1或者第二光学转换层LCL2包括反射部分和偏光部分。反射部分反射入射光。偏光部分使入射光偏振并基本上对应于格状图案。在图4的实例中,第二光学转换层LCL2包括反射部分RP和偏光部分PP。
在本实例实施方式中,第一偏光器PL1可进一步包括第三光学转换层。另外,第一光学转换层可包括反射部分RP和偏光部分PP。
根据本实例实施方式的液晶显示面板DP的第二偏光器PL2可以是但不限于拉伸型偏光膜。拉伸型偏光膜包括聚乙烯醇类偏光器。碘类化合物或者二向色偏振材料被吸入到聚乙烯醇类偏光器中,并且聚乙烯醇类偏光器在一个方向上拉伸。拉伸型偏光膜可进一步包括保护偏光器的三乙酰纤维素保护膜。
第一偏光器PL1和第二偏光器PL2的每一个具有光轴,例如,透射轴。第一偏光器PL1的光轴基本上垂直于或者基本上平行于第二偏光器PL2的光轴。在一个实例实施方式中,第二偏光器PL2可包括多个光学转换层。
在下文中,将详细地描述第一偏光器PL1和像素PXij。根据本实例实施方式,第一偏光器PL1和像素PXij布置在第一基础基板SUB1的一个表面上。例如,在图4的实例中,第一偏光器PL1和像素PXij都布置在第一基础基板SUB1的上表面上(例如,面向液晶层LL)。
第一基础基板SUB1可以是透明基板。例如,第一基础基板SUB1可以是玻璃基板、塑料基板、硅基板等。在图4的实例中,第一光学转换层LCL1布置在第一基础基板SUB1的表面上,并且第一绝缘层10布置在第一光学转换层LCL1上。缓冲层可布置在第一基础基板SUB1的表面与第一光学转换层LCL1之间。
第一绝缘层10具有小于或者等于约1.5的折射率。另外,第一绝缘层10具有小于或者等于约300nm的厚度。这是为了最小化从第一光学转换层LCL1出射的光的偏振直到光达到第二光学转换层LCL2。
在一个实施方式中,第一绝缘层10包括有机材料。在另一个实施方式中,第一绝缘层10包括无机材料。第一绝缘层10可具有多层结构。第一绝缘层10可包括硅无机材料。硅无机材料可以是氧化硅和氮化硅中的至少一种。
在图4的实例中,第二光学转换层LCL2布置在第一绝缘层10上。第二光学转换层LCL2的反射部分RP与遮光区域LSA重叠,并且第二光学转换层LCL2的偏光部分PP与透射区域TA重叠。反射部分RP覆盖遮光区域LSA。例如,在一个实施方式中,反射部分RP具有与遮光区域LSA基本上相同的形状。
第二绝缘层20布置在第二光学转换层LCL2上。第二绝缘层20可具有与第一绝缘层10的那些相同的层状结构和/或相同的材料。栅极线GLi和公共线CLi布置在第二绝缘层20上。
薄膜晶体管TFT的栅电极GE从栅极线GLi分支。例如,栅电极GE电连接至栅极线GLi。栅电极GE包括与栅极线GLi相同的材料和具有与栅极线GLi相同的层状结构。栅电极GE和栅极线GLi可包括铜(Cu)、铝(Al)或者其合金。栅电极GE和栅极线GLi可具有铝层和另一金属层的多层结构。公共线CLi包括与栅极线GLi相同的材料并具有与栅极线GLi相同的层状结构。
第三绝缘层30布置在第二绝缘层20上并且覆盖栅极线GLi和公共线CLi。例如,第三绝缘层30直接布置在栅极线GLi和公共线CLi上。在一个实施方式中,第三绝缘层30包括有机材料。在另一个实施方式中,第三绝缘层30包括无机材料。第三绝缘层30可具有多层结构。
半导体层AL布置在第三绝缘层30上以与栅电极GE重叠。欧姆接触层(未示出)可进一步布置在第三绝缘层30上。数据线DLj布置在第三绝缘层30上。
数据线DLj可包括铜(Cu)、铝(Al)或者其合金。数据线DLj可具有铝层和另一金属层(例如,铬或者钼)的多层结构。薄膜晶体管TFT的源电极SE从数据线DLj分支。例如,源电极SE可电连接至数据线DLj。源电极SE包括与数据线DLj相同的材料并且具有与数据线DLj相同的层状结构。
漏电极DE布置在第三绝缘层30上并且与源电极SE隔开。源电极SE和漏电极DE与半导体层AL重叠。
