CN104690648A - 一种有蜡抛光的抛光垫专用刷子 - Google Patents
一种有蜡抛光的抛光垫专用刷子 Download PDFInfo
- Publication number
- CN104690648A CN104690648A CN201310661231.2A CN201310661231A CN104690648A CN 104690648 A CN104690648 A CN 104690648A CN 201310661231 A CN201310661231 A CN 201310661231A CN 104690648 A CN104690648 A CN 104690648A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- polishing
- polishing pad
- brush
- brush body
- special
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B53/00—Devices or means for dressing or conditioning abrasive surfaces
- B24B53/017—Devices or means for dressing, cleaning or otherwise conditioning lapping tools
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
本发明提供一种有蜡抛光的抛光垫专用刷子,包括圆盘状的刷体,所述刷体的顶面带有若干凸起或凹陷,所述刷体的底面分布有刷毛,所述刷毛呈环形分布,所述刷体的材质为聚氯乙烯,所述刷毛的材质为尼龙。本发明的有益效果是:由于采用上述技术方案,保持了抛光垫的洁净,保持了抛光速率和抛光质量,也提高了抛光垫的使用寿命。由此可见,本方案的使用提高了产品的合格率和生产效率,同时减低了能耗,节约了成本,提高了效益。
Description
技术领域
本发明涉及一种刷子,尤其是涉及一种有蜡抛光的抛光垫专用刷子。
背景技术
硅片进行有蜡抛光后,需用用刷子对抛光垫进行刷洗,以防止抛光液在抛光垫上长时间滞留而形成结晶,而结晶会对硅片产生损伤,降低抛光质量。另外,对抛光垫进行刷洗有助于其表面结构的回复,延长了抛光垫的使用寿命,也保证了硅片抛光效果的一致性。现有的刷子是设备自带的一小型刷子,每次抛光完成后会自动对抛光垫进行刷洗,但其不能彻底清除抛光垫表面空隙中残余的抛光液和细微的结晶,不利于抛光垫表面结构的回复。另外,由于自带刷子尺寸较小,刷洗过程中使得抛光垫受力不均,这会对抛光垫的表面状态产生一定影响。
发明内容
本发明的目的是提供一种结构简单、提高抛光质量的有蜡抛光的抛光垫专用刷子。
本发明的技术方案是:一种有蜡抛光的抛光垫专用刷子,包括圆盘状的刷体,所述刷体的顶面带有若干凸起或凹陷,所述刷体的底面分布有刷毛,所述刷毛呈环形分布。
优选地,所述刷体的材质为聚氯乙烯,所述刷毛的材质为尼龙。
优选地,所述刷体的直径为48cm,厚度为3cm,所述刷毛的长度为1.5cm。
本发明具有的优点和积极效果是:
由于采用上述技术方案,保持了抛光垫的洁净,保持了抛光速率和抛光质量,也提高了抛光垫的使用寿命。由此可见,本方案的使用提高了产品的合格率和生产效率,同时减低了能耗,节约了成本,提高了效益。
附图说明
图1是本发明的结构示意图;
图2是本发明的仰视图;
图3是本发明的俯视图。
具体实施方式
下面结合附图及具体实施方式对本发明作进一步说明。
如图1至图3所示,本发明包括圆盘状的刷体1,所述刷体1的顶面带有若干凹陷,所述刷体1的底面分布有刷毛2,所述刷毛2呈环形分布。
所述刷体1的材质为聚氯乙烯,所述刷毛2的材质为尼龙。
所述刷体1的直径为48cm,厚度为3cm,所述刷毛2的长度为1.5cm。
使用时,将本发明放置在待清洁的抛光垫上,将机械臂与本发明的顶面相连接(可以通过吸附的方式连接),带动本发明以一定的运动轨迹运动,对旋转的抛光垫进行清洗。本发明对抛光垫上的抛光液和结晶清洁得更为彻底,而且有助于抛光垫表面绒孔结构的回复,有助于延长抛光垫的使用寿命和抛光质量的提高。
实验一:选择200片相同的6寸硅片进行试验,晶向<111>,拉晶方式:FZ,掺杂元素:P,厚度:630---632μm。下表为使用本发明前后检测项的数值。
实验二:选择200片相同的5寸硅片进行实验,晶向<100>,拉晶方式:CZ,掺杂元素:B,厚度:525---530μm。下表为使用本发明前后检测项的数值。
由表中数据可以看出,抛光速率的提高增加了效率,降低了单位时间的能耗,而雾值、颗粒值和划道片数的降低则提高了产品的合格率,这些都有助于成本的降低。
以上实施例对本发明进行了详细说明,但所述内容仅为本发明的较佳实施例,不能被认为用于限定本发明的实施范围。凡依本发明申请范围所作的均等变化与改进等,均应仍归属于本发明的专利涵盖范围之内。
Claims (3)
1.一种有蜡抛光的抛光垫专用刷子,其特征在于:包括圆盘状的刷体(1),所述刷体(1)的顶面带有若干凸起或凹陷,所述刷体(1)的底面分布有刷毛(2),所述刷毛(2)呈环形分布。
2.根据权利要求1所述的有蜡抛光的抛光垫专用刷子,其特征在于:所述刷体(1)的材质为聚氯乙烯,所述刷毛(2)的材质为尼龙。
3.根据权利要求1或2所述的有蜡抛光的抛光垫专用刷子,其特征在于:所述刷体(1)的直径为48cm,厚度为3cm,所述刷毛(2)的长度为1.5cm。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201310661231.2A CN104690648A (zh) | 2013-12-05 | 2013-12-05 | 一种有蜡抛光的抛光垫专用刷子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201310661231.2A CN104690648A (zh) | 2013-12-05 | 2013-12-05 | 一种有蜡抛光的抛光垫专用刷子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN104690648A true CN104690648A (zh) | 2015-06-10 |
Family
ID=53338399
