CN105789096B - 一种晶圆清洗设备 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种晶圆清洗设备,包括清洗单元、刷洗单元、甩干单元及机械手,该设备包括至少一个清洗单元、至少两个刷洗单元及至少一个甩干单元,清洗单元、刷洗单元、甩干单元依次排列,各单元之间的距离与机械手的行程配合设置;清洗单元上设置有清洗旋转轮,该清洗旋转轮使晶圆竖向设置;刷洗单元上设置有刷洗旋转轮,该刷洗旋转轮使晶圆竖向设置;甩干单元上设置有固定块,固定块和固定爪安装在升降台上,固定块和固定爪抓紧晶圆,该固定块使晶圆水平设置。本发明提供的晶圆清洗设备,清洗单元、刷洗单元采用竖直方向作业,甩干单元采用水平方向作业,有效改善晶圆清洗效果,同时解决了水印残留的问题,提高了晶圆清洗设备的总体效果。

Description

一种晶圆清洗设备
技术领域
本发明涉及晶圆清洗领域,尤其涉及一种晶圆清洗设备。
背景技术
在CMP(Chemical Mechanical Planarization/Polish,化学机械平坦化或化学机械抛光)工艺之后,需要对晶圆进行清洗,以去除抛光工艺中带来的所有污染物。
现有的晶圆清洗设备常用的清洗技术有两种:
第一种方案:在清洗、刷洗、甩干三种模组中,晶圆均水平放置。这样放置可以保证最佳的甩干效率,但是此方案由于在清洗环节晶圆水平放置,颗粒或者残留抛光液不能及时排出,致使晶圆清洗效果不佳。
第二种方案:在清洗、刷洗、甩干三种模组中,晶圆均竖直放置。这种方案优点是:清洗时晶圆竖直放置,清洗效果最佳;但是,在甩干环节,由于重力作用,水分在晶圆上分布不均,致使晶圆上存在水印残留。
因此,现有的晶圆清洗设备存在清洗效果不佳的缺陷。
发明内容
本发明的目的是针对上述技术问题,提供晶圆清洗设备,清洗单元、刷洗单元采用竖直方向作业,甩干单元采用水平方向作业,有效改善了晶圆清洗效果,同时解决了水印残留的问题,提高了晶圆清洗设备的总体效果。
本发明的技术方案:
为解决上述技术问题,本发明提供了一种晶圆清洗设备,其包括清洗单元、刷洗单元、甩干单元及机械手。
该设备包括至少一个清洗单元、至少两个刷洗单元及至少一个甩干单元,清洗单元、刷洗单元、甩干单元依次排列,各单元之间的距离与机械手的行程配合设置;所述清洗单元上设置有放置晶圆用的清洗旋转轮,并且该清洗旋转轮使晶圆竖向设置;所述刷洗单元上设置有放置晶圆用的刷洗旋转轮,并且该刷洗旋转轮使晶圆竖向设置;所述甩干单元上设置有放置晶圆用的固定块和固定爪,固定块和固定爪安装在升降台上,固定块和固定爪抓紧晶圆,并且使晶圆水平设置。
进一步地,所述清洗单元的数量不超过三个,刷洗单元的数量不超过六个,甩干单元的数量不超过三个。
进一步地,所述清洗单元包括有清洗容纳箱、兆声装置及清洗旋转轮;兆声装置设置在清洗容纳箱的底部;所述清洗旋转轮设置在清洗容纳箱的中部,其包括清洗主动轮及清洗从动轮,清洗主动轮提供旋转动力,清洗从动轮供竖直支撑、监测转速并反馈。
进一步地,所述刷洗单元包括有刷洗容纳箱、刷洗头、刷洗喷嘴及刷洗旋转轮;刷洗头水平设置在刷洗单元的中部,刷洗喷嘴与刷洗头平行设置在刷洗单元上部的侧壁上;所述刷洗旋转轮设置在刷洗头的下部,其包括刷洗主动轮及刷洗从动轮,刷洗主动轮提供旋转动力,刷洗从动轮供竖直支撑、监测转速并反馈。
进一步地,所述甩干单元包括有甩干容纳箱、升降台、固定块、固定爪、喷水喷嘴及旋转轴;旋转轴上设置有升降台,旋转轴由驱动电机驱动旋转,固定爪及固定块设置在升降台上;升降台设置在甩干容纳箱的中部,喷水喷嘴设置在甩干容纳箱的侧壁上。
进一步地,所述机械手设置在清洗单元、刷洗单元的上部,其垂直方向夹持晶圆在清洗单元及刷洗单元上方做水平横向运动;末端刷洗单元上部的机械手可沿水平旋转,使晶圆水平放置在甩干单元上的升降台。
本发明有益效果:
本发明提供的晶圆清洗设备,清洗单元、刷洗单元采用竖直方向作业,甩干单元采用水平方向作业,有效改善了晶圆清洗效果,同时解决了水印残留的问题,提高了晶圆清洗设备的总体效果。
附图说明
通过结合以下附图所作的详细描述,本发明的上述和/或其他方面和优点将变得更清楚和更容易理解,这些附图只是示意性的,并不限制本发明,其中:
图1是本发明结构示意图;
图2是本发明之清洗单元结构示意图;