第四绝缘层40布置在第三绝缘层30上并且覆盖源电极SE、漏电极DE和数据线DLj。例如,第四绝缘层40直接布置在源电极SE、漏电极DE和数据线DLj上。第四绝缘层40提供平坦的表面。公共电极CE布置在第四绝缘层40上。公共电极CE通过第一接触孔CH1连接至公共线CLi,第一接触孔CH1穿过第三绝缘层30和第四绝缘层40形成。在一个实例实施方式中,公共电极CE可根据像素PXij的操作模式布置在第二基础基板SUB2上。
第五绝缘层50布置在第四绝缘层40上并且覆盖公共电极CE。例如,第五绝缘层50直接布置在公共电极CE上。像素电极PE布置在第五绝缘层50上并且与公共电极CE重叠。像素电极PE通过第二接触孔CH2连接至漏电极DE,第二接触孔CH2穿过第四绝缘层40和第五绝缘层50形成。保护像素电极PE和取向层的保护层可进一步布置在第五绝缘层50上。
像素电极PE包括多个狭缝SLT。在图3的实例中,像素电极PE包括第一水平部分P1、与第一水平部分P1间隔开的第二水平部分P2以及连接第一水平部分P1和第二水平部分P2的多个垂直部分P3。狭缝SLT布置在垂直部分P3之间。然而,像素电极PE的形状不应局限于此或者因此受限制。例如,在另一个实施方式中,狭缝SLT可形成在公共电极CE而不是像素电极PE中。
薄膜晶体管TFT响应于施加至栅极线GLi的栅极信号输出施加至数据线DLj的数据电压。公共电极CE接收公共电压并且像素电极PE接收对应于数据电压的像素电压。公共电极CE和像素电极PE形成水平电场。水平电场可导致引向器(director)在液晶层LL中的排列方式改变。
第二基础基板SUB2可以是透明基板,例如,玻璃基板、塑料基板、硅基板等。在图4的实例中,滤色器CF和黑矩阵BM布置在第二基础基板SUB2上。
滤色器CF至少与透射区域TA重叠。当在平面视图中观察时,滤色器CF覆盖透射区域TA并且部分地与遮光区域LSA重叠。滤色器CF可包括红、绿或者蓝色。在图4中,已经示出了对应于像素PXij的一个滤色器CF,但是液晶显示面板DP包括具有彼此不同颜色的多个滤色器组,其中,像素PX11至PXnm的每一个属于多个滤色器组的其中之一。
黑矩阵BM与遮光区域LSA重叠。遮光区域LSA可被称为其中布置黑矩阵BM的区域,并且透射区域TA可被称为其中未布置黑矩阵BM的区域。
遮光区域LSA具有基于黑矩阵BM的形状来确定的尺寸。如图3和图4所示,薄膜晶体管TFT可与遮光区域LSA重叠,但是其不应局限于此或者因此受限制。例如,薄膜晶体管TFT可与透射区域TA重叠。
图5是示出图4中标记为AA的部分的放大视图。图6是示出图5中示出的格状图案的放大视图。图7A和图7B是示出根据本公开的实例实施方式的第一光学转换层和第二光学转换层的平面视图。图7A和图7B进一步示出了其中第一光学转换层和第二光学转换层分别与像素PXij重叠的区域。图8是示出第一格状图案和第二格状图案的排列方式的视图。
转至图5,第一偏光器PL1包括第一光学转换层LCL1和第二光学转换层LCL2。第一光学转换层LCL1包括多个第一格状图案WG1并且第二光学转换层LCL2包括反射部分RP和偏光部分PP。偏光部分PP包括多个第二格状图案WG2。
图6示出了布置在第一基础基板SUB1上的两个格状图案WG。两个格状图案WG可以是第一格状图案WG1的一部分或者第二格状图案WG2的一部分。
每个格状图案WG具有预定的高度H10。在一个实施方式中,每个格状图案WG具有相同的高度。在另一个实施方式中,格状图案WG具有彼此相比不同的高度。在一个实施方式中,高度H10的范围为约50nm至约150nm。
每个格状图案WG具有预定的宽度W10。格状图案WG彼此间隔开预定距离L10。宽度W10和距离L10之和被称作间距PT。在一个实施方式中,间距PT的范围为从约100nm至约150nm。距离L10与间距PT的比的范围可从约0.3:1至约0.6:1。
每个格状图案WG包括金属层ML和围绕金属层ML的金属氧化物层MOL。在一个实施方式中,金属层ML包括铝并且金属氧化物层MOL包括氧化铝。