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201310661231.2A Pending CN104690648A (zh) | 2013-12-05 | 2013-12-05 | 一种有蜡抛光的抛光垫专用刷子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN104690648A (zh) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1310657A (zh) * | 1999-04-01 | 2001-08-29 | 皇家菲利浦电子有限公司 | 化学-机械抛光垫的修整装置及方法 |
JP2002307308A (ja) * | 2001-04-12 | 2002-10-23 | Fujimori Gijutsu Kenkyusho:Kk | ケミカルマシンポリッシャの研磨盤用研磨ドレッサ |
CN101121241A (zh) * | 2006-08-10 | 2008-02-13 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 化学机械抛光设备的清洗装置和方法 |
CN101291777A (zh) * | 2005-10-19 | 2008-10-22 | Tbw工业有限公司 | 用于化学机械平坦化系统的有孔修整刷 |
CN101579837A (zh) * | 2008-05-13 | 2009-11-18 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 一种用于化学机械抛光的研磨垫调整装置 |
CN203765483U (zh) * | 2013-12-05 | 2014-08-13 | 天津中环领先材料技术有限公司 | 一种有蜡抛光的抛光垫专用刷子 |
-
2013
- 2013-12-05 CN CN201310661231.2A patent/CN104690648A/zh active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1310657A (zh) * | 1999-04-01 | 2001-08-29 | 皇家菲利浦电子有限公司 | 化学-机械抛光垫的修整装置及方法 |
JP2002307308A (ja) * | 2001-04-12 | 2002-10-23 | Fujimori Gijutsu Kenkyusho:Kk | ケミカルマシンポリッシャの研磨盤用研磨ドレッサ |
CN101291777A (zh) * | 2005-10-19 | 2008-10-22 | Tbw工业有限公司 | 用于化学机械平坦化系统的有孔修整刷 |
CN101121241A (zh) * | 2006-08-10 | 2008-02-13 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 化学机械抛光设备的清洗装置和方法 |
CN101579837A (zh) * | 2008-05-13 | 2009-11-18 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 一种用于化学机械抛光的研磨垫调整装置 |
CN203765483U (zh) * | 2013-12-05 | 2014-08-13 | 天津中环领先材料技术有限公司 | 一种有蜡抛光的抛光垫专用刷子 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10086495B2 (en) | Dresser disk cleaning brush, cleaning apparatus, and cleaning method | |
CN105789096B (zh) | 一种晶圆清洗设备 | |
CN203993507U (zh) | 一种晶圆清洗抛光装置 | |
TWI443732B (zh) | 化學機械研磨後晶圓清洗裝置 | |
US11694909B2 (en) | Brush cleaning apparatus, chemical-mechanical polishing (CMP) system and wafer processing method | |
CN102074455A (zh) | 用于晶圆的刷洗装置 | |
CN203622168U (zh) | 一种具有清洗装置的硅片加工设备 | |
JP5460537B2 (ja) | 基板裏面研磨装置、基板裏面研磨システム及び基板裏面研磨方法並びに基板裏面研磨プログラムを記録した記録媒体 | |
CN203765483U (zh) | 一种有蜡抛光的抛光垫专用刷子 | |
TW201010800A (en) | Substrate cleaning device | |
US20120285484A1 (en) | Method for cleaning a semiconductor wafer | |
CN104690648A (zh) | 一种有蜡抛光的抛光垫专用刷子 | |
KR101054284B1 (ko) | 디스크 브러쉬 | |
CN202174074U (zh) | 一种研磨盘清洗用刷轮 | |
WO2013125938A1 (en) | An apparatus for cleaning a substrate | |
CN215588840U (zh) | 一种自清洁抛光皮修整器 | |
CN105437078A (zh) | 研磨盘清洁装置 | |
CN102615589A (zh) | 一种使用抛光盘接引盘的抛光系统和方法 | |
CN202825547U (zh) | 研磨垫整理盘 | |
CN203993547U (zh) | 研磨垫调整器和化学机械研磨装置 | |
JP3221364U (ja) | 掃除ばけ構造 | |
JP6061138B2 (ja) | 自動車洗浄用スポンジタワシ | |
CN213601840U (zh) | 晶圆清洗刷和晶圆清洗装置 | |
CN213781994U (zh) | 晶圆清洗刷和晶圆清洗装置 | |
JP2010227766A (ja) | 洗浄用ブラシ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20150610 |
|
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |