CN1047444A - 双锅 - Google Patents

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Abstract

上锅小于下锅,且上锅上部锅壁周围横排列1排或数排1个以上多个蒸气入孔,上锅外口与下锅的密封结合技术同现有高压锅与锅盖的结合。上锅锅盖外口略弯朝下加橡胶密封圈后与上锅锅口吻合。如果要形成较高气压,可制2个以上活动密封器把锅盖与上下锅锅口紧合,或者利用上锅外口的2个以上齿口转朝上向内固定带有密封圈的齿口形锅盖,盖上部制1个以上安全出孔或阀门,上锅可无孔成分结合,以换不同高度的上锅,上锅与锅圈结合的间缝使蒸气进入上锅。

Description

本发明涉及一种烹调器具,特别是一种双锅:上锅与下锅结合,构成一种既煮又煮蒸的双层锅(简称双锅),且不失和优于传统煮锅,上锅并可另用。
现有技术中,煮锅锅内的沸汤(水)和蒸气热能以及食物的香味没有得到充分利用,绝大部分散发于空气中,浪费燃料和热能,且单一烹调,不能一锅多功能,更不能充分利用锅内上部空间。
本发明的目的是提供一种克服了现有技术中存在的缺点,制造和使用极为方便,上锅与下锅结合,构成一种既煮又同时蒸煮的双锅进行烹调,是一种新的适于实用的技术方案。
实现上述目的的本发明主要构成是:上锅锅体高度和外缘直径小于下锅高度和内缘直径,且上锅上部锅壁周围横排列1排或数排1个以上多个蒸气入孔。上锅外口与下锅外口的密封结合技术同现有高压锅外口与锅盖的密封结合。上锅锅盖外口略弯朝下加橡胶密封圈后与上锅锅口吻合。如要形成较高气压,可制2个以上(上锅安对称锅柄2个,并加固定螺兼作锅盖固定)活动固定器把锅盖与上下锅锅口紧合,或者上锅外口的2个以上齿口转朝上向内固定带密封圈的齿口形锅盖,锅盖上部或顶部制1个以上安全出孔或加安全阀门。还可将上锅制成分结合,以便换不同高度的上锅,分结合的上锅可以无孔,利用上锅与锅圈结合的间缝使蒸气进入上锅。整体和分结合的上锅内,都可配制1层以上数层台口形内锅,且每锅的上部锅壁都有横排列1个以上多个蒸气入孔。
构成双锅性能和作用的原理是:1.上锅下部(底、下侧面)平于或低于下锅汤(水)面,汤(水)沸热作用使上锅水沸物热食熟2.由于上下锅口密封。下锅沸汤(水)蒸气经上下锅之间缝再经上锅上部的孔进入上锅内,形成较普通锅强的蒸气压(低、高压)、高温蒸气又作用于上锅食品,便易熟串味。双锅集普通锅、高压锅气锅、炒锅、汤锅、饭煲、蒸子于一身,以下锅煮鸡、上锅煮饭例(水比平常略少,且低于孔):上锅内几层内锅蒸蒸肉、蒸火腿、蒸鱼等,封盖好,待闻到余蒸气内有各味后再等一会即可一饭多菜食用,久煮蒸饭不含水,而且更具香味。
下面结合附图及实施例,详述该发明:附图1中的(1)为下锅,(2)为上锅,(3)为上锅锅侧上部横排列1个以上多个蒸气入孔,(4)为锅盖上部安全阀门和孔,(5)为锅盖橡胶密封圈,(6)为锅盖与上下锅结合的活动密封固定器(由有螺孔的不要上头一点的门字形部件和螺杆及橡胶帽组成),(7)虚线表示不同高度和形状的上锅锅体,其余还有两侧和上下对称锅柄、铆螺螺丝等,附图3实线部份为上锅分结合式的内齿勾形上锅锅圈,附图4为上锅分结合式的外齿勾形上锅,利用上锅与下锅结合的间缝代替蒸气入孔,因此上锅可以无孔。附图5为上锅内数层有孔内锅,以便多用。
另外,在现有高压锅内配不同高度和形状的上部有孔的上锅,且上锅锅口外齿与现有锅齿口一致,其中几个内齿口再弯朝下作为两锅定位和限定密封圈(附图2),现用密封圈减薄,在上锅与下锅齿口之间加一薄层密封圈,即成高压双锅。
双锅的上锅内还可以制2层以上有孔台口形内锅,最上一层可无孔,下层内锅底之间配一个有孔园筒或三角支架,或者上锅锅底中部制成凸形。锅盖制成高凸度锅形锅盖,以增高锅内空间多放置内锅,并且锅盖不用时只要把阀门空心螺换成实心垫圈螺即可另用上锅、上锅内内锅层数和高度与下锅和锅盖高度成正比。
以上方案经本人较长时间探索和研究,经实验是一种极为理想和现实的技术方案,具有所述各种优点。

Claims (4)

1、双锅,锅内有锅(上锅和上锅内内锅),其特征在于:小于下锅的上锅和上锅内台口形内锅,锅壁上都横排列1个以上多个蒸气入孔分结合式的上锅,锅口向外向下成齿形挂勾,与内外勾齿形锅圈结合的间缝即是蒸气入孔。
2、根据权利要求1所述的双锅,其特征在于:有孔上锅与下锅密封结合,有孔上锅与有孔锅盖结合或密封结合。
3、根据权利要求1所述的双锅,另外形成高压作用的活动密封固定器,其特征在于:成夹形,制有螺杆、橡胶帽,把有孔锅盖与上下锅固紧。
4、根据权利要求1所述的双锅,支内锅的有孔园筒或三脚支架。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN102334908A (zh) * 2010-07-13 2012-02-01 Seb公司 具有两个烹饪区的烹饪设备
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PB01 Publication
C01 Deemed withdrawal of patent application (patent law 1993)
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