格状图案WG通过压印方法形成,并且金属氧化物层MOL在形成格状图案WG的同时形成。金属氧化物层MOL通过使压印的金属层ML的表面氧化来形成。金属氧化物层MOL具有约几纳米的厚度。例如,金属氧化物层可具有约1nm、约2nm、约3nm、约4nm、约5nm、约6nm、约7nm、约8nm或者约9nm的厚度。
图6示出了在截面视图中分别具有矩形形状的格状图案WG,但是格状图案WG不应限于矩形形状。例如,在另一个实施方式中,每个格状图案WG可具有正方形形状或者梯形形状。
转至图7A和图7B,第一格状图案WG1在与第二格状图案WG2相同的方向上延伸。图7A和图7B示出了在第二方向DR2上延伸的第一格状图案WG1和第二格状图案WG2。第一格状图案WG1和第二格状图案WG2延伸的方向不一定与数据线DL1至DLm延伸的方向匹配。
如图7B所示,第二格状图案WG2与反射部分RP隔开。第二格状图案WG2沿着透射区域TA和遮光区域LSA的边界线与反射部分RP分开。
第一格状图案WG1可基本上平行于第二格状图案WG2。本文中使用的术语“平行”是指如图8所示的第一格状图案WG1与第二格状图案WG2之间的夹角θ(例如,两个角中的较小的一个)小于或等于约0.1度。
转回至图5,第一格状图案WG1的与第二格状图案WG2的部分对应的部分与第二格状图案WG2的对应图案完全重叠。例如,具有对应的第二格状图案WG2的第一格状图案WG1可分别与对应的第二格状图案WG2完全重叠。对应的第一格状图案WG1和第二格状图案WG2可具有相同的间距PT、相同的宽度W10和相同的高度H10。
在另一个示例性实施方式中,第一格状图案WG1可具有与第二格状图案WG2的那些不同的间距PT、高度H10和宽度W10。每个第一格状图案WG1和每个第二格状图案WG2的间距PT、高度H10和宽度W10在图6描述的范围内。
如图5所示,由背光单元BLU产生的光BL1和BL2入射至第一光学转换层LCL1。在由背光单元BLU产生的光BL1和BL2中,在第一格状图案WG1延伸的第二方向DR2上振动的光被反射并且在排列第一格状图案WG1的第一方向DR1上振动的光被透射。
在由背光单元BLU产生的光BL1和BL2中,光BL1被第一光学转换层LCL1偏振并且入射至第二光学转换层LCL2的偏光部分PP。光BL2被第一光学转换层LCL1偏振并且入射至第二光学转换层LCL2的反射部分RP。
入射至偏光部分PP的光通过第二光学转换层LCL2来传播,同时保持在光穿过第一光学转换层LCL1时的光的偏振。在第一格状图案WG1的距离L10与间距PT的比和第二格状图案WG2的距离L10与间距PT的比相同时,可保持光的偏振,而不会减小光的透射率。
入射至反射部分RP的光被反射至背光单元BLU。反射至背光单元BLU的光通过包括在背光单元BLU中的光学构件(未示出)被再次反射。再次反射的光可入射至偏光部分PP。例如,再次反射的光入射至像素PXij(参照图3)。由于反射部分RP的上述功能,由背光单元BLU产生的光被提供至像素PXij,而不会被其他部件吸收。如上所述,由于被反射部分RP反射的光被提供回像素PXij,因此提高了液晶显示装置的发光效率。
图9是示出损坏的光学转换层的SEM图像,以及图10是示出根据光学转换层的结构和损坏的格状图案的消光比的柱状图。例如,消光比可以指不需要的成分与需要的成分的透射率之比。在图10中,第一柱状图GP1示出了包括具有未被损坏的单层结构的光学转换层的偏光器的消光比,第二柱状图GP2示出了包括具有损坏的单层结构的光学转换层的偏光器的消光比,第三柱状图GP3示出了包括被损坏的光学转换层和另一个未被损坏的光学转换层的偏光器的消光比,并且第四柱状图GP4示出了包括两个未被损坏的光学转换层的偏光器的消光比。
如图9所示,第一格状图案WG1和第二格状图案WG2在制造过程期间可能被部分地损坏。格状图案在压印过程期间可能未被完全地压印并且格状图案的部分在印刷装置被分开时可能附接至印刷装置。因此,如虚线圆所表示的,格状图案的部分被损坏。
