CN104708871A - 一种imito透明导电玻璃 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种IMITO透明导电玻璃，包括基板(1)和膜层组，所述膜层组包括成形于所述基板(1)上的六个膜层，由下而上依次是Nb2O5膜层(21)、MgF2膜层(31)、ITO导电层(4)、MgF2膜层(32)、Nb2O5膜层(22)、MgF2膜层(33)。本发明通过将ITO导电层与Nb2O5膜层和MgF2膜层共同构成减反膜系，改变了ITO导电层上下界面之间的干涉条件，在面电阻值较低的条件下，使光学特性匹配到折射率为1的条件下，实现膜在可见光波段的较高的透过率，而且由于该膜的结构相比于目前广泛应用的双面镀膜无需使用玻璃胶粘合，大大增加了膜的机械稳定性，同时减少了制作工序，并降低了反射率。

Description

一种IMITO透明导电玻璃
技术领域
本发明涉及一种导电玻璃，具体涉及一种IMITO透明导电玻璃。
背景技术
ITO(氧化铟锡)透明导电膜，是镀于玻璃基板上的一层导电膜，具有高的光学透过率、低电阻率、良好的机械和化学性能。而且由于ITO导电膜对微波具有衰减性，因此该膜可以对由于外界电磁波的入侵而使电子设备产生误差所导致的保密信息的泄露，起到电磁屏蔽的作用。目前，ITO透明导电膜已广泛应用于液晶显示器以及电磁屏蔽玻璃窗、光电器件的透明导电电极、红外反射涂层以及高稳定电阻等领域，成为了工业应用中优先选用的光电薄膜。
IMITO透明导电玻璃为折射率匹配的ITO玻璃。ITO透明导电膜是IMITO透明导电玻璃最重要的组成部分，它最主要的两个性能参数是透过率和面电阻，传统的ITO透明导电膜的透过率高时，面电阻值就大；面电阻值大时，透过率就相对低。当折射率匹配以后，其反射率则为最低。
发明内容
为解决上述技术问题，我们提出了一种IMITO透明导电玻璃，本发明通过将ITO导电层与Nb2O5膜层和MgF2膜层共同构成减反膜系，改变了ITO导电层上下界面之间的干涉条件，在面电阻值较低的条件下，使光学特性匹配到折射率为1的条件下，实现膜在可见光波段的较高的透过率，而且由于该膜的结构相比于目前广泛应用的双面镀膜无需使用玻璃胶粘合，大大增加了膜的机械稳定性，同时减少了制作工序，并降低了反射率。
为达到上述目的，本发明的技术方案如下：
一种IMITO透明导电玻璃，包括基板(1)和膜层组，所述膜层组包括成形于所述基板(1)上的六个膜层，由下而上依次是Nb2O5膜层(21)、MgF2膜层(31)、ITO导电层(4)、MgF2膜层(32)、Nb2O5膜层(22)、MgF2膜层(33)。
优选的，所述ITO导电层(4)的厚度为126nm。
优选的，所述MgF2膜层(31)、MgF2膜层(32)以及MgF2膜层(33)的厚度分别为36.6nm、5.1nm、99.1nm。
优选的，所述Nb2O5膜层(21)及Nb2O5膜层(22)的厚度分别为7.9nm、7.2nm。
优选的，所述基板(1)为玻璃。
通过上述技术方案，本发明通过将ITO导电层与Nb2O5膜层和MgF2膜层共同构成减反膜系，改变了ITO导电层上下界面之间的干涉条件，在面电阻值较低的条件下，使光学特性匹配到折射率为1的条件下，实现膜在可见光波段的较高的透过率，而且由于该膜的结构相比于目前广泛应用的双面镀膜无需使用玻璃胶粘合，大大增加了膜的机械稳定性，同时减少了制作工序，并降低了反射率。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例1所公开的一种IMITO透明导电玻璃的结构示意图。
具体实施方式
下面结合实施例和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。
实施例1.
本发明公开一种IMITO透明导电玻璃，包括基板(1)和膜层组，所述膜层组包括成形于所述基板(1)上的六个膜层，由下而上依次是Nb2O5膜层(21)、MgF2膜层(31)、ITO导电层(4)、MgF2膜层(32)、Nb2O5膜层(22)、MgF2膜层(33)；所述ITO导电层4的厚度为126n；所述MgF2膜层31、MgF2膜层32以及MgF2膜层33的厚度分别为36.6nm、5.1nm、99.1nm；所述Nb2O5膜层21及Nb2O5膜层22的厚度分别为7.9nm、7.2nm；所述基板1为玻璃。
下面具体讲述本发明所述IMITO透明导电玻璃。
如图1所示，所述基板1通常选择光学级的玻璃基板，厚度一般选择0.5-3毫米。所述基板1与在其上依次沉积的多个膜层共同构成减反膜系，通过改变所述ITO导电层4上下界面之间的干涉条件，提高了膜系在可见光波段的透过率。所述基板1为玻璃。所述Nb2O5膜层21成形于所述基板1上，该层膜的厚度为7.9nm。所述MgF2膜层31成形于所述Nb2O5膜层21上，该层膜的厚度为36.6nm。所述ITO导电层4成形于所述MgF2膜层31上，该层膜的厚度为126nm。所述MgF2膜层32成形于所述ITO导电层4上，该层膜的厚度为5.1nm。所述Nb2O5膜层22成形于所述MgF2膜层32上，该层膜的厚度为7.2nm。所述MgF2膜层33成形于所述Nb2O5膜层22上，该层膜的厚度为99.1nm。所述ITO导电层4和MgF2膜层以及Nb2O5膜层多层膜共同构成减反膜系，可以实现所述IMITO透明导电玻璃在可见光区域的反射率R≤0.5％，透过率T≥95％，并且面电阻值低至10Ω/cm3。
通过上述技术方案，本发明通过将ITO导电层与Nb2O5膜层和MgF2膜层共同构成减反膜系，改变了ITO导电层上下界面之间的干涉条件，在面电阻值较低的条件下，使光学特性匹配到折射率为1的条件下，实现膜在可见光波段的较高的透过率，而且由于该膜的结构相比于目前广泛应用的双面镀膜无需使用玻璃胶粘合，大大增加了膜的机械稳定性，同时减少了制作工序，并降低了反射率。
以上所述的仅是本发明的一种IMITO透明导电玻璃优选实施方式，应当指出，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明创造构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。

Claims (5)

1.一种IMITO透明导电玻璃，其特征在于，包括基板(1)和膜层组，所述膜层组包括成形于所述基板(1)上的六个膜层，由下而上依次是Nb2O5膜层(21)、MgF2膜层(31)、ITO导电层(4)、MgF2膜层(32)、Nb2O5膜层(22)、MgF2膜层(33)。
2.根据权利要求1所述的一种IMITO透明导电玻璃，其特征在于，所述ITO导电层(4)的厚度为126nm。
3.根据权利要求2所述的一种IMITO透明导电玻璃，其特征在于，所述MgF2膜层(31)、MgF2膜层(32)以及MgF2膜层(33)的厚度分别为36.6nm、5.1nm、99.1nm。
4.根据权利要求3所述的一种IMITO透明导电玻璃，其特征在于，所述Nb2O5膜层(21)及Nb2O5膜层(22)的厚度分别为7.9nm、7.2nm。
5.根据权利要求4所述的一种IMITO透明导电玻璃，其特征在于，所述基板(1)为玻璃。
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