图3是本发明之刷洗单元结构示意图;
图4是本发明之甩干单元结构示意图;
图5是本发明之机械手位置示意图。
附图中,各标号所代表的部件如下:
101.清洗旋转轮;101a.清洗主动轮;101b.清洗从动轮;102.清洗容纳箱;103.兆声装置;201.刷洗容纳箱;202.刷洗头;203.刷洗旋转轮;203a.刷洗主动轮;203b.刷洗从动轮;204.刷洗喷嘴;301.甩干容纳箱;302.升降台;303.固定爪;304.喷水喷嘴;305.固定块;306.旋转轴;307.驱动电机;4.机械手。
具体实施方式
下面结合具体实施例和附图对本发明一种晶圆清洗设备进行详细说明。
在此记载的实施例为本发明的特定的具体实施方式,用于说明本发明的构思,均是解释性和示例性的,不应解释为对本发明实施方式及本发明范围的限制。除在此记载的实施例外,本领域技术人员还能够基于本申请权利要求书和说明书所公开的内容采用显而易见的其它技术方案,这些技术方案包括采用对在此记载的实施例的做出任何显而易见的替换和修改的技术方案。
本说明书的附图为示意图,辅助说明本发明的构思,示意性地表示各部分的形状及其相互关系。请注意,为了便于清楚地表现出本发明实施例的各部件的结构,各附图之间并未按照相同的比例绘制。相同的参考标记用于表示相同的部分。
图1是本发明晶圆清洗设备的结构示意图,其包括清洗单元、刷洗单元、甩干单元。
其中,该设备包括至少一个清洗单元、至少两个刷洗单元及至少一个甩干单元,清洗单元、刷洗单元、甩干单元依次排列,各单元之间的距离与机械手4的行程配合设置;清洗单元的数量不超过三个,刷洗单元的数量不超过六个,甩干单元的数量不超过三个。
所述清洗单元上设置有放置晶圆用的清洗旋转轮101,并且该清洗旋转轮101使晶圆竖向设置;所述刷洗单元上设置有放置晶圆用的刷洗旋转轮203,并且该刷洗旋转轮203使晶圆竖向设置;所述甩干单元上设置有放置晶圆用的固定块305和固定爪303,固定块305和固定爪303安装在升降台302上,固定块305和固定爪303抓紧晶圆,并且使晶圆水平设置。
图2是清洗单元结构示意图,清洗单元包括有清洗容纳箱102、兆声装置103及清洗旋转轮101;兆声装置103设置在清洗容纳箱102的底部;所述清洗旋转轮101设置在清洗容纳箱102的中部,其包括清洗主动轮101a及清洗从动轮101b,清洗主动轮101a提供旋转动力,清洗从动轮101b供竖直支撑、监测转速并反馈。
图3是刷洗单元结构示意图,刷洗单元包括刷洗容纳箱201、刷洗头202、刷洗喷嘴204及刷洗旋转轮203;刷洗头202水平设置在刷洗单元的中部,刷洗喷嘴204与刷洗头202平行设置在刷洗单元上部的侧壁上;所述刷洗旋转轮203设置在刷洗头202的下部,其包括刷洗主动轮203a及刷洗从动轮203b,刷洗主动轮203a提供旋转动力,刷洗从动轮203b供竖直支撑、监测转速并反馈。
图4是甩干单元结构示意图,甩干单元包括有甩干容纳箱301、升降台302、固定块305、固定爪303、喷水喷嘴304及旋转轴306;旋转轴306上设置有升降台302,旋转轴306由驱动电机307驱动旋转,固定爪303及固定块305设置在升降台302上;升降台302设置在甩干容纳箱301的中部,喷水喷嘴304设置在甩干容纳箱301的侧壁上。
图5是机械手位置示意图,机械手设置在清洗单元、刷洗单元的上部,其垂直方向夹持晶圆在清洗单元及刷洗单元上方做水平横向运动;末端刷洗单元上部的机械手4可水平旋转,使晶圆水平放置在甩干单元上的升降台302。
下面结合本实施例详细说明晶圆清洗的操作情况。在本实施例中,清洗单元的数量为一个,刷洗单元的数量为两个,甩干单元的数量为一个。晶圆清洗的操作步骤如下:
首先,将晶圆沿竖直方向放入清洗旋转轮101中,清洗旋转轮101的端部连接有电机,其为清洗旋转轮101提供旋转动力;在清洗容纳箱102内注入清洗液,位于清洗容纳箱102的底部兆声装置103开始工作,利用超频震动使污染物与晶圆脱离,并由清洗液将污染物带走。
接着,机械手4将晶圆由清洗单元平行移动至刷洗单元,晶圆竖直方向进入刷洗单元,平行设置的两个刷洗头202同时向晶圆方向旋转,晶圆受向下的挤压运动,进入刷洗旋转轮203,刷洗旋转轮203由电机提供旋转动力,带动晶圆在刷洗容纳箱201内匀速、稳定的旋转,同时刷洗容纳箱201上部侧壁上的刷洗喷嘴204内注入清洗液,以提高污染物的去除效率。