因为第一格状图案WG1和第二格状图案WG2彼此光学补偿,所以即使第一格状图案WG1和第二格状图案WG2的部分被损坏,根据本实例实施方式的偏光器也可将正常偏振的光提供至像素PXij。例如,尽管在图9的实例中,第一格状图案WG1的部分被损坏,未被损坏的第二格状图案WG2使入射至偏光器的光偏振。
如通过图10中示出的第二柱状图GP2表示的,当具有单层结构的光学转换层被损坏时,偏光器具有小于参考值的消光比。例如,参考值由第一柱状图GP1的消光比表示。在一个实施方式中,如果偏光器具有小于参考值的消光比,则偏光器被认为是有缺陷的或者低劣的。
如第三柱状图GP3表示的,尽管光学转换层的其中之一被损坏,因为消光比通过另一个光学转换层来补偿,所以偏光器具有大于参考值的消光比。如通过第四柱状图GP4表示的,当两个光学转换层都未被损坏时,偏光器具有相对高的消光比。
图11是示出根据本公开的实例实施方式的提供至第一偏光器的光行进的方向的截面视图。图12是根据本公开的实例实施方式的第二光学转换层的平面视图。图11对应于图5,并且图12对应于图7B。在下文中,将参考图11和图12详细地描述液晶显示面板。在图11和图12中,相同的参考数字表示图1至图10中的相同元件,并且因此将省略相同元件的详细说明。
转至图11,第一偏光器PL1包括第一光学转换层LCL1和第二光学转换层LCL2。第一格状图案WG1和第二格状图案WG2具有相同的间距PT、高度H10和宽度W10。第一格状图案WG1的宽度W10可与第一格状图案WG1的距离L10相同。第二格状图案WG2的宽度W10可与第二格状图案WG2的距离L10相同。在这种情况下,第一格状图案WG1可以具有与第二格状图案WG2的宽度相同的宽度W10。
在图11的实例中,第一格状图案WG1不与第二格状图案WG2重叠。第一格状图案WG1相对于第二格状图案WG2交替地排列。尽管第一格状图案WG1不与第二格状图案WG2重叠,穿过第一偏光器PL1的光可具有与穿过图5中示出的第一偏光器PL1的光的偏振相同的偏振。
在另一个示例性实施方式中,第一格状图案WG1和第二格状图案WG2之间的对应图案彼此部分地重叠。在这种情况下,穿过第一偏光器PL1的光可具有与穿过图5中示出的第一偏光器PL1的光的偏振相同的偏振。
转至图12,第二光学转换层LCL2包括彼此连接的反射部分RP和偏光部分PP。第二格状图案WG2的两个端部分别连接至反射部分RP。反射部分RP和偏光部分PP整体形成为单个整体和单个单元。整体形成为单个整体和单个单元的反射部分RP和偏光部分PP通过图案化狭缝SLT10来形成。
图13A至图13E是示出根据本公开的实例实施方式的液晶显示面板的截面视图。图13A至图13E与图4对应。在图13A至图13E中,相同的参考标号表示图1至图10中的相同元件,并且因此将省略相同元件的详细说明。
转至图13A,液晶显示面板的第一偏光器PL10包括第一光学转换层LCL10和第二光学转换层LCL20。第一光学转换层LCL10和第二光学转换层LCL20布置在第一基础基板SUB1的表面上。如图13A所示,第一光学转换层LCL10和第二光学转换层LCL20可布置在不同的层中。
在图13A的实例中,第二光学转换层LCL20布置在第一光学转换层LCL10上。第一光学转换层LCL10包括反射部分RP和偏光部分PP。图13A中示出的第一光学转换层LCL10和第二光学转换层LCL20分别与图4中示出的第二光学转换层LCL2和第一光学转换层LCL1对应。
即使第一光学转换层LCL10和第二光学转换层LCL20的其中一个可能被损坏,根据本实例实施方式的液晶显示面板也可使入射至第一偏光器PL10的光偏振。另外,第一光学转换层LCL10的反射部分RP反射光而不会吸收光。通过反射部分RP反射的光入射至液晶显示面板。因此,被消耗(例如,被其他元件所吸收)的光量减小并且入射至液晶显示面板的光量增加,从而提高发光效率。
转至图13B,液晶显示面板的第一偏光器PL10-1包括第一光学转换层LCL10-1和第二光学转换层LCL20-1。第一光学转换层LCL10-1和第二光学转换层LCL20-1分别与图4中示出的第一光学转换层LCL1和第二光学转换层LCL2对应。
在图13B的实例中,第一光学转换层LCL10-1布置在第一基础基板SUB1的下表面上并且第二光学转换层LCL20-1布置在第一基础基板SUB1的上表面上。第一基础基板SUB1具有与图4中示出的第一绝缘层10的功能相同的功能。第一光学转换层LCL10-1和第二光学转换层LCL20-1的位置可相对于彼此改变。尽管未在图中示出,绝缘层或者保护层可进一步布置在第一基础基板SUB1的下表面上以保护第一光学转换层LCL10-1。
转至图13C,液晶显示面板的第一偏光器PL10-2包括两个第一光学转换层LCL10-2和LCL10-20以及一个第二光学转换层LCL20-2。图13C中示出的两个第一光学转换层LCL10-2和LCL10-20对应于图4中示出的第一光学转换层LCL1。第二光学转换层LCL20-2对应于图4中示出的第二光学转换层LCL2。在图13C所示,第二光学转换层LCL20-2包括反射部分RP和偏光部分PP。
第一光学转换层LCL10-2、第二光学转换层LCL20-2和第一光学转换层LCL10-20(在下文中,称作第三光学转换层)顺序地堆叠在第一基础基板SUB1的上表面上。布置在第一光学转换层LCL10-2和第二光学转换层LCL20-2之间的第一绝缘层10和布置在第二光学转换层LCL20-2和第三光学转换层LCL10-20之间的第一绝缘层10’可由相同的材料制成。第一光学转换层LCL10-2、第二光学转换层LCL20-2和第三光学转换层LCL10-20的堆叠顺序不应局限于上述堆叠顺序,并且光学转换层可按照任何其他顺序排列。
因为即使当光学转换层的其中一个被损坏时其他转换层使光偏振,所以采用第三光学转换层LCL10-20的第一偏光器PL10-2具有改善的偏振。
在另一个实例实施方式中,偏光器可包括一个第一光学转换层和两个第二光学转换层。在又一个示例性实施方式中,三个光学转换层可与第一光学转换层LCL1或者第二光学转换层LCL2相同。
转至图13D,液晶显示面板的第二偏光器PL20包括第三光学转换层LCL3和第四光学转换层LCL4。图13D中示出的第三光学转换层LCL3和第四光学转换层LCL4与图4中示出的第一光学转换层LCL1对应。根据本实例实施方式,图4中示出的第二偏光器(其为拉伸型偏光膜)被包括多个光学转换层的偏光器替代。
第三光学转换层LCL3布置在第二基础基板SUB2的上表面上并且第六绝缘层60布置在第三光学转换层LCL3上。第六绝缘层60可与图4中示出的第一绝缘层10相同。第四光学转换层LCL4布置在第六绝缘层60上。第七绝缘层70布置在第四光学转换层LCL4上。第七绝缘层70可与图4中示出的第二绝缘层20相同。保护膜PM布置在第七绝缘层70上以保护第四光学转换层LCL4。
在另一个实例实施方式中,第三光学转换层LCL3和第四光学转换层LCL4的至少一个布置在第二基础基板SUB2的下表面上。第三光学转换层LCL3和第四光学转换层LCL4的至少一个可与图4中示出的第二光学转换层LCL2相同。另外,第二偏光器PL20可包括三个或更多个光学转换层。
转至图13E,液晶显示面板的第一偏光器PL10-3包括第一光学转换层LCL10-3和第二光学转换层LCL10-30。第二偏光器PL20包括第三光学转换层LCL3和第四光学转换层LCL4。第一光学转换层LCL10-3、第二光学转换层LCL10-30、第三光学转换层LCL3和第四光学转换层LCL4对应于图4中示出的第一光学转换层LCL1。
图14A至图14I是示出根据本公开的实例实施方式的偏光器的制造方法的立体视图。图14A至图14I示出了参考图4至图7B描述的第一偏光器的制造方法。