接着,机械手4将晶圆由清洗单元平行移动至下一个刷洗单元,晶圆再次沿竖直方向进入下一个刷洗单元;平行设置的两个刷洗头202同时向晶圆方向旋转,晶圆受向下的挤压运动,进入刷洗旋转轮203,刷洗旋转轮203由电机提供旋转动力,带动晶圆在刷洗容纳箱201内匀速、稳定的旋转,同时刷洗容纳箱201上部侧壁上的刷洗喷嘴204内注入清洗液,以提高污染物的去除效率。
最后,机械手4将晶圆由刷洗单元平移至甩干单元,同时,机械手4将夹持的晶圆整体水平旋转,由晶圆由竖直放置变为水平放置。晶圆水平放置在甩干单元的升降台302上,固定块305和固定爪303抓紧晶圆;驱动电机307带动旋转轴306旋转,从而带动设置在旋转轴306上的升降台302自由旋转;同时,设置在甩干容纳箱301侧壁上的喷水喷嘴304自动开启、关闭喷水,喷除晶圆表明的杂物;升降台302继续旋转,直到晶圆表面液体全部去除,然后升降台302的旋转功能关闭,升降台302升起,固定爪303打开,机械手4将干燥好的晶圆平移至指定位置。
本发明提供的一种晶圆清洗设备,清洗单元、刷洗单元采用竖直方向作业,甩干单元采用水平方向作业,有效改善了晶圆清洗效果,同时解决了水印残留的问题,提高了晶圆清洗设备的总体效果。
本发明不局限于上述实施方式,任何人在本发明的启示下都可得出其他各种形式的产品,但不论在其形状或结构上作任何变化,凡是具有与本申请相同或相近似的技术方案,均落在本发明的保护范围之内。

Claims (4)

1.一种晶圆清洗设备,包括清洗单元、刷洗单元、甩干单元及机械手(4),其特征在于,该设备包括至少一个清洗单元、至少两个刷洗单元及至少一个甩干单元,清洗单元、刷洗单元、甩干单元依次排列,各单元之间的距离与机械手(4)的行程配合设置;所述清洗单元上设置有放置晶圆用的清洗旋转轮(101),并且该清洗旋转轮(101)使晶圆竖向设置;所述刷洗单元上设置有放置晶圆用的刷洗旋转轮(203),并且该刷洗旋转轮(203)使晶圆竖向设置;所述甩干单元上设置有放置晶圆用的固定块(305)和固定爪(303),固定块(305)和固定爪(303)安装在升降台(302)上,固定块(305)和固定爪(303)抓紧晶圆,并且使晶圆水平设置;所述甩干单元包括有甩干容纳箱(301)、升降台(302)、固定块(305)、固定爪(303)、喷水喷嘴(304)及旋转轴(306);旋转轴(306)上设置有升降台(302),旋转轴(306)由驱动电机(307)驱动旋转,固定爪(303)及固定块(305)设置在升降台(302)上;升降台(302)设置在甩干容纳箱(301)的中部,喷水喷嘴(304)设置在甩干容纳箱(301)的侧壁上;所述清洗单元包括有清洗容纳箱(102)、兆声装置(103)及清洗旋转轮(101);兆声装置(103)设置在清洗容纳箱(102)的底部;所述清洗旋转轮(101)设置在清洗容纳箱(102)的中部,其包括清洗主动轮(101a)及清洗从动轮(101b),清洗主动轮(101a)提供旋转动力,清洗从动轮(101b)供竖直支撑、监测转速并反馈。
2.根据权利要求1所述的晶圆清洗设备,其特征在于,所述清洗单元的数量不超过三个,所述刷洗单元的数量不超过六个,所述甩干单元的数量不超过三个。
3.根据权利要求1所述的晶圆清洗设备,其特征在于,所述刷洗单元包括有刷洗容纳箱(201)、刷洗头(202)、刷洗喷嘴(204)及刷洗旋转轮(203);刷洗头(202)水平设置在刷洗单元的中部,刷洗喷嘴(204)与刷洗头(202)平行设置在刷洗单元上部的侧壁上;所述刷洗旋转轮(203)设置在刷洗头(202)的下部,其包括刷洗主动轮(203a)及刷洗从动轮(203b),刷洗主动轮(203a)提供旋转动力,刷洗从动轮(203b)供竖直支撑、监测转速并反馈。
4.根据权利要求1所述的晶圆清洗设备,其特征在于,所述机械手(4)设置在清洗单元、刷洗单元的上部,其垂直方向夹持晶圆在清洗单元及刷洗单元上方做水平横向运动;末端刷洗单元上部的机械手(4)可水平旋转,使晶圆水平放置在甩干单元上的升降台(302)。
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