转至图14A,第一金属层ML1形成在基础基板SUB上。第一牺牲层SL1形成在第一金属层ML1上。第一掩模层MP1布置在第一牺牲层SL1上。
基础基板SUB可以是第一基础基板SUB1(参照图4)或者布置在第一基础基板SUB1上的缓冲层。金属层ML1通过溅射方法形成并且包括铝。第一牺牲层SL1通过沉积方法形成并且包括无机材料。第一掩模层MP1包括掩模图案,多个狭缝MP1-SLT通过掩模图案形成。第一掩模层MP通过压印方法形成并且包括树脂。
在图14B中,第一牺牲层SL1被图案化。通过使用干蚀刻工艺去除通过第一掩模层MP1暴露的第一牺牲层SL1的部分。因此,狭缝SL1-SLT形成在第一牺牲层SL1中。
在图14C中,第一金属层ML1被图案化。通过使用干蚀刻工艺去除通过第一牺牲层SL1的狭缝SL1-SLT暴露的第一金属层ML1的部分。被图案化的第一金属层ML1形成第一格状图案WG1(参照图7A)。
在图14D中,第一牺牲层SL1和第一掩模层ML1被去除并且第一绝缘层IL1形成在第一格状图案WG1上。第一绝缘层IL1对应于图4中示出的第一绝缘层10。第一绝缘层IL1在第一格状图案WG1上提供平坦的表面。第一绝缘层IL1可填充在第一格状图案WG1之间的狭缝SL1-SLT中。
在图14E中,第二金属层ML2、第二牺牲层SL2和第二掩模层MP2形成在第一绝缘层IL1上。第二掩模层MP2包括其中限定多个狭缝MP2-SLT的掩模图案。
在图14F中,第二牺牲层SL2被图案化。以与图14B中描述的相同方式在第二牺牲层SL2中形成狭缝SL2-SLT。
在图14G中,保护层PR形成在第二掩模层MP2上以部分地覆盖第二掩模层MP2。保护层PR保护第二金属层ML2的部分免于在以下的工艺中被蚀刻。保护层PR与其中布置图7中示出的反射部分RP的区域重叠。
在图14H中,通过保护层PR暴露的第二金属层ML2被图案化。通过使用干蚀刻工艺去除通过第二牺牲层SL2的狭缝SL2-SLT暴露的第二金属层ML2的部分。被图案化的第二金属层ML2形成第二格状图案WG2(参照图7B)和反射部分RP(参照图7B)。
在图14I中,第二绝缘层IL2形成在被图案化的第二金属层ML2上。第二绝缘层IL2对应于图4中示出的第二绝缘层20。随后,形成薄膜晶体管TFT、公共电极CE和像素电极PE。
在另一个示例性实施方式中,当在第二绝缘层IL2上再次执行参考图14A至图14D描述的工艺时,可形成附加的偏光器。在另一个实例实施方式中,当参考图14A至图14D描述的工艺和参考图14E至图14I描述的工艺相对于彼此改变时,可改变偏光器的层状结构。
尽管已经描述了本发明的示例性实施方式,但应当理解,本发明不应局限于这些示例性实施方式,而是在由权利要求限定的本发明的精神和范围内,可由本领域技术人员做出各种改变和变形。
Claims (19)
1.一种显示装置,包括:
第一基础基板,包括多个透光区域和围绕每个所述透光区域的遮光区域;
第二基础基板,布置为与所述第一基础基板间隔开;
多个像素,布置在所述第一基础基板和所述第二基础基板之间,并且当沿着垂直于所述第一基础基板的主表面的方向观察时,分别与所述透光区域重叠;以及
第一偏光器和第二偏光器,彼此间隔开,使得所述像素布置在其间,其中,所述第一偏光器包括布置在彼此不同的层上的多个光学转换层,每个所述光学转换层包括多个格状配线。
2.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述多个光学转换层包括:
第一光学转换层,包括第一组格状配线;以及
第二光学转换层,包括第二组格状配线,其中,所述第二组格状配线基本上平行于所述第一组格状配线。
3.根据权利要求2所述的显示装置,其中,所述第一光学转换层和所述第二光学转换层布置在所述第一基础基板之上。
4.根据权利要求3所述的显示装置,其中,所述第一光学转换层和所述第二光学转换层被布置为使得所述第一基础基板被布置在所述第一光学转换层和所述第二光学转换层之间。
5.根据权利要求3所述的显示装置,其中,所述第一光学转换层和所述第二光学转换层布置在所述第一基础基板的相同侧上。
6.根据权利要求5所述的显示装置,其中,所述第一光学转换层和所述第二光学转换层布置在所述第一基础基板的表面与所述像素之间。
7.根据权利要求3所述的显示装置,其中,所述第一光学转换层和所述第二光学转换层中的至少一个包括:
偏光部分,包括所述第一组格状配线和所述第二组格状配线中的相应格状配线,并且当沿着垂直于所述第一基础基板的所述主表面的方向观察时与所述透光区域重叠;以及
反射部分,覆盖所述遮光区域。
8.根据权利要求7所述的显示装置,其中,所述第一光学转换层包括所述反射部分和包含所述第一组格状配线的所述偏光部分,并且所述第二光学转换层包括包含所述第二组格状配线的所述偏光部分。
9.根据权利要求7所述的显示装置,其中,每个所述像素包括:
薄膜晶体管,连接至被布置在所述第一基础基板之上的栅极线的相应栅极线和被布置在所述第一基础基板之上的数据线的相应数据线;以及
像素电极,连接至所述薄膜晶体管。
10.根据权利要求9所述的显示装置,其中,当沿着垂直于所述第一基础基板的所述主表面的方向观察时,所述偏光部分与所述像素电极重叠并且所述反射部分与所述薄膜晶体管重叠。
11.根据权利要求2所述的显示装置,其中,所述第一组格状配线和所述第二组格状配线中的每一组具有50nm至150nm的高度。
12.根据权利要求2所述的显示装置,其中,当所述第一组格状配线中的两个相邻的格状配线之间在排列所述第一组格状配线的方向上的距离与所述两个相邻的格状配线中的一个格状配线在所述方向上的宽度的总和被定义为间距时,则在所述方向上的所述一个格状配线的所述宽度与所述间距的比在从0.3:1至0.6:1的范围内。
13.根据权利要求12所述的显示装置,其中,所述第二组格状配线具有与所述第一组格状配线相同的间距并且所述第二组格状配线具有与所述第一组格状配线相同的宽度。
14.根据权利要求13所述的显示装置,其中,所述第一组格状配线和所述第二组格状配线中的每一组包括金属层和覆盖所述金属层的金属氧化物层。
15.根据权利要求2所述的显示装置,其中,所述多个光学转换层进一步包括第三光学转换层,所述第三光学转换层包括在与所述第一组格状配线相同的方向上延伸并且在与所述第一组格状配线相同的方向上排列的第三组格状配线。
16.根据权利要求2所述的显示装置,其中,所述第二偏光器是拉伸型偏光膜。
17.根据权利要求2所述的显示装置,其中,所述第二偏光器包括:
第三光学转换层,包括第三组格状配线;以及
第四光学转换层,包括在与所述第三组格状配线相同的方向上延伸并且在与所述第三组格状配线相同的方向上排列的第四组格状配线,并且所述第三光学转换层和所述第四光学转换层布置在所述第二基础基板之上。
18.根据权利要求2所述的显示装置,进一步包括:
黑矩阵,当沿着垂直于所述第一基础基板的所述主表面的方向观察时与所述遮光区域重叠;以及
多个滤色器,当沿着垂直于所述第一基础基板的所述主表面的方向观察时与所述透光区域重叠。
19.一种显示装置,包括:
第一基础基板,包括多个透光区域和围绕每个所述透光区域的遮光区域;
第二基础基板,布置为与所述第一基础基板间隔开;
多个像素,布置在所述第一基础基板和所述第二基础基板之间,并且当沿垂直于所述第一基础基板的主表面的方向观察时,分别与所述透光区域重叠;以及
第一偏光器和第二偏光器,彼此间隔开,使得所述像素布置在其间,其中,所述第一偏光器包括第一光学转换层和第二光学转换层,所述第一光学转换层包括多个第一格状配线,并且所述第二光学转换层包括在与所述多个第一格状配线相同的方向上延伸并且在与所述多个第一格状配线相同的方向上排列的多个第二格状配线。
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